[發(fā)明專利]顯影設(shè)備的排氣系統(tǒng)及其調(diào)節(jié)機構(gòu)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710649283.6
• 申請日: 2017-08-01
• 公開（公告）號: CN107357139A
• 公開（公告）日: 2017-11-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張瑞軍;王松;莫超德;范志翔
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號: G03F7/30
• 分類號: G03F7/30
• 代理公司: 深圳市威世博知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)44280
• 代理人: 鐘子敏

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種顯影設(shè)備的排氣系統(tǒng)及其調(diào)節(jié)機構(gòu)。

背景技術(shù)

現(xiàn)有技術(shù)一般通過光刻膠工藝制造TFT(Thin Film Transistor,薄膜晶體管)，當前的光刻膠工藝包括涂布光阻、曝光、顯影以及刻蝕等多道制程。在顯影制程中，顯影設(shè)備的排氣十分重要，例如當顯影設(shè)備的排氣流量不穩(wěn)定時，顯影腔體內(nèi)容易出現(xiàn)氣流紊亂現(xiàn)象，導(dǎo)致在顯影液未涂布完成之前顯影蒸汽提前轟擊至待顯影基板的光阻上，由于光阻對顯影液異常敏感，因此會導(dǎo)致待顯影基板上的部分光阻提前顯影，造成原本該由光阻保護的區(qū)域裸露，從而出現(xiàn)光阻斷線問題，這無疑會在后續(xù)的刻蝕制程中造成TFT等電路圖案斷路。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本發(fā)明提供一種顯影設(shè)備的排氣系統(tǒng)及其調(diào)節(jié)機構(gòu)，能夠?qū)︼@示設(shè)備均勻排氣，避免因顯影腔體內(nèi)氣流紊亂導(dǎo)致的光阻斷線問題，從而降低刻蝕制程中出現(xiàn)電路圖案斷路的幾率。

本發(fā)明一實施例的顯影設(shè)備的排氣系統(tǒng)，包括：

多個排氣口，沿著待顯影基板的流水線方向依序設(shè)置；

排氣機構(gòu)，分別設(shè)置于每個所述排氣口，并使得所述排氣口的排氣能力沿著所述流水線方向依序增強；

調(diào)節(jié)機構(gòu)，其殼體內(nèi)設(shè)有氣流通道，氣流通道的兩端分別設(shè)有第一開口和第二開口，第一開口面積大于第二開口面積，且第二開口數(shù)量為多個，第一開口或第二開口與排氣系統(tǒng)的排氣口匹配相通。

本發(fā)明一實施例的用于顯影設(shè)備的排氣系統(tǒng)的調(diào)節(jié)機構(gòu)，包括殼體，所述殼體內(nèi)設(shè)有氣流通道，氣流通道的兩端分別設(shè)有第一開口和第二開口，第一開口面積大于第二開口面積，且第二開口數(shù)量為多個，第一開口或第二開口與排氣系統(tǒng)的排氣口匹配相通。

有益效果：本發(fā)明設(shè)計在顯示設(shè)備的排氣口處增加與排氣口導(dǎo)通的調(diào)節(jié)機構(gòu)，該調(diào)節(jié)機構(gòu)的氣流通道設(shè)置有多個第二開口，多個第二開口能夠避免單一排氣口排氣造成的氣流紊亂現(xiàn)象，從而實現(xiàn)對顯示設(shè)備均勻排氣，避免因顯影腔體內(nèi)氣流紊亂導(dǎo)致的光阻斷線問題，進而降低刻蝕制程中出現(xiàn)電路圖案斷路的幾率。

附圖說明

圖1是本發(fā)明一實施例的顯影設(shè)備的排氣系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本發(fā)明一實施例的調(diào)節(jié)機構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是圖2所示調(diào)節(jié)機構(gòu)另一視角的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明所提供的各個示例性的實施例的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述。在不沖突的情況下，下述各個實施例及其技術(shù)特征可以相互組合。并且，本發(fā)明下文各個實施例所采用的方向性術(shù)語，例如“上”、“下”等，均是為了更好的描述各個實施例，并非用于限制本發(fā)明的保護范圍。

圖1是本發(fā)明一實施例的顯影設(shè)備的排氣系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。請參閱圖1所示，所述顯影設(shè)備的排氣系統(tǒng)10包括多個排氣口(又稱廠務(wù)排氣口)11、多個排氣機構(gòu)12以及多個調(diào)節(jié)機構(gòu)13。

多個排氣口11可以沿著待顯影基板20的流水線方向(如圖1所示的箭頭方向)依序設(shè)置。每一排氣口11處可設(shè)置閥門111，例如手動式閥門或電控式閥門，用于調(diào)節(jié)排氣口12的排氣風(fēng)量。

進一步地，每一排氣口11處對應(yīng)設(shè)置有一個排氣機構(gòu)12，該排氣機構(gòu)12可以為抽風(fēng)機，用于在顯影腔體內(nèi)外產(chǎn)生負壓，使得排氣方向由顯影腔體內(nèi)部朝向外部，以此將顯影腔體內(nèi)的氣體排出。另外，本實施例的排氣機構(gòu)12還可以調(diào)節(jié)各個排氣口11的排氣能力，例如，對于沿著待顯影基板20的流水線方向顯影液的濃度依次增高的情況，排氣機構(gòu)12可以調(diào)節(jié)多個排氣口11的排氣能力，使其排氣能力沿著流水線方向依序增強。具體地，參閱圖1，沿所述流水線方向，第一個排氣機構(gòu)12可以調(diào)節(jié)第一個排氣口11處的氣壓為-100～-50Pa，第二個排氣機構(gòu)12可以調(diào)節(jié)第二個排氣口11處的氣壓為-200～-100Pa，第一個排氣機構(gòu)12可以調(diào)節(jié)第一個排氣口11處的氣壓為-300～-200Pa。