[發(fā)明專(zhuān)利]電極結(jié)構(gòu)及其制備方法、石墨烯超級(jí)電容器及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710645370.4 | 申請(qǐng)日: | 2017-08-01 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107610937A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-01-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 汪際軍 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 全普光電科技(上海)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01G11/24 | 分類(lèi)號(hào): | H01G11/24;H01G11/26;H01G11/30;H01G11/36;H01G11/46;H01G11/52;H01G11/56;H01G11/70;H01G11/84;H01G11/86;B82Y30/00;B82Y40/00 |
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| 地址: | 201203 上海*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電極 結(jié)構(gòu) 及其 制備 方法 石墨 超級(jí) 電容器 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種電極結(jié)構(gòu)及其制備方法、石墨烯超級(jí)電容器及其制備方法。
背景技術(shù)
超級(jí)電容器通過(guò)極化電介質(zhì)來(lái)儲(chǔ)能。它是一種電化學(xué)元件,但在其儲(chǔ)能的過(guò)程并不發(fā)生化學(xué)反應(yīng),是可逆的。超級(jí)電容器的電容密度高,無(wú)需擔(dān)心過(guò)充或過(guò)放而影響其使用壽命的問(wèn)題,是一種綠色能源。然而,與現(xiàn)有的鋰離子電池相比,超級(jí)電容器的能量密度較低。
石墨烯被認(rèn)為是萬(wàn)能的材料,石墨烯應(yīng)用于超級(jí)電容器制備得到的石墨烯超級(jí)電容器,能量密度大為提高,循環(huán)穩(wěn)定性較好,可運(yùn)用時(shí)間長(zhǎng),有望成為新一代能源。但是,現(xiàn)有的石墨烯超級(jí)電容器的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)上還具有很多瓶頸,例如,能量密度還不能滿(mǎn)足人們對(duì)需求,石墨烯超級(jí)電容器的不能夠與現(xiàn)有的圖形化半導(dǎo)體工藝相兼容,如何架構(gòu)石墨烯超級(jí)電容器的結(jié)構(gòu),進(jìn)一步提高其能量存儲(chǔ)量和能量密度,并且使其更有利于實(shí)現(xiàn)大規(guī)模化生產(chǎn),是目前人們普遍探索的問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
為了克服以上問(wèn)題,本發(fā)明旨在提供一種電極結(jié)構(gòu)和石墨烯超級(jí)電容器,利用多層電極結(jié)構(gòu)來(lái)提高電容器的能量密度,并且使石墨烯超級(jí)電容器更適用于大規(guī)模化生產(chǎn)。
為了達(dá)到上述目的,本發(fā)明提供了一種超級(jí)電容器的電極結(jié)構(gòu),包括:
石墨烯薄膜;
位于石墨烯薄膜表面的由納米球構(gòu)成的第一半導(dǎo)體層;
位于第一半導(dǎo)體層上的第二半導(dǎo)體層,第二半導(dǎo)體層由納米線構(gòu)成,且每個(gè)納米球上均至少有一根納米線與之垂直接觸;
位于第二半導(dǎo)體層上的第三半導(dǎo)體層,第三半導(dǎo)體層由納米花構(gòu)成,且每根納米線上均至少有一顆納米花與之接觸;
在整個(gè)石墨烯薄膜表面上設(shè)置固態(tài)電解質(zhì),固態(tài)電解質(zhì)滲透于第一半導(dǎo)體層、第二半導(dǎo)體層和第三半導(dǎo)體層的間隙中,且將第一半導(dǎo)體層、第二半導(dǎo)體層和第三半導(dǎo)體層包裹住,固態(tài)電解質(zhì)的頂部高于第三半導(dǎo)體層的頂部。
優(yōu)選地,所述第一半導(dǎo)體層的納米球是空心球。
優(yōu)選地,所述空心球?yàn)榘肟招那颍肟招那虻闹睆矫嫖挥谑┍∧け砻妫肟招那虻那蛎娉显O(shè)置,使得半空心球與石墨烯薄膜之間形成封閉空腔。
優(yōu)選地,空心球的內(nèi)徑為
優(yōu)選地,所述第二半導(dǎo)體層的納米線垂直生長(zhǎng)于所述空心球頂部的頂點(diǎn)。
優(yōu)選地,所述納米線的高度為1~10nm。
優(yōu)選地,所述納米花為從根部向外輻射開(kāi)的納米棒構(gòu)成,所述納米花的根部生長(zhǎng)于所述納米線的頂部。
優(yōu)選地,所述納米花的寬度為5~10nm,高度不大于10nm。
優(yōu)選地,在所述石墨烯薄膜的底部還設(shè)置有集流體層,所述石墨烯薄膜的圖案與集流體層的圖案相同。
優(yōu)選地,所述第一半導(dǎo)體層的材料為過(guò)渡族金屬氧化物。
優(yōu)選地,所述納米球的高度小于或等于所述納米線的高度,所述納米花的高度小于或等于所述納米線的高度,所述納米花的寬度小于或等于納米線的直徑,所述納米花的寬度小于或等于納米球的直徑。
優(yōu)選地,所述固態(tài)電解質(zhì)頂部具有多個(gè)凸起。
為了達(dá)到上述目的,本發(fā)明還提供了一種上述電極結(jié)構(gòu)的制備方法,其包括:
步驟01:制備具有襯底的石墨烯薄膜;
步驟02:在石墨烯薄膜表面合成納米球,從而構(gòu)成第一半導(dǎo)體層;
步驟03:在第一半導(dǎo)體層中填充第一電解質(zhì)流體,并經(jīng)凝固形成第一固態(tài)電解質(zhì);其中,第一固態(tài)電解質(zhì)的頂部低于納米球的頂部,使得納米球的頂部暴露出來(lái);
步驟04:在暴露出的納米球頂部外延生長(zhǎng)出納米線,從而構(gòu)成第二半導(dǎo)體層;
步驟05:在納米線中填充第二電解質(zhì)流體,并經(jīng)凝固形成第二固態(tài)電解質(zhì);其中,第二固態(tài)電解質(zhì)的頂部低于納米線的頂部,使得納米線的頂部暴露出來(lái);
步驟06:在暴露出的納米線的頂部外延生長(zhǎng)出納米花,從而構(gòu)成第三半導(dǎo)體層;
步驟07:在納米花中填充第三電解質(zhì)流體,并經(jīng)凝固形成第三固態(tài)電解質(zhì);其中,第三固態(tài)電解質(zhì)的頂部高于納米花的頂部。
優(yōu)選地,所述步驟02中,采用水熱法、溶劑熱法、無(wú)機(jī)模板法來(lái)合成納米球。
優(yōu)選地,所述步驟03具體包括:
步驟031:在第一轉(zhuǎn)速下,在第一半導(dǎo)體層中通過(guò)旋涂方式填充第一電解質(zhì)流體;
步驟032:將第一轉(zhuǎn)速提升至第二轉(zhuǎn)速,使得第一半導(dǎo)體層頂部及其上方的第一電解質(zhì)流體被甩出,然后,從第二轉(zhuǎn)速將至第三轉(zhuǎn)速,從而使位于第一半導(dǎo)體層中的第一電解質(zhì)流體的頂部低于第一半導(dǎo)體層的頂部;
步驟033:使第一電解質(zhì)流體凝固形成第一固態(tài)電解質(zhì);
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