[發(fā)明專利]一種鈦酸鑭薄膜的制備方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710687892.0
• 申請日: 2017-08-11
• 公開（公告）號: CN107400880A
• 公開（公告）日: 2017-11-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 不公告發(fā)明人
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州南爾材料科技有限公司
• 主分類號: C23C18/12
• 分類號: C23C18/12
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種鈦酸鑭薄膜的制備方法，該方法包括如下步驟：

（1）對聚酯基底進(jìn)行等離子體表面處理

將柔性聚酯基底放入含有一定洗潔劑的去離子水中，在去離子水中超聲10-15min；然后，用柔軟干凈的毛刷逐一對柔性聚酯基底的正反面進(jìn)行洗刷以去除基底表面的污垢和油污，之后，用去離子水反復(fù)沖洗基底，直至基底無泡沫為止；接著，將柔性聚酯放入乙醇中超聲10-15min，以去除基底表面的有機(jī)物，之后，用去離子水反復(fù)沖洗基底4-6次；接著，將柔性聚酯基底進(jìn)行去離子水超聲25-30mins，然后，將容器中超聲后的去離子水倒出，加入新的去離子水；最后，將潔凈的柔性聚酯從去離子水中逐一取出平鋪在潔凈的大號培養(yǎng)皿上，一起放進(jìn)溫度為55-60℃的潔凈烘箱內(nèi)進(jìn)行烘烤24-30h；

將清洗、干燥后的柔性聚酯基底放入磁控濺射機(jī)的腔體內(nèi)，關(guān)閉磁控濺射機(jī)的所有閥門、窗口、所有靶材正下方的濺射擋板，對腔體進(jìn)行抽真空，至3×10^-4-5×10^-4pa；

將反濺射擋板旋轉(zhuǎn)至柔性聚酯基底的正上方，通入氬氣和氧氣，調(diào)節(jié)聚酯基底與反濺射擋板的間距，設(shè)定相應(yīng)的氬氧比例、總體氣體流量、工作氣壓、濺射功率和等離子體處理時(shí)間，對柔性聚酯基底表面進(jìn)行反濺射等離子體處理；

（2）以乙二醇甲醚為溶劑，以硝酸鑭、醋酸鈦和硝酸銀為溶質(zhì)配制綠色透明溶液，其中La³⁺、Ti²⁺和Ag⁺的摩爾比為1:1:0.05-0.1，La³⁺的摩爾濃度為0.1mol/L；將配制的綠色透明溶液滴到經(jīng)等離子處理后的聚酯基底上進(jìn)行旋涂鍍膜，先以500-800轉(zhuǎn)/分的速率旋涂5-10秒，再以2500-3500轉(zhuǎn)/分的速率旋涂35-45秒得到前驅(qū)體濕膜；將得到的前驅(qū)體濕膜放入馬弗爐中于350-380℃退火處理1-2分鐘；重復(fù)多次涂鍍和退火制得所需厚度的鈦酸鑭復(fù)合導(dǎo)電薄膜材料，其中最后一次的退火時(shí)間延長為10-15分鐘。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在步驟（1）中，等離子處理的工藝為：聚酯基底與反濺射擋板的間距為35-40mm；氬氧比例為5:1-6:1；氧氣和氬氣純度均為99.99％；總氣體流量為20-25sccm；工作氣壓為0.4-0.6pa；濺射功率為25-45W；等離子體處理時(shí)間為70-90s。