[發(fā)明專利]接合體制造裝置、MEMS元件和液體噴射頭的制造方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710675291.8 | 申請(qǐng)日: | 2017-08-09 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107757125A | 公開(公告)日: | 2018-03-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 土屋寬之 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 精工愛普生株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | B41J2/14 | 分類號(hào): | B41J2/14;B41J2/16;G01B11/30 |
| 代理公司: | 北京金信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11225 | 代理人: | 蘇萌萌,許梅鈺 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 接合 體制 裝置 mems 元件 液體 噴射 制造 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種接合體的制造方法、MEMS元件的制造方法、液體噴射頭的制造方法、以及接合體的制造裝置,尤其涉及一種通過粘合劑而使多個(gè)結(jié)構(gòu)體接合而成的接合體的制造方法、MEMS元件的制造方法、液體噴射頭的制造方法、以及接合體的制造裝置。
背景技術(shù)
液體噴射裝置為,具備液體噴射頭并且從該噴射頭噴射(噴出)各種液體的裝置。作為該液體噴射裝置,例如有噴墨式打印機(jī)、噴墨式繪圖機(jī)等圖像記錄裝置,但是,最近還發(fā)揮能夠使極少量的液體準(zhǔn)確地噴落在預(yù)定位置處這一優(yōu)點(diǎn)而被應(yīng)用于各種制造裝置中。例如,應(yīng)用于制造液晶顯示器等濾色器的顯示器制造裝置、有機(jī)EL(Electro Luminescence,電致發(fā)光)顯示器、形成FED(面發(fā)光顯示器)等的電極的電極形成裝置、制造生物芯片(生物化學(xué)元件)的芯片制造裝置中。
作為被應(yīng)用于液體噴射頭中的MEMS元件,存在具有通過粘合劑而使結(jié)構(gòu)體(基板)在多個(gè)被層壓的狀態(tài)下被接合的接合體的MEMS元件。在構(gòu)成該接合體的各個(gè)結(jié)構(gòu)體中設(shè)置有與噴嘴連通的液體流道、用于使液體流道內(nèi)的液體產(chǎn)生壓力變動(dòng)而從噴嘴噴射出的可動(dòng)區(qū)域等。由于由這種接合體構(gòu)成的MEMS元件具有微細(xì)的結(jié)構(gòu),因而涂覆粘合劑的區(qū)域也成為非常狹窄的范圍。因此,一直以來,關(guān)于具有這種微細(xì)的結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)體彼此的接合,而采用在薄膜上涂覆了粘合劑之后,將粘合劑轉(zhuǎn)印到結(jié)構(gòu)體上的制造方法(例如,參照專利文獻(xiàn)1)。
但是,存在如下課題,即,薄膜上涂覆粘合劑之際,有時(shí)會(huì)因涂覆不均等而使膜厚不均一,在這種情況下,結(jié)構(gòu)體彼此之間的粘合劑中會(huì)混入有氣泡而產(chǎn)生粘合不良。
專利文獻(xiàn)1:日本特開2015-160385號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于這種情況而完成的發(fā)明,其目的在于,提供一種通過對(duì)由粘合劑而將多個(gè)結(jié)構(gòu)體接合而成為接合體的結(jié)構(gòu)中粘合劑的涂覆不均進(jìn)行更切實(shí)地檢測(cè),從而能夠?qū)⒔雍象w中的粘合不良防范于未然的接合體的制造方法、MEMS元件的制造方法、液體噴射頭的制造方法、以及接合體的制造裝置。
上述目的通過下述的本發(fā)明來達(dá)成。
