[發明專利]導線的制造方法和顯示面板

有效

• 申請號: 201710632725.6
• 申請日: 2017-07-28
• 公開（公告）號: CN107221497B
• 公開（公告）日: 2020-07-21
• 發明（設計）人: 丁賢林;陳軍;陳啟程;張明
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司
• 主分類號: H01L21/3213
• 分類號: H01L21/3213
• 代理公司: 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138
• 代理人: 滕一斌

本發明公開了一種導線的制造方法和顯示面板，屬于顯示技術領域。所述方法包括：在襯底結構上形成過渡層，在形成有過渡層的襯底結構上形成金屬層，在形成有金屬層的襯底結構上形成第一光刻膠圖案，以第一光刻膠圖案為掩膜對金屬層進行刻蝕，形成金屬導線，以第一光刻膠圖案為掩膜對過渡層進行刻蝕，形成過渡線，過渡線和金屬導線構成導線。本發明通過以第一光刻膠圖案作為金屬層和過渡層的掩膜進行兩次刻蝕，形成導線。解決了相關技術中以金屬導線作為掩膜刻蝕過渡層時，刻蝕液可能損傷金屬導線的問題，達到了保護金屬導線的效果。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，特別涉及一種導線的制造方法和顯示面板。

背景技術

在制造顯示面板的過程中，會在襯底結構(該襯底結構可以為襯底基板或柵絕緣層等結構)上形成各種金屬導線，但由于金屬導線和多數襯底結構之間的附著力較弱，因而通常會在金屬導線和襯底結構之間設置與金屬導線以及襯底結構的附著力均較強的過渡線，由該過渡線和金屬導線共同構成顯示面板中的導線。

目前，制造顯示面板的方法包括1)在襯底結構上形成過渡層(過渡層通常由與襯底結構以及金屬導線的附著力均較強的材料構成；2)在形成有過渡層的襯底結構上形成金屬層；3)通過構圖工藝在金屬層上形成金屬導線；4)以金屬導線作為掩膜，刻蝕金屬導線下方的過渡層，使該過渡層轉變為與金屬導線形狀一致的過渡線。

以金屬導線作為掩膜，刻蝕金屬導線下方的過渡層時，刻蝕液可能會對金屬導線造成損傷。

發明內容

為了解決相關技術的問題，本發明實施例提供了一種導線的制造方法和顯示面板。所述技術方案如下：

第一方面，提供了一種導線的制造方法，所述方法包括：

在襯底結構上形成過渡層；

在形成有所述過渡層的襯底結構上形成金屬層；

在形成有所述金屬層的襯底結構上形成第一光刻膠圖案；

以所述第一光刻膠圖案為掩膜對所述金屬層進行刻蝕，形成金屬導線；

以所述第一光刻膠圖案為掩膜對所述過渡層進行刻蝕，形成過渡線，所述過渡線和所述金屬導線構成所述導線。

可選的，所述過渡層的材料包括透明導電材料，

所述以所述第一光刻膠圖案為掩膜對所述過渡層進行刻蝕，形成過渡線之前，所述方法還包括：

在形成有所述金屬導線和所述第一光刻膠圖案的襯底結構上形成用于作為像素電極圖案的掩膜的第二光刻膠圖案；

所述以所述第一光刻膠圖案為掩膜對所述過渡層進行刻蝕，形成過渡線，包括：

以所述第一光刻膠圖案和所述第二光刻膠圖案為掩膜對所述過渡層進行刻蝕，形成所述過渡線和所述像素電極圖案。

可選的，所述第一光刻膠圖案由正性光刻膠構成，所述第二光刻膠圖案由負性光刻膠構成；

或者，所述第一光刻膠圖案由負性光刻膠構成，所述第二光刻膠圖案由負性光刻膠或正性光刻膠構成。

可選的，所述在形成有所述金屬導線和所述第一光刻膠圖案的襯底結構上形成用于作為像素電極圖案的掩膜的第二光刻膠圖案，包括：

在形成有所述金屬導線和所述第一光刻膠圖案的襯底結構上涂布第二光刻膠層；

通過曝光和顯影使所述第二光刻膠層轉變為所述第二光刻膠圖案。

可選的，所述以所述第一光刻膠圖案和所述第二光刻膠圖案為掩膜對所述過渡層進行刻蝕，形成所述過渡線和所述像素電極圖案之后，所述方法還包括：

去除所述第一光刻膠圖案和所述第二光刻膠圖案。