[發明專利]柔性薄膜電池及其制備方法在審
| 申請號: | 201710684582.3 | 申請日: | 2017-08-11 |
| 公開(公告)號: | CN107994079A | 公開(公告)日: | 2018-05-04 |
| 發明(設計)人: | 陳騰 | 申請(專利權)人: | 北京漢能光伏投資有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0216 | 分類號: | H01L31/0216;H01L31/054;H01L31/0236;H01L31/0392;H01L31/18 |
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| 地址: | 100107 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 柔性 薄膜 電池 及其 制備 方法 | ||
1.一種柔性薄膜電池,該柔性薄膜電池包括柔性襯底和依次設置在所述柔性襯底上的背電極層、光吸收層、緩沖層、窗口層、導電層和上電極層,其特征在于,所述柔性襯底、所述背電極層、所述光吸收層、所述緩沖層、所述窗口層和所述導電層均具有陷光結構。
2.根據權利要求1所述的柔性薄膜電池,其特征在于,所述陷光結構包括多個凸起和/或凹坑,所述多個凸起和/或凹坑的形狀各自獨立地為圓錐體、圓臺、棱錐、棱臺、圓柱體、半球體、橢球體或不規則形狀。
3.根據權利要求2所述的柔性薄膜電池,其特征在于,位于所述柔性襯底上的所述多個凸起和/或凹坑的高度為3-15μm;和/或
位于所述柔性襯底上的所述多個凸起和/或凹坑的任意面與水平面所成銳角為15°-90°;和/或
位于所述柔性襯底上的所述多個凸起和/或凹坑的寬度為1-50μm;和/或
位于所述柔性襯底上的所述多個凸起的間隔為0-5μm;和/或
位于所述柔性襯底上的所述多個凹坑的間隔為0-5μm。
4.根據權利要求3所述的柔性薄膜電池,其特征在于,位于所述柔性襯底上的所述多個凸起和/或凹坑的高度為3-8μm;和/或
位于所述柔性襯底上的所述多個凸起和/或凹坑的任意面與水平面所成銳角為60°-90°;和/或
位于所述柔性襯底上的所述多個凸起和/或凹坑的寬度為1-10μm;和/或
位于所述柔性襯底上的所述多個凸起的間隔為1-3μm;和/或
位于所述柔性襯底上的所述多個凹坑的間隔為1-3μm。
5.根據權利要求1-4中任意一項所述的柔性薄膜電池,其特征在于,所述柔性薄膜電池為柔性銅銦鎵硒薄膜電池或柔性碲化鎘薄膜電池,在所述柔性薄膜電池中,所述柔性襯底的厚度為30-100μm;和/或
所述背電極層的厚度為800-1200nm;和/或
所述光吸收層的厚度為1-2μm;和/或
所述緩沖層的厚度為30-100nm;和/或
所述窗口層的厚度為50-80nm;和/或
所述導電層的厚度為300-800nm;和/或
所述上電極層的厚度為3-6μm。
6.根據權利要求1-4中任意一項所述的柔性薄膜電池,其特征在于,所述柔性襯底為不銹鋼襯底、鈦襯底、鉬襯底、銅襯底或聚酰亞胺襯底。
7.根據權利要求6所述的柔性薄膜電池,其特征在于,所述柔性襯底為不銹鋼襯底或銅襯底,且在所述柔性襯底和所述背電極層之間還設置有鈦阻擋層,且所述鈦阻擋層具有陷光結構,所述鈦阻擋層的厚度為100-200nm。
8.權利要求1-7中任意一項所述的柔性薄膜電池的制備方法,其特征在于,該方法包括:
(1)在柔性襯底上制備陷光結構;
(2)在步驟(1)得到的柔性襯底上依次形成背電極層、光吸收層、緩沖層、窗口層、導電層和上電極層。
9.根據權利要求8所述的方法,其特征在于,所述柔性襯底為不銹鋼襯底或銅襯底,該方法還包括:在形成所述背電極層之前,先在所述柔性襯底上形成鈦阻擋層。
10.根據權利要求8所述的方法,其特征在于,所述柔性薄膜電池為柔性銅銦鎵硒薄膜電池,該方法還包括:在形成所述光吸收層之前,先在所述背電極層上形成氟化鈉膜層或鉬酸鈉膜層,所述氟化鈉膜層或所述鉬酸鈉膜層的厚度為
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