本發(fā)明的接合體的制造方法的特征在于,為多個(gè)結(jié)構(gòu)體在被層壓的狀態(tài)下通過粘合劑而相互接合成的接合體的制造方法,所述接合體的制造方法包括:將粘合劑層形成在介質(zhì)的一面上的粘合劑層形成工序;對(duì)在所述粘合劑層形成工序中所形成的所述粘合劑層的粘度進(jìn)行調(diào)節(jié)的粘度調(diào)節(jié)工序;將在所述粘度調(diào)節(jié)工序中被調(diào)節(jié)了粘度的所述粘合劑層轉(zhuǎn)印到所述結(jié)構(gòu)體上的轉(zhuǎn)印工序,在所述轉(zhuǎn)印工序之前的階段中,實(shí)施對(duì)所述介質(zhì)上的所述粘合劑層的表面粗糙度進(jìn)行測(cè)定的表面粗糙度測(cè)定工序。
根據(jù)上述方法,通過在轉(zhuǎn)印工序之前的階段中對(duì)介質(zhì)上的粘合劑層的表面粗糙度進(jìn)行測(cè)定,從而能夠接合體中產(chǎn)生粘合不良防范于未然。
在上述方法中,優(yōu)選為,在所述表面粗糙度測(cè)定工序中,以非接觸的方式對(duì)形成在所述介質(zhì)上的所述粘合劑層的所述表面粗糙度進(jìn)行測(cè)定。
根據(jù)該方法,由于在生產(chǎn)線中以非接觸的方式對(duì)粘合劑層實(shí)施粘合劑層的表面粗糙度的測(cè)定,因此,能夠精度良好地實(shí)施表面粗糙度的測(cè)定,而不會(huì)對(duì)粘合劑層造成損傷。因此,接合體的接合可靠性得到提高。此外,制造效率得到提高。
在上述方法中,優(yōu)選為,在所述轉(zhuǎn)印工序中,當(dāng)在所述表面粗糙度測(cè)定工序中所述粘合劑層的所述表面粗糙度小于預(yù)先確定的預(yù)定值的情況下實(shí)施轉(zhuǎn)印。
根據(jù)該方法,能夠在生產(chǎn)線中以非接觸的方式且精度良好地實(shí)施表面粗糙度的測(cè)定。因此,接合體的接合可靠性得到提高。此外,制造效率得到提高。
在上述方法中,優(yōu)選為,在所述轉(zhuǎn)印工序中,當(dāng)在所述表面粗糙度測(cè)定工序中朝向所述粘合劑層照射光時(shí)的反射光的受光強(qiáng)度大于預(yù)先確定的預(yù)定值的情況下實(shí)施轉(zhuǎn)印。
根據(jù)該方法,能夠在生產(chǎn)線中以非接觸的方式且精度良好地實(shí)施表面粗糙度的測(cè)定。因此,接合體的接合可靠性得到提高。此外,制造效率得到提高。
在上述方法中,優(yōu)選為,所述表面粗糙度測(cè)定工序在所述粘合劑層形成工序與所述粘度調(diào)節(jié)工序之間實(shí)施。
如此,通過在粘合劑層的粘度被調(diào)節(jié)之前對(duì)表面粗糙度進(jìn)行測(cè)定,從而在有可能產(chǎn)生粘合不良的情況下,容易實(shí)施粘合劑層的不均的改善。
此外,在上述方法中,所述表面粗糙度測(cè)定工序能夠在所述粘度調(diào)節(jié)工序與所述轉(zhuǎn)印工序之間實(shí)施。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于精工愛普生株式會(huì)社,未經(jīng)精工愛普生株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710675291.8/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:圖像形成設(shè)備
- 下一篇:記錄頭和噴墨記錄設(shè)備
- 同類專利
- 專利分類
B41J 打字機(jī);選擇性印刷機(jī)構(gòu),即不用印版的印刷機(jī)構(gòu);排版錯(cuò)誤的修正
B41J2-00 以打印或標(biāo)記工藝為特征而設(shè)計(jì)的打字機(jī)或選擇性印刷機(jī)構(gòu)
B41J2-005 .特征在于使液體或粉粒有選擇地與印刷材料接觸
B41J2-22 .特征在于在印刷材料或轉(zhuǎn)印材料上有選擇的施加沖擊或壓力
B41J2-315 .特征在于向熱敏打印或轉(zhuǎn)印材料有選擇地加熱
B41J2-385 .特征在于選擇性地為打印或轉(zhuǎn)印材料提供選擇電流或電磁
B41J2-435 .特征在于有選擇地向印刷材料或轉(zhuǎn)印材料提供照射





