[發明專利]蒸鍍坩堝及蒸鍍系統

在審

• 申請號: 201710692335.8
• 申請日: 2017-08-14
• 公開（公告）號: CN107686968A
• 公開（公告）日: 2018-02-13
• 發明（設計）人: 徐超
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/12
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙)44300
• 代理人: 黃威

1.一種蒸鍍坩堝，其特征在于，包括：坩堝本體和纏繞在所述坩堝本體四周的至少兩個加熱裝置；

所述坩堝本體包括至少兩個筒狀結構，每個所述筒狀結構具有不同的直徑，所述坩堝本體用于盛放蒸鍍材料；

每個所述筒狀結構對應設置一個所述加熱裝置，所述加熱裝置對所述對應筒狀結構中的蒸鍍材料進行加熱。

2.根據權利要求1所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述蒸鍍坩堝還包括至少兩個蒸鍍篩片，每一個所述蒸鍍篩片與一個所述筒狀結構相對應，所述蒸鍍篩片設置于其對應筒狀結構的頂端，用于將所述坩堝本體內蒸鍍材料的氣流變的更加均勻。

3.根據權利要求2所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述蒸鍍篩片與所述坩堝本體均采用鈦制備。

4.根據權利要求2所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，每一個所述筒狀結構為一個加熱區域，所述坩堝本體包括三個加熱區域：第一加熱區域、第二加熱區域、第三加熱區域，所述第一加熱區域為所述坩堝本體底部區域，所述第二加熱區域為所述坩堝本體中部區域，所述第三加熱區域為所述坩堝本體上部區域，所述第一加熱區域的直徑＜第二加熱區域的直徑＜第三加熱區域的直徑。

5.根據權利要求4所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述第一加熱區域的高度占所述坩堝本體高度的10％，所述第三加熱區域的高度占所述坩堝本體高度的15％。

6.根據權利要求4所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述蒸鍍篩片包括第一蒸鍍篩片、第二蒸鍍篩片和第三蒸鍍篩片，所述第一蒸鍍篩片與所述第一加熱區域相對應，第二蒸鍍篩片與所述第二加熱區域相對應，所述第三蒸鍍篩片與所述第三加熱區域相對應，所述第一蒸鍍篩片的面積＜所述第二蒸鍍篩片的面積＜所述第三蒸鍍篩片的面積。

7.根據權利要求6所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述第一蒸鍍篩片的圓孔直徑＞所述第二蒸鍍篩片的圓孔直徑＞所述第三蒸鍍篩片的圓孔直徑。

8.根據權利要求4所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述加熱裝置包括延縱向方向設置的第一加熱裝置、第二加熱裝置和第三加熱裝置，每個所述加熱裝置設置在其對應加熱區域的四周，能夠實現所述第一加熱區域、第二加熱區域、第三加熱區域的分開均勻加熱。

9.根據權利要求1至8所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述加熱裝置還包括溫度測控部分，用以分別測控所述至少兩個加熱區域的加熱溫度。

10.一種蒸鍍系統，所述蒸鍍系統包括蒸鍍坩堝，其特征在于，所述蒸鍍坩堝為權利要求1至9任一所述的蒸鍍坩堝。