[發(fā)明專利]坩堝、蒸鍍裝置及蒸鍍方法

有效

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• 申請日: 2017-07-27
• 公開（公告）號: CN107190236B
• 公開（公告）日: 2019-06-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 卜斌
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/54
• 代理公司: 北京律智知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11438
• 代理人: 王衛(wèi)忠;姜怡

1.一種坩堝，其特征在于，包括：

坩堝本體，具有多個蒸發(fā)口以及腔體，所述腔體用于容置蒸鍍材料；

傳感機構(gòu)，設(shè)置在所述蒸發(fā)口周圍，用于檢測不同區(qū)域所述蒸鍍材料的實際鍍率；

控制機構(gòu)，與所述傳感機構(gòu)連接，用于根據(jù)所述實際鍍率與目標(biāo)鍍率計算調(diào)節(jié)參數(shù)；

調(diào)節(jié)機構(gòu)，與所述控制機構(gòu)連接，所述調(diào)節(jié)機構(gòu)設(shè)置在所述腔體內(nèi)，用于根據(jù)所述調(diào)節(jié)參數(shù)調(diào)節(jié)對應(yīng)區(qū)域所述蒸鍍材料的鍍率；

其中所述調(diào)節(jié)機構(gòu)包括M個分布在不同區(qū)域內(nèi)分段式的擋板，其中M大于等于2，所述控制機構(gòu)將所述調(diào)節(jié)參數(shù)發(fā)送給所述調(diào)節(jié)機構(gòu)，所述調(diào)節(jié)參數(shù)為所述擋板的旋轉(zhuǎn)角度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的坩堝，其特征在于，所述擋板能夠在所述腔體內(nèi)旋轉(zhuǎn)90度。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的坩堝，其特征在于，所述調(diào)節(jié)機構(gòu)還包括M個同心軸，分別與所述擋板連接，通過所述同心軸轉(zhuǎn)動帶動所述擋板旋轉(zhuǎn)，所述同心軸為兩個以上且同一圓心的軸承套裝在一起形成。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的坩堝，其特征在于，所述調(diào)節(jié)機構(gòu)還包括驅(qū)動組件，與所述M個同心軸和所述控制機構(gòu)連接，用于根據(jù)所述調(diào)節(jié)參數(shù)來驅(qū)動所述同心軸。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的坩堝，其特征在于，所述控制機構(gòu)還與所述傳感機構(gòu)連接，所述控制機構(gòu)根據(jù)所述實際鍍率與目標(biāo)鍍率進行比較得到差值，并根據(jù)所述差值計算所述調(diào)節(jié)參數(shù)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的坩堝，其特征在于，所述多個蒸發(fā)口為線性排列地布設(shè)在所述腔體頂部的出口。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的坩堝，其特征在于，所述傳感機構(gòu)包括M個傳感器，分別布置在不同區(qū)域內(nèi)所述擋板所對應(yīng)區(qū)域的蒸發(fā)口處，以檢測所述蒸發(fā)口處的實際鍍率。

8.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1-7中任一項所述的坩堝和加熱源。

9.一種利用權(quán)利要求1-7中任一項所述的坩堝的蒸鍍方法，其特征在于，包括：

檢測不同區(qū)域蒸鍍材料的實際鍍率；

根據(jù)所述實際鍍率與目標(biāo)鍍率計算調(diào)節(jié)參數(shù)，其中所述調(diào)節(jié)參數(shù)為擋板的旋轉(zhuǎn)角度，所述擋板分布在不同區(qū)域內(nèi)；

根據(jù)所述調(diào)節(jié)參數(shù)調(diào)節(jié)對應(yīng)區(qū)域所述蒸鍍材料的鍍率。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的蒸鍍方法，其特征在于，根據(jù)所述實際鍍率與目標(biāo)鍍率計算調(diào)節(jié)參數(shù)包括：

根據(jù)所述實際鍍率與所述目標(biāo)鍍率進行比較得到差值，并根據(jù)所述差值計算所述調(diào)節(jié)參數(shù)。