[發(fā)明專利]成膜裝置、成膜方法以及存儲(chǔ)介質(zhì)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710646572.0
• 申請(qǐng)日: 2017-08-01
• 公開（公告）號(hào): CN107686984B
• 公開（公告）日: 2020-08-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 加藤壽
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C23C16/455
• 分類號(hào): C23C16/455;C23C16/458
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種成膜裝置，在形成真空環(huán)境的處理容器內(nèi)進(jìn)行多次向基板交替地供給作為處理氣體的第一氣體和第二氣體的循環(huán)，從而在基板上形成薄膜，該成膜裝置的特征在于，具備：

n個(gè)第一處理區(qū)域，所述n個(gè)第一處理區(qū)域沿著所述處理容器的周向隔開間隔地設(shè)置，各所述第一處理區(qū)域用于供給第一氣體來對(duì)基板進(jìn)行處理，其中，n為2以上的整數(shù)；

n個(gè)第二處理區(qū)域，各所述第二處理區(qū)域沿著所述周向設(shè)置在第一處理區(qū)域之間，用于供給第二氣體來對(duì)基板進(jìn)行處理；

分離部，其用于將所述第一處理區(qū)域與第二處理區(qū)域之間分離；

載置部，其構(gòu)成為能夠沿所述周向進(jìn)行公轉(zhuǎn)，并且沿所述周向配置多個(gè)所述載置部，各載置部用于載置基板；以及

控制部，其使所述載置部間歇性地進(jìn)行公轉(zhuǎn)，使得在停止公轉(zhuǎn)的狀態(tài)下，所述基板交替地位于所述第一處理區(qū)域和所述第二處理區(qū)域，

其中，所述載置部被配制成，在所述載置部的公轉(zhuǎn)停止時(shí)，位于n個(gè)第一處理區(qū)域和n個(gè)第二處理區(qū)域的各處理區(qū)域中的基板的片數(shù)相同，

當(dāng)將使所述載置部間歇性地進(jìn)行公轉(zhuǎn)以使所述基板在靜止的狀態(tài)下交替地位于第一處理區(qū)域和第二處理區(qū)域的運(yùn)轉(zhuǎn)模式稱為間歇旋轉(zhuǎn)模式時(shí)，

所述控制部構(gòu)成為，能夠選擇連續(xù)旋轉(zhuǎn)模式和所述間歇旋轉(zhuǎn)模式中的一方，其中，該連續(xù)旋轉(zhuǎn)模式是使所述載置部連續(xù)地進(jìn)行公轉(zhuǎn)以使所述基板連續(xù)地通過第一處理區(qū)域和第二處理區(qū)域的模式，

所述載置部的個(gè)數(shù)被設(shè)定為，在位于n個(gè)第一處理區(qū)域與n個(gè)第二處理區(qū)域的各處理區(qū)域中的基板的片數(shù)相同時(shí)，基板的載置部也位于所述分離部，

在選擇了所述連續(xù)旋轉(zhuǎn)模式時(shí)，在所有載置部上載置基板，

在所述載置部形成有用于升降銷進(jìn)行升降的貫通孔，該升降銷用于在載置部與外部的基板搬送機(jī)構(gòu)之間進(jìn)行基板的交接，

在選擇了所述間歇旋轉(zhuǎn)模式時(shí)，所述控制部輸出控制信號(hào)，使得在位于n個(gè)第一處理區(qū)域和n個(gè)第二處理區(qū)域的各處理區(qū)域中的基板的片數(shù)相同時(shí)位于所述分離部的載置部上載置虛設(shè)基板以堵塞該載置部的所述貫通孔。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

所述第一氣體是吸附于所述基板的作為薄膜的原料的原料氣體，所述第二氣體是與該原料氣體反應(yīng)來生成反應(yīng)生成物的反應(yīng)氣體。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的成膜裝置，其特征在于，

第一處理區(qū)域與第二處理區(qū)域中的所需的氣體的供給時(shí)間互不相同，載置部與所需的氣體的供給時(shí)間長(zhǎng)的一方的時(shí)間相匹配地停止。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的成膜裝置，其特征在于，

所需的氣體的供給時(shí)間短的處理區(qū)域中的氣體的供給時(shí)間被設(shè)定為比所需的氣體的供給時(shí)間長(zhǎng)的處理區(qū)域中的氣體的供給時(shí)間短。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的成膜裝置，其特征在于，

具備使所述載置部進(jìn)行自轉(zhuǎn)的自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，至少在對(duì)基板供給處理氣體時(shí)，載置有該基板的載置部進(jìn)行自轉(zhuǎn)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的成膜裝置，其特征在于，

還具備沿著所述處理容器的周向進(jìn)行自轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)臺(tái)，

多個(gè)所述載置部被配置在所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的上表面?zhèn)取?/p>