[發(fā)明專利]一種電子束提純設備的分布式改良控制方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710679388.6
• 申請日: 2017-08-10
• 公開（公告）號: CN107608316B
• 公開（公告）日: 2019-07-30
• 發(fā)明（設計）人: 張林;楊守斌;于登昌;婁杰;王耀輝
• 申請（專利權）人: 青島薩納斯新能源科技有限公司
• 主分類號: G05B19/418
• 分類號: G05B19/418;C01B33/037
• 代理公司: 青島華慧澤專利代理事務所(普通合伙) 37247
• 代理人: 劉娜;李新欣

1.一種電子束提純設備的分布式改良控制方法，其特征在于，包括如下步驟：

(1)分布式部署：根據(jù)設備的情況，進行分布式網(wǎng)絡部署，每臺電子束提純設備使用一臺控制機作為終端控制機，終端控制機和電子束提純設備上的PLC工控系統(tǒng)對接，同時所有的終端控制機都通過高速以太網(wǎng)絡連接到中央控制中心；

(2)基本參數(shù)拾取：根據(jù)電子束提純設備的特點，采取硅料的含磷比例為基本輸入指標，所有的環(huán)控參數(shù)為基本輔助參數(shù)，電子束路徑為核心參數(shù)；

(3)電子束路徑規(guī)劃：電子束按照橫向、縱向、螺旋線、環(huán)形掃描的方式，在電子束提純設備中進行掃描，同時建立掃描模型和基本參數(shù)的閉環(huán)關系，并存儲下來；

(4)分布式算法控制：所有的電子束提純設備向中央控制中心發(fā)送硅料的基本參數(shù)信息,中央控制中心根據(jù)這些參數(shù)，發(fā)送煉制方案，同時在煉制過程中，對硅料進行實時監(jiān)控和工作參數(shù)調(diào)整。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種電子束提純設備的分布式改良控制方法，其特征在于，所述步驟(3)中，當分布式系統(tǒng)中存在N個設備的時候，按照整體的提純時間T，掃描區(qū)塊分為W＝T/N，按照橫向、縱向、螺旋線、環(huán)形掃描方式分別進行分布，然后進行提純作業(yè)，最后分別測量N個設備中所得成品的雜質(zhì)含量，按照從低到高排序，在下一個產(chǎn)程中，將雜質(zhì)最高的掃描方式去掉，繼續(xù)填充掃描區(qū)塊W，然后進行提純生產(chǎn)；如此往復，直到產(chǎn)生一個比較穩(wěn)定的針對該批原料的掃描參數(shù)清單，該清單將用于下個批次中，各種雜質(zhì)含量最接近的原料的生產(chǎn)過程。