[發(fā)明專利]電極結(jié)構(gòu)及其制備方法、石墨烯超級電容器及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710645370.4 | 申請日: | 2017-08-01 |
| 公開(公告)號: | CN107610937A | 公開(公告)日: | 2018-01-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 汪際軍 | 申請(專利權(quán))人: | 全普光電科技(上海)有限公司 |
| 主分類號: | H01G11/24 | 分類號: | H01G11/24;H01G11/26;H01G11/30;H01G11/36;H01G11/46;H01G11/52;H01G11/56;H01G11/70;H01G11/84;H01G11/86;B82Y30/00;B82Y40/00 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電極 結(jié)構(gòu) 及其 制備 方法 石墨 超級 電容器 | ||
1.一種超級電容器的電極結(jié)構(gòu),其特征在于,包括:
石墨烯薄膜;
位于石墨烯薄膜表面的由納米球構(gòu)成的第一半導(dǎo)體層;
位于第一半導(dǎo)體層上的第二半導(dǎo)體層,第二半導(dǎo)體層由納米線構(gòu)成,且每個納米球上均至少有一根納米線與之垂直接觸;
位于第二半導(dǎo)體層上的第三半導(dǎo)體層,第三半導(dǎo)體層由納米花構(gòu)成,且每根納米線上均至少有一顆納米花與之接觸;
在整個石墨烯薄膜表面上設(shè)置固態(tài)電解質(zhì),固態(tài)電解質(zhì)滲透于第一半導(dǎo)體層、第二半導(dǎo)體層和第三半導(dǎo)體層的間隙中,且將第一半導(dǎo)體層、第二半導(dǎo)體層和第三半導(dǎo)體層包裹住,固態(tài)電解質(zhì)的頂部高于第三半導(dǎo)體層的頂部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電極結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一半導(dǎo)體層的納米球是空心球。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電極結(jié)構(gòu),其特征在于,所述空心球為半空心球,半空心球的直徑面位于石墨烯薄膜表面,半空心球的球面朝上設(shè)置,使得半空心球與石墨烯薄膜之間形成封閉空腔。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電極結(jié)構(gòu),其特征在于,空心球的內(nèi)徑為
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電極結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第二半導(dǎo)體層的納米線垂直生長于所述空心球頂部的頂點(diǎn)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電極結(jié)構(gòu),其特征在于,所述納米線的高度為1~10nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電極結(jié)構(gòu),其特征在于,所述納米花為從根部向外輻射開的納米棒構(gòu)成,所述納米花的根部生長于所述納米線的頂部。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電極結(jié)構(gòu),其特征在于,所述納米花的寬度為5~10nm,高度不大于10nm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電極結(jié)構(gòu),其特征在于,在所述石墨烯薄膜的底部還設(shè)置有集流體層,所述石墨烯薄膜的圖案與集流體層的圖案相同。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電極結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一半導(dǎo)體層的材料為過渡族金屬氧化物。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電極結(jié)構(gòu),其特征在于,所述納米球的高度小于或等于所述納米線的高度,所述納米花的高度小于或等于所述納米線的高度,所述納米花的寬度小于或等于納米線的直徑,所述納米花的寬度小于或等于納米球的直徑。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電極結(jié)構(gòu),其特征在于,所述固態(tài)電解質(zhì)頂部具有多個凸起。
13.一種權(quán)利要求1所述的電極結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,包括:
步驟01:制備具有襯底的石墨烯薄膜;
步驟02:在石墨烯薄膜表面合成納米球,從而構(gòu)成第一半導(dǎo)體層;
步驟03:在第一半導(dǎo)體層中填充第一電解質(zhì)流體,并經(jīng)凝固形成第一固態(tài)電解質(zhì);其中,第一固態(tài)電解質(zhì)的頂部低于納米球的頂部,使得納米球的頂部暴露出來;
步驟04:在暴露出的納米球頂部外延生長出納米線,從而構(gòu)成第二半導(dǎo)體層;
步驟05:在納米線中填充第二電解質(zhì)流體,并經(jīng)凝固形成第二固態(tài)電解質(zhì);其中,第二固態(tài)電解質(zhì)的頂部低于納米線的頂部,使得納米線的頂部暴露出來;
步驟06:在暴露出的納米線的頂部外延生長出納米花,從而構(gòu)成第三半導(dǎo)體層;
步驟07:在納米花中填充第三電解質(zhì)流體,并經(jīng)凝固形成第三固態(tài)電解質(zhì);其中,第三固態(tài)電解質(zhì)的頂部高于納米花的頂部。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的電極結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,所述步驟02中,采用水熱法、溶劑熱法、無機(jī)模板法來合成納米球。
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