[發明專利]坩堝、蒸鍍裝置及蒸鍍方法

有效

• 申請號: 201710623729.8
• 申請日: 2017-07-27
• 公開（公告）號: CN107190236B
• 公開（公告）日: 2019-06-25
• 發明（設計）人: 卜斌
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/54
• 代理公司: 北京律智知識產權代理有限公司 11438
• 代理人: 王衛忠;姜怡

1.一種坩堝，其特征在于，包括：

坩堝本體，具有多個蒸發口以及腔體，所述腔體用于容置蒸鍍材料；

傳感機構，設置在所述蒸發口周圍，用于檢測不同區域所述蒸鍍材料的實際鍍率；

控制機構，與所述傳感機構連接，用于根據所述實際鍍率與目標鍍率計算調節參數；

調節機構，與所述控制機構連接，所述調節機構設置在所述腔體內，用于根據所述調節參數調節對應區域所述蒸鍍材料的鍍率；

其中所述調節機構包括M個分布在不同區域內分段式的擋板，其中M大于等于2，所述控制機構將所述調節參數發送給所述調節機構，所述調節參數為所述擋板的旋轉角度。

2.根據權利要求1所述的坩堝，其特征在于，所述擋板能夠在所述腔體內旋轉90度。

3.根據權利要求2所述的坩堝，其特征在于，所述調節機構還包括M個同心軸，分別與所述擋板連接，通過所述同心軸轉動帶動所述擋板旋轉，所述同心軸為兩個以上且同一圓心的軸承套裝在一起形成。

4.根據權利要求3所述的坩堝，其特征在于，所述調節機構還包括驅動組件，與所述M個同心軸和所述控制機構連接，用于根據所述調節參數來驅動所述同心軸。

5.根據權利要求4所述的坩堝，其特征在于，所述控制機構還與所述傳感機構連接，所述控制機構根據所述實際鍍率與目標鍍率進行比較得到差值，并根據所述差值計算所述調節參數。

6.根據權利要求1所述的坩堝，其特征在于，所述多個蒸發口為線性排列地布設在所述腔體頂部的出口。

7.根據權利要求1所述的坩堝，其特征在于，所述傳感機構包括M個傳感器，分別布置在不同區域內所述擋板所對應區域的蒸發口處，以檢測所述蒸發口處的實際鍍率。

8.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括權利要求1-7中任一項所述的坩堝和加熱源。

9.一種利用權利要求1-7中任一項所述的坩堝的蒸鍍方法，其特征在于，包括：

檢測不同區域蒸鍍材料的實際鍍率；

根據所述實際鍍率與目標鍍率計算調節參數，其中所述調節參數為擋板的旋轉角度，所述擋板分布在不同區域內；

根據所述調節參數調節對應區域所述蒸鍍材料的鍍率。

10.根據權利要求9所述的蒸鍍方法，其特征在于，根據所述實際鍍率與目標鍍率計算調節參數包括：

根據所述實際鍍率與所述目標鍍率進行比較得到差值，并根據所述差值計算所述調節參數。