[發明專利]用于基材支架的適配裝置

在審

• 申請號: 201710658426.X
• 申請日: 2017-08-04
• 公開（公告）號: CN107686979A
• 公開（公告）日: 2018-02-13
• 發明（設計）人: 趙軍;E·安佐格
• 申請（專利權）人: 邁爾博爾格(德國)股份公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C16/458;H01L31/18;H01L21/687
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所11038
• 代理人: 張立國

1.用于基材支架(2)的適配裝置(1、1’、1”)，其中，所述基材支架(2)包括由多個具有至少一個基材貼靠面(25)的板條(21、22、23、24)限界的開口(3)，

其特征在于，

所述適配裝置(1、1’、1”)具有至少一個伸進基材支架(2)的至少一個開口(3)中的具有基材貼靠面(12、12’、12”)的基材貼靠元件(11、11’、11”)，并且

所述適配裝置(1、1’、1”)設置在基材支架(2)的板條(21、22、23、24)的交叉區域內，使得與所述至少一個基材貼靠元件(11、11’、11”)相鄰的板條(21、22、23、24)的鄰接于所述至少一個基材貼靠元件(11、11’、11”)之基材貼靠面(12、12’、12”)的基材貼靠面(25)和所述適配裝置(1、1’、1”)的所述至少一個基材貼靠元件(11、11’、11”)之基材貼靠面(12、12’、12”)形成一個封閉的基材貼靠面。

2.根據權利要求1所述的用于基材支架(2)的適配裝置(1、1’、1”)，其特征在于，所述適配裝置(1、1’、1”)是一體的。

3.根據權利要求1或2之一所述的用于基材支架(2)的適配裝置(1、1’、1”)，其特征在于，所述適配裝置(1、1’、1”)的面向基材支架(2)的表面與基材支架(2)的面向適配裝置(1、1’、1”)的表面互補地形成輪廓部。

4.根據權利要求1至3之一所述的用于基材支架(2)的適配裝置(1、1’、1”)，其特征在于，所述適配裝置(1、1’、1”)在基材支架(2)的板條(21、22、23、24)的交叉區域內可拆卸地力鎖合地或者可拆卸地形鎖合地與基材支架(2)相連接。

5.根據權利要求1至4之一所述的用于基材支架(2)的適配裝置(1、1’、1”)，其特征在于，所述適配裝置(1、1’、1”)具有剛好一個基材貼靠元件(11、11’、11”)或多個基材貼靠元件(11、11’、11”)，適配裝置(1、1’、1”)的所述多個基材貼靠元件(11、11’、11”)伸進基材支架(2)的不同開口(3)中。

6.根據權利要求1至5之一所述的用于基材支架(2)的適配裝置(1、1’、1”)，其特征在于，用于基材(5)的由封閉的基材貼靠面限界的處理面(31)是八邊形的。

7.根據權利要求1至6之一所述的用于基材支架(2)的適配裝置(1、1’、1”)，其特征在于，所述適配裝置(1、1’、1”)由與基材支架(2)相同的材料制成。

8.根據權利要求1至7之一所述的用于基材支架(2)的適配裝置(1、1’、1”)的應用，用于使基材支架(2)的至少一個由多個具有基材貼靠面(25)的板條(21、22、23、24)限界的開口(3)至少部分地適配于在形狀和尺寸方面與基材支架(2)的開口(3)有偏差的基材(5)的要處理的面(31)。

9.根據權利要求1至7之一所述的用于基材支架(2)的適配裝置(1、1’、1”)在連續設備中的應用。

10.根據權利要求1至7之一所述的用于基材支架(2)的適配裝置(1、1’、1”)在涂層設備中、尤其是在PECVD、PVD設備中的應用。