[發明專利]坩堝、蒸鍍裝置及蒸鍍方法

有效

• 申請號: 201710623729.8
• 申請日: 2017-07-27
• 公開（公告）號: CN107190236B
• 公開（公告）日: 2019-06-25
• 發明（設計）人: 卜斌
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/54
• 代理公司: 北京律智知識產權代理有限公司 11438
• 代理人: 王衛忠;姜怡

本公開提供一種坩堝、蒸鍍裝置及蒸鍍方法，屬于蒸鍍技術領域，坩堝包括：坩堝本體、傳感機構、控制機構和調節機構，坩堝本體具有多個蒸發口以及腔體，腔體用于容置蒸鍍材料；傳感機構設置在蒸發口周圍，用于檢測不同區域蒸鍍材料的實際鍍率；控制機構與傳感機構連接，用于根據實際鍍率與目標鍍率計算調節參數，將調節參數發送給調節機構，調節參數為擋板的旋轉角度；調節機構與控制機構連接，調節機構設置在腔體內，用于根據調節參數調節對應區域蒸鍍材料的鍍率。該坩堝采用對坩堝不同區域蒸發口處的實際鍍率進行檢測，并根據實際鍍率與目標鍍率計算調節參數以實現快速調整鍍率，從而可以提高坩堝內材料的利用率。

技術領域

本公開涉及蒸鍍技術領域，具體而言，涉及一種坩堝、蒸鍍裝置及蒸鍍方法。

背景技術

現今制作OLED(Organic Light-Emitting Diode，有機發光二極管)產品多是采用蒸鍍方法。線源蒸發使用包含多個蒸發口的線性容器，同一時間材料從多個蒸發口出來并沉積到基板上，因此線源蒸發具有較高的材料利用率。但是由于線源蒸發裝置具有多個蒸發口，在蒸鍍工藝中，基板中間部分沉積的材料來自至少兩個蒸發口或源蒸發點，基板邊緣部分沉積的材料明顯少于中間部分沉積的材料，導致通常沉積在基板中間部分的膜厚比邊緣部分的膜后要厚一些，因此膜厚不均勻。

目前，為解決膜厚不均勻的問題，主要通過控制電源功率輸出，進而控制加熱裝置的溫度變化，達到控制蒸鍍速率的目的。但是，對于溫度的控制穩定性差，而且溫度控制鍍率變化實現起來很慢，通常需要很長時間達到穩定的溫度，調整過程中坩堝內的材料就不可避免的會被浪費掉。

因此，現有技術中的技術方案還存在有待改進之處。

需要說明的是，在上述背景技術部分公開的信息僅用于加強對本公開的背景的理解，因此可以包括不構成對本領域普通技術人員已知的現有技術的信息。

發明內容

本公開的目的在于提供一種坩堝、蒸鍍裝置及蒸鍍方法，進而至少在一定程度上克服由于相關技術的限制和缺陷而導致的一個或者多個問題。

本公開的其他特性和優點將通過下面的詳細描述變得清晰，或者部分地通過本公開的實踐而習得。

根據本公開的一個方面，提供一種坩堝，包括：坩堝本體、傳感機構、控制機構和調節機構，坩堝本體具有多個蒸發口以及腔體，所述腔體用于容置蒸鍍材料；傳感機構設置在所述蒸發口周圍，用于檢測不同區域所述蒸鍍材料的實際鍍率；控制機構與所述傳感機構連接，用于根據所述實際鍍率與目標鍍率計算調節參數，將所述調節參數發送給所述調節機構，所述調節參數為所述擋板的旋轉角度；調節機構與所述控制機構連接，所述調節機構設置在所述腔體內，用于根據所述調節參數調節對應區域所述蒸鍍材料的鍍率。

在本公開的一種示例性實施例中，所述調節機構包括M個分布在不同區域內分段式的擋板，所述擋板能夠在所述腔體內旋轉90度，其中M大于等于2。

在本公開的一種示例性實施例中，所述調節機構還包括M個同心軸，分別與所述擋板連接，通過所述同心軸的轉動帶動所述擋板旋轉，所述同心軸為兩個以上且同一圓心的軸承套裝在一起形成。

在本公開的一種示例性實施例中，所述調節機構還包括驅動組件，與所述M個同心軸和所述控制機構連接，用于根據所述調節參數來驅動所述同心軸。

在本公開的一種示例性實施例中，所述控制機構還與所述傳感機構連接，所述控制機構根據所述實際鍍率與目標鍍率進行比較得到差值，并根據所述差值計算調節參數。

在本公開的一種示例性實施例中，所述多個蒸發口為線性排列地布設在所述腔體頂部的出口。

在本公開的一種示例性實施例中，所述傳感機構包括M個傳感器，分別布置在不同區域內所述擋板所對應區域的蒸發口處，以檢測所述蒸發口處的實際鍍率。