[發明專利]微透鏡陣列檢測系統及微透鏡陣列的檢測方法有效
| 申請號: | 201710693965.7 | 申請日: | 2017-08-14 |
| 公開(公告)號: | CN109387353B | 公開(公告)日: | 2021-07-23 |
| 發明(設計)人: | 杜鵬;周萌;李屹 | 申請(專利權)人: | 深圳光峰科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G01M11/00 | 分類號: | G01M11/00 |
| 代理公司: | 深圳市賽恩倍吉知識產權代理有限公司 44334 | 代理人: | 唐芳芳 |
| 地址: | 518055 廣東省深圳市南山區粵*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 透鏡 陣列 檢測 系統 方法 | ||
本發明提供微透鏡陣列檢測系統及微透鏡陣列的檢測方法,所述微透鏡陣列檢測系統包括:光源裝置、待測微透鏡陣列、光闌及光通量測試裝置,所述光源裝置用于發射光線;待測微透鏡陣列用于接收并透射所述光線;所述光闌包含一具有預設孔徑的通光孔,所述通光孔用于透射待測微透鏡陣列出射的光線;所述光通量測試裝置用于分別測試所述光線通過所述光闌前的第一光通量及通過所述光闌后的第二光通量,所述第一光通量與所述第二光通量用于分析待測微透鏡陣列的質量。所述微透鏡陣列檢測系統及采用所述微透鏡陣列檢測系統的微透鏡陣列的檢測方法操作簡單高效,準確率高。
技術領域
本發明涉及微透鏡陣列技術領域,尤其涉及一種微透鏡陣列檢測系統及微透鏡陣列的檢測方法。
背景技術
本部分旨在為權利要求書中陳述的本發明的具體實施方式提供背景或上下文。此處的描述不因為包括在本部分中就承認是現有技術。
目前微透鏡陣列常用的加工工藝有:光刻、開模壓鑄、機械加工等。其中開模的方式由于成本低的優勢成為首選工藝,在其模具加工的過程中,靠近邊緣的微透鏡單元的尺寸精度會有所下降,進而導致邊緣微透鏡單元的大小及長寬比有誤差,最終導致雙復眼所成的像尺寸及長寬比變化,光學效率降低。而在對復眼器件本身進行良品檢測時,由于微透鏡透鏡單元小、數量多,用測量微透鏡單元尺寸的方法幾乎不能夠高效、準確地實現。
發明內容
為解決現有技術微透鏡陣列的檢測效率低且準確度不高的技術問題,本發明提供一種可以有效提高檢測效率及準確度的微透鏡陣列檢測系統,本發光還提供一種微透鏡陣列的檢測方法。
一種微透鏡陣列檢測系統,包括:
光源裝置,用于發射光線;
待測微透鏡陣列,用于接收并透射所述光線;
光闌,包含一具有預設孔徑的通光孔,所述通光孔用于透射待測微透鏡陣列出射的光線;
光通量測試裝置用于分別測試所述光線通過所述光闌前的第一光通量及通過所述光闌后的第二光通量,所述第一光通量與所述第二光通量用于分析待測微透鏡陣列的質量。
進一步地,所述微透鏡陣列檢測系統還包括分析裝置,所述分析裝置用于根據所述第二光通量和所述第一光通量的比值分析待測微透鏡陣列的質量。
進一步地,所述微透鏡陣列檢測系統還包括中繼裝置,所述中繼裝置設置于待測微透鏡陣列與所述光闌之間,用于將待測微透鏡陣列出射的光線會聚至所述光闌的通光孔。
進一步地,所述光源裝置包括激光器及擴束裝置,所述擴束裝置用于增大所述激光器發出的激光光束的發散角,使得所述光源裝置出射的光線能夠照射待測微透鏡陣列通光口徑上的更大的范圍。
進一步地,所述擴束裝置為散射片。
進一步地,所述擴束裝置與待測微透鏡陣列之間的距離L滿足:
L=H/2tan(θ)
使得所述光源裝置發出的光線照射至待測微透鏡陣列上的光斑直徑與待測微透鏡陣列的通光口徑H的差值落入第一預設誤差范圍內,
其中,
θ≤arcsin(1/2F#)
F#=F/d
θ為所述光源裝置發出光線的發散角,F為待測微透鏡陣列的焦距,d為待測微透鏡陣列上每個微透鏡的直徑。
進一步地,所述擴束裝置包括一凹透鏡與一凸透鏡,所述激光光束依次穿過所述凹透鏡與所述凸透鏡得到所述光線。
進一步地,所述凹透鏡的焦距f1與所述凸透鏡的焦距f2滿足:
f1/f2=h/H
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