[發明專利]一種硅片激光制絨工藝

在審

• 申請號: 201710615674.6
• 申請日: 2017-07-26
• 公開（公告）號: CN109308998A
• 公開（公告）日: 2019-02-05
• 發明（設計）人: 李亞哲;王彥君;孫晨光;徐長坡;陳澄;武衛;梁效峰;黃志煥;楊玉聰;李麗娟;董文一
• 申請（專利權）人: 天津環鑫科技發展有限公司
• 主分類號: H01L21/268
• 分類號: H01L21/268;H01L21/02
• 代理公司: 天津諾德知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 12213
• 代理人: 欒志超

1.一種硅片激光制絨工藝，其特征在于：包括如下步驟：

1)去除硅片表面擴散后的形成層：采用玻璃腐蝕液去除擴散后處理的硅片表面擴散后的形成層并清洗；

2)激光制絨：清洗后的硅片使用激光器在硅片表面進行全片掃描。

2.根據權利要求1所述的一種硅片激光制絨工藝，其特征在于：所述步驟2)激光制絨具體步驟為：應用激光器對所述清洗后的硅片的一個表面進行全面掃描，掃描完成后，對所述硅片另一表面進行全面掃描。

3.根據權利要求1或2所述的一種硅片激光制絨工藝，其特征在于：所述步驟1)包括如下步驟：

A.擴散后的硅片浸泡在所述玻璃腐蝕液中；

B.浸泡后的硅片進行超聲清洗；

C.超聲清洗后的硅片進行水清洗；

D.溢水清洗后的硅片進行硝酸清洗；

E.硝酸清洗后的硅片進行水清洗；

F.溢水清洗后的硅片進行甩干。

4.根據權利要求3所述的一種硅片激光制絨工藝，其特征在于：所述步驟A中所述的玻璃腐蝕液為按一定比例混合的氫氟酸銨、草酸、硫酸銨、甘油、硫酸鋇和熱純水。

5.根據權利要求4所述的一種硅片激光制絨工藝，其特征在于：所述一定比例為按照重量比例為20-30％：10-20％：10-20％：0-10％：20-30％：10-20％的比例進行混合進行混合。

6.根據權利要求3-5任一項所述的一種硅片激光制絨工藝，其特征在于：所述步驟B中所述的超聲清洗為一次超聲清洗。

7.根據權利要求3-6任一項所述的一種硅片激光制絨工藝，其特征在于：所述步驟C中的清洗為一級溢水清洗。

8.根據權利要求3-7任一項所述的一種硅片激光制絨工藝，其特征在于：所述步驟E中的水清洗為四級溢水清洗。

9.根據權利要求1-8任一項所述的一種硅片激光制絨工藝，其特征在于：還包括制絨后清洗：采用酸溶液浸泡清洗，所述酸溶液清洗后進行水清洗并甩干，所述水清洗為兩級溢水清洗。

10.根據權利要求9所述的一種硅片激光制絨工藝，其特征在于：所述的酸溶液為氫氟酸溶液。