[發明專利]液浸構件、曝光裝置、液浸曝光裝置、液浸曝光方法及元件制造方法

有效

• 申請號: 201710675381.7
• 申請日: 2013-07-16
• 公開（公告）號: CN107422612B
• 公開（公告）日: 2020-05-26
• 發明（設計）人: 佐藤真路
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 李景輝

本發明的液浸構件(5)用于液浸曝光裝置(EX)，在能于光學構件(13)的下方移動的物體(P)上形成液浸空間(LS)。液浸構件具備配置在光學構件周圍的至少一部分的第1構件(21)、與配置在曝光用光(EL)的光路(K)周圍的至少一部分而能相對第1構件移動的第2構件(22)。第2構件具有通過間隙與第1構件的第1下面(23)相對的第2上面(25)、與物體可相對的第2下面(26)、以及配置在第2下面周圍的至少一部分的流體回收部(27)。

本申請是分案申請，原案的申請號為201380038451.8，申請日為2013年07月 16日，發明名稱為“液浸構件及曝光裝置”。

背景技術

本發明是關于液浸構件、曝光裝置、曝光方法、元件制造方法、程序及記錄媒體。

本申請案主張2012年7月20日申請的美國專利暫時申請61/674,078及2013 年3月15日申請的美國專利暫時申請61/790,328的優先權，并將其內容援用于此。

微影制程所使用的曝光裝置中，已知例如美國專利第7864292號所揭示的通過液體以曝光用光使基板曝光的液浸曝光裝置。

發明內容

液浸曝光裝置中，例如當液體從既定空間流出、或殘留在基板等物體上時，即有可能發生曝光不良。其結果，有可能產生不良元件。

本發明態樣的目的，在提供一種能抑制曝光不良的發生的液浸構件、曝光裝置、及曝光方法。又，本發明態樣的另一目的，在提供一種能抑制不良元件的產生的元件制造方法、程序、及記錄媒體。

本發明第1態樣提供一種液浸構件，是用于通過在光學構件的射出面與基板之間的液體以曝光用光使該基板曝光的液浸曝光裝置，在能于該光學構件下方移動的物體上形成液浸空間，具備：第1構件，配置在該光學構件周圍的至少一部分，具有第1 下面：以及第2構件，于該第1構件的下方，配置在該曝光用光的光路周圍的至少一部分，能相對該第1構件移動；該第2構件，具有與該第1構件的該第1下面通過間隙相對的第2上面、該物體可相對的第2下面、以及配置在該第2下面周圍至少一部分的流體回收部。

本發明第2態樣提供一種液浸構件，是用于通過光學構件的射出面與基板間的液體以曝光用光使該基板曝光的液浸曝光裝置，在能于該光學構件下方移動的物體上形成液浸空間，具備：第1構件，配置在該光學構件周圍的至少一部分，具有第1下面；液體回收部；以及第2構件，配置在該曝光用光的光路周圍的至少一部分，能相對該第1構件移動；該第2構件具有通過間隙與該第1構件的該第1下面相對的第2上面、該物體相對的第2下面、以及配置在該第2下面周圍至少一部分的流體回收部；該液體回收部能回收來自該第1下面與該第2上面間的第1空間的液體；該流體回收部能回收來自該第2下面與該物體間的第2空間的流體。

本發明第3態樣的曝光裝置，是通過液體以曝光用光使基板曝光，具備第1態樣的液浸構件、或第2態樣的液浸構件。

本發明第4態樣提供一種元件制造方法，其包含：使用第3態樣的曝光裝置使基板曝光的動作、以及使曝光后的基板顯影的動作。

本發明第5態樣提供一種曝光方法，是通過光學構件的射出面與基板間的液體以曝光用光使該基板曝光，包含：使用液浸構件在能于該光學構件下方移動的該基板上形成該液體的液浸空間的動作，該液浸構件包含配置在該光學構件周圍至少一部分的第1構件以及于該第1構件的下方配置在該曝光用光的光路周圍至少一部分、包含通過間隙與該第1構件的第1下面相對的第2上面、該基板可相對的第2下面、配置在該第2下面周圍至少一部分的流體回收部的第2構件；通過該液浸空間的該液體以從該射出面射出的該曝光用光使該基板曝光的動作；以及于該基板的曝光的至少一部分中，相對該第1構件移動該第2構件的動作。

本發明第6態樣提供一種元件制造方法，其包含使用第4態樣的曝光方法使基板曝光的動作、以及使曝光后的基板顯影的動作。