[發(fā)明專利]一種設(shè)備異常反饋系統(tǒng)及方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710618481.6 | 申請日: | 2017-07-26 |
| 公開(公告)號: | CN107272560A | 公開(公告)日: | 2017-10-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王浩 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G05B19/05 | 分類號: | G05B19/05 |
| 代理公司: | 北京聿宏知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11372 | 代理人: | 吳大建,王浩 |
| 地址: | 430070 湖北省武漢市*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 設(shè)備 異常 反饋 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種產(chǎn)線設(shè)備異常反饋系統(tǒng),其特征在于:包括用于控制各個設(shè)備的PLC模塊,所述PLC模塊包括:初始脈沖模塊,控制整個反饋系統(tǒng)的啟停;
單元設(shè)備控制模塊,與各個設(shè)備相連,用于控制各個設(shè)備的啟停;
單元設(shè)備轉(zhuǎn)移模塊,與單元設(shè)備控制模塊相連,用于接收設(shè)備異常信號,并停止異常設(shè)備及異常設(shè)備之前的設(shè)備運行;
產(chǎn)線設(shè)備運行模塊,與單元設(shè)備轉(zhuǎn)移模塊相連,用于啟動異常設(shè)備之后設(shè)備的運行;
產(chǎn)線設(shè)備結(jié)束模塊,單元設(shè)備控制模塊相連,待異常設(shè)備之后的設(shè)備運行完成后停止整個產(chǎn)線的運行。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)線設(shè)備異常反饋系統(tǒng),其特征在于:所述每個設(shè)備對應(yīng)相應(yīng)的單元設(shè)備控制模塊、產(chǎn)線設(shè)備運行模塊以及單元設(shè)備轉(zhuǎn)移模塊。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的產(chǎn)線設(shè)備異常反饋系統(tǒng),其特征在于:所述設(shè)備包括:載入單元設(shè)備、清洗單元設(shè)備、清洗單元設(shè)備、涂料單元設(shè)備、真空干燥器、預(yù)烘機、膜厚測量設(shè)備、掃描儀或調(diào)整設(shè)備、顯影設(shè)備、光學(xué)檢查設(shè)備、烘烤單元設(shè)備以及卸料單元設(shè)備。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任意一項所述的產(chǎn)線設(shè)備異常反饋系統(tǒng),其特征在于:所述設(shè)備按照載入單元設(shè)備、清洗單元設(shè)備、清洗單元設(shè)備、涂料單元設(shè)備、真空干燥器、預(yù)烘機、膜厚測量設(shè)備、掃描儀或調(diào)整設(shè)備、顯影設(shè)備、光學(xué)檢查設(shè)備、烘烤單元設(shè)備以及卸料單元設(shè)備的順序運行。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)線設(shè)備異常反饋系統(tǒng),其特征在于:所述單元設(shè)備控制模塊還與產(chǎn)線設(shè)備運行模塊連接,當設(shè)備出現(xiàn)異常時,產(chǎn)線設(shè)備運行模塊啟動,控制異常設(shè)備之后的設(shè)備運行。
6.一種產(chǎn)線設(shè)備異常反饋方法,其特征在于:包括,啟動初始脈沖模塊,產(chǎn)線設(shè)備依次運行,當產(chǎn)線中其中一臺設(shè)備出現(xiàn)異常時,異常信號反饋至單元設(shè)備轉(zhuǎn)移模塊,異常設(shè)備轉(zhuǎn)移模塊停止異常設(shè)備及異常設(shè)備之前的設(shè)備運行,同時啟動產(chǎn)線運行模塊,控制異常設(shè)備之后的設(shè)備正常運行,待異常設(shè)備之后的設(shè)備依次運行完畢后停止整個產(chǎn)線的運行。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的產(chǎn)線設(shè)備異常反饋方法,其特征在于,其特征在于所述設(shè)備包括:順序運行載入單元設(shè)備、清洗單元設(shè)備、清洗單元設(shè)備、涂料單元設(shè)備、真空干燥器、預(yù)烘機、膜厚測量設(shè)備、掃描儀或調(diào)整設(shè)備、顯影設(shè)備、光學(xué)檢查設(shè)備、烘烤單元設(shè)備以及卸料單元設(shè)備。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的產(chǎn)線設(shè)備異常反饋方法,其特征在于,所述清洗單元設(shè)備出現(xiàn)異常時,清洗單元設(shè)備控制模塊停止清洗單元設(shè)備的運行,清洗單元設(shè)備轉(zhuǎn)移模塊接受到異常信號,停止順序運行載入單元設(shè)備以及清洗單元設(shè)備的運行,并開啟產(chǎn)線設(shè)備運行模塊,控制涂料單元設(shè)備、真空干燥器、預(yù)烘機、膜厚測量設(shè)備、掃描儀或調(diào)整設(shè)備、顯影設(shè)備、光學(xué)檢查設(shè)備、烘烤單元設(shè)備以及卸料單元設(shè)備依次運行。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的產(chǎn)線設(shè)備異常反饋方法,其特征在于,所述卸料單元運行完畢后,啟動產(chǎn)線設(shè)備結(jié)束模塊,停止所有設(shè)備運行。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的產(chǎn)線設(shè)備異常反饋方法,其特征在于,所述設(shè)備發(fā)生異常,對應(yīng)的單元設(shè)備轉(zhuǎn)移模塊控制異常設(shè)備之后的產(chǎn)線設(shè)備運行模塊的開啟。
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