[發(fā)明專利]掩模版框架、蒸鍍裝置及掩模版框架定位方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710631103.1
• 申請日: 2017-07-28
• 公開（公告）號: CN107419218B
• 公開（公告）日: 2019-08-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 林治明;王震;張新建;劉德健;李寶軍;黃俊杰
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責(zé)任公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;劉偉

1.一種掩模版框架，包括：

框架主體，所述框架主體包括第一表面；

設(shè)置在所述框架主體的第一表面上的溝槽，所述溝槽包括與所述第一表面平行的槽底面及相對的兩側(cè)壁；

其特征在于，在所述第一表面和所述槽底面中的至少一個(gè)面的邊界對應(yīng)位置處還設(shè)置有輔助面，所述輔助面能夠被圖像采集器采集到圖案，所述輔助面與所述槽底面不平行，且所述輔助面與所述槽底面不垂直，使所述輔助面經(jīng)圖像采集器采集的圖案區(qū)別于所述槽底面和所述第一表面經(jīng)圖像采集器采集的圖案，以識別所述溝槽的邊界；

每一側(cè)壁具有與所述第一表面連接過渡的上過渡邊沿和與所述槽底面連接過渡的下過渡邊沿，其中沿每一側(cè)壁的上過渡邊沿設(shè)置有第一倒角面結(jié)構(gòu)，所述第一倒角面結(jié)構(gòu)與所述槽底面不平行且不垂直，以形成所述輔助面；或

每一側(cè)壁具有與所述第一表面連接過渡的上過渡邊沿和與所述槽底面連接過渡的下過渡邊沿，其中沿每一側(cè)壁的下過渡邊沿設(shè)置有第二倒角面結(jié)構(gòu)，所述第二倒角面結(jié)構(gòu)與所述槽底面不平行且不垂直，以形成所述輔助面；或

所述溝槽的兩個(gè)側(cè)壁中至少一部分與所述槽底面不平行且不垂直，以形成所述輔助面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版框架，其特征在于，

所述溝槽的兩個(gè)側(cè)壁中至少一部分為與所述槽底面之間呈預(yù)設(shè)斜夾角的斜面結(jié)構(gòu)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版框架，其特征在于，

所述槽底面的四周邊界包括：

與所述兩側(cè)壁過渡連接的、相對設(shè)置的兩個(gè)下過渡邊沿；

及，連接在兩個(gè)下過渡邊沿之間的槽底邊沿；

其中，沿所述槽底邊沿設(shè)置有一第三倒角面結(jié)構(gòu)，所述第三倒角面結(jié)構(gòu)與所述槽底面不平行且不垂直，以形成所述輔助面。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版框架，其特征在于，

所述槽底面的四周邊界包括：

與所述兩側(cè)壁過渡連接的、相對設(shè)置的兩個(gè)下過渡邊沿；

及，連接在兩個(gè)下過渡邊沿之間的槽底邊沿；

其中，所述框架主體的第一表面的邊界包括與所述槽底邊沿的延伸方向一致、并在所述溝槽處斷開的第一邊界線，沿所述第一邊界線設(shè)置有一第四倒角面結(jié)構(gòu)，所述第四倒角面結(jié)構(gòu)與所述槽底面不平行且不垂直，以形成所述輔助面。

5.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述的掩模版框架。

6.一種掩模版框架定位方法，其特征在于，所述方法應(yīng)用于如權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述的掩模版框架；所述方法包括：

通過圖像采集器采集所述掩模版框架的框架主體第一表面上溝槽所在區(qū)域的圖像；

根據(jù)所述圖像采集器所采集的圖像中圖案的亮度不同，識別所述溝槽的邊界。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，

根據(jù)所述圖像采集器所采集的圖像中圖案的亮度不同，識別所述溝槽的邊界，包括：

當(dāng)所述輔助面設(shè)置在上過渡邊沿或者下過渡邊沿或者所述溝槽的兩側(cè)壁上時(shí)，識別所述圖像中的暗條紋圖案為所述溝槽的邊界；

當(dāng)所述輔助面設(shè)置在所述框架主體的第一表面的第一邊界線時(shí)，識別所述圖像中的亮條紋圖案的邊界為所述溝槽的邊界；

當(dāng)所述輔助面設(shè)置在所述溝槽的槽底邊沿時(shí)，識別所述圖像中的暗條紋圖案的邊界為所述溝槽的邊界。