[發(fā)明專利]用于測試被測設(shè)備的電波暗室

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710650661.2
• 申請日: 2017-08-02
• 公開（公告）號: CN108957162B
• 公開（公告）日: 2022-06-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馬庫斯·赫爾布里格;丹尼爾·馬克特;科比特·羅威爾
• 申請（專利權(quán)）人: 羅德施瓦茲兩合股份有限公司
• 主分類號: G01R31/00
• 分類號: G01R31/00;G01R29/08
• 代理公司: 北京同達(dá)信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291
• 代理人: 黃志華;李欣

1.一種用于測試被測設(shè)備的電波暗室，包括：

至少一個測量天線，

至少一個氣體輸入部件，所述至少一個氣體輸入部件用于將氣體輸入所述電波暗室中，以及

至少一個氣體輸出部件，所述至少一個氣體輸出部件用于將所述氣體從所述電波暗室輸出，

其中，所述氣體輸入部件和所述氣體輸出部件產(chǎn)生相對于所述電波暗室的預(yù)定義區(qū)域的定向氣流，

其中，所述氣體輸入部件成形為旋轉(zhuǎn)推進(jìn)器的形式，

其中，所述旋轉(zhuǎn)推進(jìn)器的速度被控制，使得所述被測設(shè)備的至少一條天線的一區(qū)域未被所述旋轉(zhuǎn)推進(jìn)器覆蓋，同時與所述被測設(shè)備交換數(shù)據(jù)，用于在所述至少一個測量天線的幫助下執(zhí)行電磁測量。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電波暗室，

其中，所述電波暗室包括至少一個吸收器和用于所述被測設(shè)備的定位器或保持器，其中，所述被測設(shè)備布置在所述電波暗室的所述預(yù)定義區(qū)域中。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電波暗室，

其中，所述電波暗室在所述氣體輸入部件和所述氣體輸出部件之間具有壓力差。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電波暗室，

其中，所述電波暗室的所述預(yù)定義區(qū)域包括用于導(dǎo)向所述定向氣流的導(dǎo)向部件。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電波暗室，

其中，所述定向氣流包括溫度能夠變化的氣體。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電波暗室，

其中，所述預(yù)定義區(qū)域的維度中的至少一者不小于由所述電波暗室包括的被測設(shè)備的直徑。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電波暗室，

其中，所述氣體輸入部件和所述氣體輸出部件中的至少一者在所述電波暗室內(nèi)部的方向上的表面包括電磁吸收材料、電磁中性材料、或其組合。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電波暗室，

其中，所述至少一個氣體輸入部件和/或所述至少一個氣體輸出部件包括至少一個電磁捕獲結(jié)構(gòu)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電波暗室，

其中，所述至少一個電磁捕獲結(jié)構(gòu)基于電磁反射材料、電磁吸收材料、電磁中性材料、或其組合來形成。

10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電波暗室，

其中，所述氣體輸入部件的形狀為噴嘴的形式。

11.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電波暗室，

其中，所述氣體輸出部件的形狀為漏斗的形式。

12.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電波暗室，

其中，所述定向氣流為能夠轉(zhuǎn)向的。

13.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電波暗室，

其中，所述定向氣流包括氮?dú)狻⒒蜓鯕狻⒒蛄颉⒒蚝狻⒒蚰蕷狻⒒驓鍤狻⒒螂礆狻⒒螂瘹狻⒒螂睔狻⒒蚩諝狻⒒蚱淙我唤M合。

14.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電波暗室，

其中，所述氣體輸入部件和所述氣體輸出部件中的至少一者的位置或角度是能夠變化的。

15.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電波暗室，

其中，由所述電波暗室包括的被測設(shè)備的位置或角度是能夠變化的。

16.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電波暗室，

其中，所述導(dǎo)向部件的位置或角度是能夠變化的。

17.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電波暗室，

其中，所述電波暗室包括所述被測設(shè)備和存儲器，其中，所述存儲器保存所述氣體輸入部件和所述氣體輸出部件中的至少一者相對于插入所述電波暗室中的特定的所述被測設(shè)備的特定位置值或角度值。

18.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電波暗室，

其中，所述電波暗室包括所述被測設(shè)備和存儲器，其中，所述存儲器保存所述導(dǎo)向部件相對于插入所述電波暗室中的特定的所述被測設(shè)備的特定位置值或角度值。