[發(fā)明專利]液浸構(gòu)件、曝光裝置、液浸曝光裝置、液浸曝光方法及元件制造方法

有效

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• 申請日: 2013-07-16
• 公開（公告）號: CN107422612B
• 公開（公告）日: 2020-05-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 佐藤真路
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 李景輝

1.一種液浸構(gòu)件，用于通過在光學(xué)構(gòu)件的射出面與基板之間的液體以曝光用光使該基板曝光的液浸曝光裝置，在能于該光學(xué)構(gòu)件下方移動的物體上形成液浸空間，具備：

第1構(gòu)件，具有第1下面，配置在該光學(xué)構(gòu)件周圍的至少一部分；以及

第2構(gòu)件，具有與該第1下面通過間隙相對的第2上面以及該物體能相對的第2下面，配置在該曝光用光的光路周圍的至少一部分並能相對該第1構(gòu)件移動，

該第2構(gòu)件具有能回收該第1構(gòu)件的該第1下面與該第2構(gòu)件的該第2上面間的第1空間的液體的第1液體回收部，和配置于該第2下面周圍的至少一部分且能自該第2構(gòu)件與該物體之間的第2空間回收液體的第2液體回收部，

該第2構(gòu)件，具有與相對該光路朝向外側(cè)的該第1構(gòu)件的外側(cè)面隔著間隙相對的內(nèi)側(cè)面。

2.如權(quán)利要求1的液浸構(gòu)件，其具備連接于該第2構(gòu)件的支承構(gòu)件；

根據(jù)通過驅(qū)動裝置使該支承構(gòu)件移動，該第2構(gòu)件即移動。

3.如權(quán)利要求1的液浸構(gòu)件，其中，于該內(nèi)側(cè)面的外側(cè)，配置有供自該第2液體回收部回收的流體流動的該第2構(gòu)件的內(nèi)部流路。

4.如權(quán)利要求1的液浸構(gòu)件，其中，該物體能相對于該第2液體回收部。

5.如權(quán)利要求4的液浸構(gòu)件，其中，該第2構(gòu)件能在與該光學(xué)構(gòu)件的光軸實(shí)質(zhì)垂直的平面內(nèi)移動。

6.如權(quán)利要求5的液浸構(gòu)件，其具備能供應(yīng)用以形成該液浸空間的該液體的供應(yīng)部。

7.如權(quán)利要求6的液浸構(gòu)件，其中，該供應(yīng)部配置于該第1構(gòu)件。

8.如權(quán)利要求7的液浸構(gòu)件，其中，來自該供應(yīng)部的該液體的至少一部分被供應(yīng)至該第1下面與該第2上面之間的第1空間，并通過該第1液體回收部回收。

9.一種曝光裝置，通過液體以曝光用光使基板曝光，其具備權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)的液浸構(gòu)件。

10.如權(quán)利要求9的曝光裝置，其中，該第2構(gòu)件能以該第2構(gòu)件和該物體的相對速度變小的方式移動。

11.如權(quán)利要求9的曝光裝置，其中，該第2構(gòu)件能以該第2構(gòu)件和該物體的相對速度，較該第1構(gòu)件與該物體的相對速度小的方式移動。

12.如權(quán)利要求11的曝光裝置，其中，在曝光包含第1照射區(qū)域與第2照射區(qū)域的該基板的多個(gè)照射區(qū)域期間，該液浸空間覆蓋該基板的表面的一部分，該第1照射區(qū)域是在以第1掃描方向移動該基板時(shí)被曝光，

在該第1照射區(qū)域后，該第2照射區(qū)域是在以第2掃描方向移動該基板時(shí)被曝光，

在完成該第1照射區(qū)域的曝光后且在開始該第2照射區(qū)域的曝光前的步進(jìn)周期期間，該基板以包含與該第1掃描方向交叉的成分的步進(jìn)方向來移動，

在該步進(jìn)周期期間，該第2構(gòu)件以包含與該第1掃描方向交叉的該成分的移動方向來移動，使得該第2構(gòu)件和該基板間的相對速度變成比該第1構(gòu)件和該基板間的相對速度還小，且該基板開始以該步進(jìn)方向移動的時(shí)間是不同于該第2構(gòu)件開始以該移動方向移動的時(shí)間。