[發明專利]微影圖案化方法在審
| 申請號： | 201710638389.6 | 申請日： | 2017-07-31 |
| 公開（公告）號： | CN108957958A | 公開（公告）日： | 2018-12-07 |
| 發明（設計）人： | 王筱姍;劉朕與;張慶裕;林進祥 | 申請（專利權）人： | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;H01L21/82 |
| 代理公司： | 隆天知識產權代理有限公司 72003 | 代理人： | 馮志云;王芝艷 |
| 地址： | 中國臺*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光阻層 微影圖案化 光敏材料 材料層 阻擋層 溶劑 形成材料 曝光光 顯影劑 基板 可溶 顯影 阻層 | ||
【權利要求書】：
1.一種微影圖案化的方法，包括：
形成一材料層于一基板上，其中該材料層可溶于一溶劑中；
形成一阻擋層于該材料層上；
形成一光阻層于該阻擋層上，其中該光阻層包含一光敏材料，且該光敏材料溶于該溶劑中；
曝光該光阻層；以及
在一顯影劑中顯影該光阻層。
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