[發明專利]一種基板防污罩及基板磨邊設備

有效

• 申請號: 201710662883.6
• 申請日: 2017-08-04
• 公開（公告）號: CN107322406B
• 公開（公告）日: 2019-11-19
• 發明（設計）人: 徐天宇;張燕斌;劉鋒;李海博;宋海波;唐偉鑫;高娜;崔昌燮;池昶恂;李京洙;張溶源
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: B24B9/10
• 分類號: B24B9/10;B24B55/06;B08B15/02;B08B3/02;B08B11/04
• 代理公司: 11291 北京同達信恒知識產權代理有限公司
• 代理人: 郭潤湘<國際申請>=<國際公布>=<進入

1.一種基板防污罩，用于基板磨邊設備，其特征在于，包括：

罩體，所述罩體具有防護側，所述防護側在所述基板磨邊設備的工作過程中與待研磨的基板相對設置；

水幕裝置，在所述基板磨邊設備的工作過程中，所述水幕裝置用于在所述罩體的防護側上形成流向所述基板的第一水幕，所述第一水幕所在的平面與所述基板之間在遠離所述待研磨邊的一側的夾角小于90°，且在所述基板的待研磨邊方向上，所述第一水幕的長度大于或等于所述基板的長度；

沖洗裝置，在所述基板磨邊設備的工作過程中，所述沖洗裝置用于在所述罩體的防護側向所述基板排放清洗液體；其中，

在所述基板磨邊設備的工作過程中，所述水幕裝置還用于在所述罩體的防護側上形成流向所述基板的第二水幕，所述第二水幕位于所述第一水幕遠離所述待研磨邊的一側，所述第二水幕所在的平面與所述基板之間在遠離所述待研磨邊的一側的夾角小于90°，且在所述基板的待研磨邊方向上，所述第二水幕的長度大于或等于所述基板的長度；

所述水幕裝置包括用于流出所述第一水幕的第一縫隙、以及用于流出所述第二水幕的第二縫隙；

所述第一縫隙和所述第二縫隙平行且均靠近于所述罩體的一個邊，所述第一縫隙與所述邊的距離小于或等于30mm，所述第二縫隙與所述邊的距離小于或等于50mm。

2.根據權利要求1所述的基板防污罩，其特征在于，所述第二水幕所在的平面與所述基板之間在遠離所述待研磨邊的一側的夾角小于所述第一水幕所在的平面與所述基板之間在遠離所述待研磨邊的一側的夾角。

3.根據權利要求2所述的基板防污罩，其特征在于，所述第一水幕所在的平面與所述基板之間在遠離所述待研磨邊的一側的夾角小于或等于45°，所述第二水幕所在的平面與所述基板之間在遠離所述待研磨邊的一側的夾角小于45度。

4.根據權利要求1所述的基板防污罩，其特征在于，所述第一水幕和所述第二水幕的水壓大于等于0.6MPa且小于等于1.5MPa。

5.根據權利要求1-4任一項所述的基板防污罩，其特征在于，所述沖洗裝置包括設置于所述防護側的至少一個導水槽，每個導水槽為回轉體結構，且沿由每個導水槽的底面到開口的方向上，每個導水槽的直徑逐漸增大；

每個導水槽的底面設有用于排出清洗液體的排水孔。

6.根據權利要求5所述的基板防污罩，其特征在于，每個導水槽為圓臺結構。

7.根據權利要求5所述的基板防污罩，其特征在于，每個導水槽底面與側壁之間平滑過渡、且側壁與開口所在平面之間平滑過渡。

8.根據權利要求5所述的基板防污罩，其特征在于，每個導水槽的開口的直徑小于或等于150mm，每個排水孔的直徑小于或等于30mm。

9.根據權利要求5所述的基板防污罩，其特征在于，所述沖洗裝置包括多個在所述防護側陣列分布的導水槽。

10.根據權利要求5所述的基板防污罩，其特征在于，還包括與所述罩體連接的傳動機構，所述傳動機構用于帶動所述罩體進行平移，和/或，回轉運動。

11.一種基板磨邊設備，其特征在于，包括如權利要求1-10任一項所述的防污罩。