[發明專利]掩模版框架、蒸鍍裝置及掩模版框架定位方法

有效

• 申請號: 201710631103.1
• 申請日: 2017-07-28
• 公開（公告）號: CN107419218B
• 公開（公告）日: 2019-08-27
• 發明（設計）人: 林治明;王震;張新建;劉德健;李寶軍;黃俊杰
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;劉偉

本發明的目的在于提供一種掩模版框架、蒸鍍裝置及掩模版框架定位方法，該掩模版框架包括：框架主體，所述框架主體包括第一表面；設置在所述框架主體的第一表面上的溝槽，所述溝槽包括與所述第一表面平行的槽底面及相對的兩側壁；在所述第一表面和所述槽底面中的至少一個面的邊界對應位置處還設置有輔助面，所述輔助面與所述槽底面不平行，且所述輔助面與所述槽底面不垂直，使所述輔助面經圖像采集器采集的圖案區別于所述槽底面和所述第一表面經圖像采集器采集的圖案，以識別所述溝槽的邊界。本發明能夠提高溝槽的識別準確性。

技術領域

本發明涉及顯示器制造技術領域，尤其涉及一種掩模版框架、蒸鍍裝置及掩模版框架定位方法。

背景技術

精細金屬掩膜(FMM Mask)模式，是通過蒸鍍方式將OLED(Organic Light-Emitting Diode，有機發光二極管)材料按照預定程序蒸鍍到LTPS(低溫多晶硅)背板上，利用FMM上的圖形，蒸鍍紅、綠、藍有機物到規定位置上。

目前蒸鍍裝置對蒸鍍掩模版的框架(Frame)上的溝槽(Groove)進行定位時所采用的方法是，通過CCD(圖像采集器)識別溝槽的兩個相對側壁的邊界。但是在目前的框架溝槽設計中，如圖1所示，框架的表面1到溝槽的側壁2到溝槽的槽底面3是直角的過渡形態，CCD發出光照射溝槽所在區域，光在框架的表面和溝槽的底面都是豎直反射的，CCD感應的結果是兩個平面是亮面，同時由于框架的表面到溝槽的側壁到溝槽的底面都是直角的過渡形態，所以CCD最終反應的畫面是，整體都是亮面，沒有明確的過渡線，從而使CCD很難分辨溝槽的兩邊邊界(也就是，框架的表面和溝槽的底面之間的邊界)，影響設備對框架上溝槽的定位，影響設備的自動化運行狀態，有時候識別較差的時候，設備調整過大，溝槽會超出CCD視野，嚴重的時候出現設備部件之間的沖突，影響設備的運行。

發明內容

本發明的目的在于提供一種掩模版框架、蒸鍍裝置及掩模版框架定位方法，能夠提高溝槽的識別準確性。

本發明所提供的技術方案如下：

一種掩模版框架，包括：

框架主體，所述框架主體包括第一表面；

設置在所述框架主體的第一表面上的溝槽，所述溝槽包括與所述第一表面平行的槽底面及相對的兩側壁；

在所述第一表面和所述槽底面中的至少一個面的邊界對應位置處還設置有輔助面，所述輔助面與所述槽底面不平行，且所述輔助面與所述槽底面不垂直，使所述輔助面經圖像采集器采集的圖案區別于所述槽底面和所述第一表面經圖像采集器采集的圖案，以識別所述溝槽的邊界。

進一步的，每一側壁具有與所述第一表面連接過渡的上過渡邊沿和與所述槽底面連接過渡的下過渡邊沿，其中沿每一側壁的上過渡邊沿設置有第一倒角面結構，所述第一倒角面結構與所述槽底面不平行且不垂直，以形成所述輔助面。

進一步的，每一側壁具有與所述第一表面連接過渡的上過渡邊沿和與所述槽底面連接過渡的下過渡邊沿，其中沿每一側壁的下過渡邊沿設置有第二倒角面結構，所述第二倒角面結構與所述槽底面不平行且不垂直，以形成所述輔助面。

進一步的，所述溝槽的兩個側壁中至少一部分與所述槽底面不平行且不垂直，以形成所述輔助面。

進一步的，所述溝槽的兩個側壁中至少一部分為與所述槽底面之間呈預設斜夾角的斜面結構。

進一步的，所述槽底面的四周邊界包括：

與所述兩側壁過渡連接的、相對設置的兩個下過渡邊沿；

及，連接在兩個下過渡邊沿之間的槽底邊沿；

其中，沿所述槽底邊沿設置有一第三倒角面結構，所述第三倒角面結構與所述槽底面不平行且不垂直，以形成所述輔助面。

進一步的，所述槽底面的四周邊界包括：