[發(fā)明專利]一種高致密度ZrB2 有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710647330.3 | 申請日: | 2017-08-01 |
| 公開(公告)號: | CN107445625B | 公開(公告)日: | 2020-09-15 |
| 發(fā)明(設計)人: | 王星明;楊磊;桂濤;白雪;劉宇陽;儲茂友;彭程 | 申請(專利權)人: | 北京有色金屬研究總院 |
| 主分類號: | C04B35/58 | 分類號: | C04B35/58;C04B35/626;C04B35/645 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 致密 zrb base sub | ||
本發(fā)明屬于超高溫陶瓷材料制備技術領域,提供了一種高致密度ZrB2陶瓷的制備方法。該方法具體步驟為:首先采用碳熱還原法和自蔓延法分別制備ZrB2粉體,再將自蔓延法制備的ZrB2粉體作為添加劑按一定比例與碳熱還原法制備的ZrB2粉體均勻混合作為原料粉體,最后將該原料粉體裝入高強石墨模具中,真空熱壓燒結實現(xiàn)ZrB2陶瓷的深度致密化。本發(fā)明提供的制備方法工藝簡單,成本低,可操作性強,易于實現(xiàn)工業(yè)化生產,熱壓燒結過程無須添加燒結助劑,得到的ZrB2陶瓷相結構單一、純度高、致密度高。
技術領域
本發(fā)明屬于超高溫陶瓷材料制備技術領域,具體涉及一種高致密度ZrB2陶瓷的制備方法。
背景技術
ZrB2具有高熔點、高硬度、良好的導電性和熱穩(wěn)定性,廣泛應用于復合材料、電極材料、耐火材料以及核控制材料等諸多領域。另外,通過添加其他相或一定的熱處理制度可提高ZrB2陶瓷的高溫抗氧化性,使得ZrB2基復合材料成為一種優(yōu)良的超高溫材料(UHTMs),在航空航天領域應用前景廣闊。另外,高度致密化的ZrB2陶瓷靶材可以通過磁控濺射沉積薄膜,用于先進壓水堆如 AP1000反應堆的一體化可燃毒物。
ZrB2陶瓷的制備技術主要包括粉體合成和陶瓷深度致密化兩部分。粉體合成的方法有很多,包括直接合成法、碳熱還原法、金屬熱還原法、高溫自蔓延合成法、電化學合成法、溶膠-凝膠法(Sol-Gel)、PVD、CVD等,其中,碳熱還原法和自蔓延法是最常用也是易于實現(xiàn)的兩種方法。陶瓷深度致密化的方法有熱壓燒結、無壓燒結、熱等靜壓、原位反應熱壓以及高溫自蔓延燒結等多種方法,無壓燒結工藝簡單,適用于復雜形狀、不同規(guī)格制品的燒制,但是無壓燒結過程容易引起晶粒異常長大,導致制品致密度降低;熱等靜壓燒結制品致密度高、均勻性好、性能優(yōu)異,但由于設備昂貴,導致生產成本較高;原位反應熱壓有效避免了外界雜質元素的污染,同時降低致密化過程溫度,缺點是過程不易控制;由于 ZrB2具有超高熔點及其自身的物理化學特性,ZrB2陶瓷尤其是不添加燒結助劑的單相ZrB2陶瓷的深度致密化一直是難點。現(xiàn)有文獻通過對ZrB2粉體原料進行處理、控制粉體粒度或者采用納米原料粉體、添加燒結助劑B等方法實現(xiàn)了單相ZrB2陶瓷的深度致密化,但這些方法對原料的要求苛刻,原料處理也增加了工藝的難度。
發(fā)明內容
本發(fā)明提供了一種高致密度ZrB2陶瓷的制備方法,包括以下步驟:
(1)碳熱還原法制備ZrB2粉體;
(2)自蔓延法制備ZrB2粉體;
(3)將自蔓延法制備的ZrB2粉體作為添加劑按一定比例與碳熱還原法制備的ZrB2粉體均勻混合作為原料粉體;
(4)將混合后原料粉體裝入高強石墨模具中真空熱壓燒結。
所述步驟(1)采用碳熱還原法制備ZrB2粉體,利用純度均大于99.9%的ZrO2、H3BO3、C為反應原料,且ZrO2:H3BO3:C的質量比為100:(100~180):(40~70);將原料脫水、球磨后,于真空碳管爐中碳熱還原反應得到ZrB2粉體,其中,反應真空度小于10-1Pa,反應溫度為1500~2000℃,反應時間為1~6h。
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