[發明專利]用于基材支架的適配裝置

在審

• 申請號: 201710658426.X
• 申請日: 2017-08-04
• 公開（公告）號: CN107686979A
• 公開（公告）日: 2018-02-13
• 發明（設計）人: 趙軍;E·安佐格
• 申請（專利權）人: 邁爾博爾格(德國)股份公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C16/458;H01L31/18;H01L21/687
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所11038
• 代理人: 張立國

技術領域

本發明涉及一種用于基材支架的適配裝置以及適配裝置的應用，其中，所述基材支架包括由多個分別具有至少一個基材貼靠面的板條限界的開口。通過基材支架的開口，基材對于表面處理來說是可接近的。同類型的適配裝置特別是應用在所有表面處理方法中，在所述表面處理方法中基材貼靠在基材支架上在設備中被處理。

背景技術

在制造可在例如生產太陽能電池時用作基材的單晶體硅晶片時，如果從圓柱形原材料鋸割具有多邊形、尤其是矩形基面的晶片，則由于下腳料而產生巨大的材料成本。一種為此減少該下腳料的方案在于，選擇具有多于四角的其他幾何輪廓作為晶片的基面。具有其他基面幾何的晶片在此應在與具有矩形基面的晶片相同的設備中接受處理。

在保持基材以便進行表面處理時一方面存在借助基材支架這樣保持基材使得能夠在對不要處理的基材表面沒有干擾(Umgriff)的情況下進行單側涂層、清潔或其他方式的處理。另一方面，對于處理不可接近的遮擋面積必須盡可能小。

由現有技術已知不同的方案用于保持具有不同基面幾何的基材。在DE 10 2010 052 689 A1中公開了一種框架形式的基材保持架，在該基材保持架中一些在形狀和尺寸方面適配于基材的多邊形框架能裝入一個支架中。在此，基材在其整個周邊上貼靠在框架的傾斜的邊面上。該解決方案的缺點是高的材料用量，因為整個框架的形狀和尺寸須與要處理的基材相協調。

在DE 103 55 679 A1中描述了一種基材支架適配器系統，該基材支架適配器系統包括環形的基體支架作為適配器，在該適配器的外壁上安裝有用來嵌接用于基材支架的保持或夾緊設施的裝置，并且該適配器的內部空間可以具有適配于不同基材的形狀和尺寸的保持裝置。即使在該解決方案中也存在如下缺點，即，整個保持裝置須與要處理的基材相協調。

發明內容

因此，從現有技術出發，本發明的目的在于，創造一種簡單且成本低廉的用于基材保持架的適配裝置，通過該適配裝置能用小的材料用量為不同形狀和尺寸的基材使用同樣的基材保持架，而在處理基材時沒有干擾。

所述目的通過一種用于基材支架的適配裝置來實現，該適配裝置具有在權利要求書中闡述的特征。

按照本發明，適配裝置具有至少一個伸進基材支架的至少一個開口中的具有基材貼靠面的基材貼靠元件。適配裝置這樣設置在基材支架的板條的交叉區域內，使得板條的與所述至少一個基材貼靠元件之基材貼靠面相鄰的基材貼靠面(亦即板條的在空間上直接鄰接于基材貼靠元件之基材貼靠面的基材貼靠面)和所述適配裝置的所述至少一個基材貼靠元件之基材貼靠面形成一個封閉的基材貼靠面。

基材支架的每個如下區域看作是本發明意義上的板條的交叉區域，在所述區域中基材支架的沿不同方向定向的板條彼此接觸。

基材通過處理開口對于處理過程來說是可接近的，所述處理開口按照本發明由基材支架的多個分別具有至少一個基材貼靠面的板條和至少一個具有基材貼靠面的基材貼靠元件限界。處理開口以及沒有適配裝置的基材保持架的開口在其形狀方面原則上不受限制，因此可以例如是多邊形的。基材為了保持以及為了避免一側的處理過程對基材的不要處理的表面的干擾而貼靠在封閉的基材貼靠面上。因此，基材的可處理的表面在尺寸和形狀方面與處理開口相應。

在基材支架的和/或適配裝置的一種實施方式中，所述至少一個基材貼靠元件的基材貼靠面和/或板條的基材貼靠面這樣傾斜，使得基材貼靠面和要涂層的基材表面形成銳角。基材便以其外棱邊貼靠在封閉的傾斜的基材貼靠面的環繞的貼靠線上。

優選地，所述至少一個基材貼靠元件的基材貼靠面和板條的基材貼靠面平行于基材的要涂層的表面定向。基材貼靠元件的基材貼靠面便為了形成封閉的基材貼靠面而與板條的基材貼靠面齊平。基材以其要涂層的表面的環繞的部分貼靠在環繞的封閉的基材貼靠面上。為了使遮擋面、即基材的面向處理裝置的表面的對于處理來說不可接近的部分盡可能小，環繞的封閉的基材貼靠面剛好如此之大，使得保證可靠地保持基材。基材的尺寸特別優選等于處理開口的尺寸加上基于環繞的封閉的基材貼靠面之寬度的附加值。

按照本發明的適配裝置的應用在基材相對于處理裝置的面向下的布置中以及面向上的布置中都能在相應構成的基材支架上實現。