[發明專利]一種GPP芯片鍍金方法在審
| 申請號: | 201710615666.1 | 申請日: | 2017-07-26 |
| 公開(公告)號: | CN109309000A | 公開(公告)日: | 2019-02-05 |
| 發明(設計)人: | 梁效峰;王彥君;孫晨光;徐長坡;陳澄;武衛;王鵬;楊玉聰;韓義勝;張慶東;尚杰;丁成 | 申請(專利權)人: | 天津環鑫科技發展有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/288 | 分類號: | H01L21/288 |
| 代理公司: | 天津諾德知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 12213 | 代理人: | 欒志超 |
| 地址: | 300380 天津市西青區*** | 國省代碼: | 天津;12 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 鍍鎳 鍍金 鎳層 燒結 表面鍍 結合力 硅層 預處理 表面氧化層 表面原子 使用壽命 電極面 鎳原子 有效地 焊膏 活化 去除 焊接 擴散 | ||
1.一種GPP芯片鍍金方法,其特征在于,包括以下步驟:
預處理:去除GPP芯片表面氧化層,使所述GPP芯片表面原子活化;
一次鍍鎳:在所述GPP芯片表面鍍一次鎳;
鎳燒結:使鎳原子向所述GPP芯片內部擴散,鎳層與硅層相互結合;
二次鍍鎳:在所述GPP芯片表面鍍二次鎳;
鍍金;在所述GPP芯片表面鍍金。
2.根據權利要求1所述的一種GPP芯片鍍金方法,其特征在于:所述一次鍍鎳步驟,是在PH值為7-10的堿性環境下,調節溫度到60-100℃,將GPP芯片浸泡于鍍鎳液中進行一次鍍鎳。
3.根據權利要求1或2所述的一種GPP芯片鍍金方法,其特征在于:所述鎳燒結步驟,在溫度為500-650℃的溫度下對所述GPP芯片進行燒結。
4.根據權利要求3所述的一種GPP芯片鍍金方法,其特征在于:所述二次鍍鎳是在PH值為7-10的堿性環境下,調節溫度到60-100℃,將所述GPP芯片浸泡于鍍鎳液中進行二次鍍鎳。
5.根據權利要求1-4任一所述的一種GPP芯片鍍金方法,其特征在于:所述鍍金步驟,是在酸性條件下,溫度調節到60-100℃,將所述GPP芯片浸泡于鍍金液中進行鍍金。
6.根據權利要求1-4任一所述的一種GPP芯片鍍金方法,其特征在于:還包括鍍金步驟后的測試步驟,具體為:
根據芯片尺寸,設定電壓值測試條件;
利用測試裝置,根據所述測試條件測試芯片的電學特性;
測試裝置利用脈沖信號對所述芯片進行電性測試,記錄電性數據。
7.根據權利要求6所述的一種GPP芯片鍍金方法,其特征在于:所述測試裝置為測試針板,所述測試針板包括測試針和固定測試針的底板,利用所述測試針板測試芯片的電學特性包括:
將測試針按照芯片上印刷的圖形排列成對應形狀并固定在底板上;
測試時將測試針通電,測試芯片的電學特性。
8.根據權利要求6所述的一種GPP芯片鍍金方法,其特征在于:還包括測試步驟后的劃片步驟,從P面自動將芯片對準,利用皮秒激光器或飛秒激光器從N面進行劃片,具體包括:
調整載片臺的X,Y方向以及θ角度,利用劃片機上的圖像傳感器從P面將芯片對準,并記錄產品信息;
根據所述產品信息,讀取預存的劃片參數,利用所述皮秒激光器或飛秒激光器從N面進行劃片。
9.根據權利要求8所述的一種GPP芯片鍍金方法,其特征在于:還包括劃片步驟后的裂片步驟,利用裂片棒對所述GPP芯片進行裂片,所述裂片棒對所述GPP芯片的裂片壓力為5N~10N,所述裂片棒在所述GPP芯片上的裂片速度是80~200mm/s。
10.根據權利要求1所述的一種GPP芯片鍍金方法,其特征在于:所述預處理步驟中,還包括清洗步驟,所述清洗包括:
將去除氧化層后的所述GPP芯片在水槽中進行超聲溢流清洗;
將所述GPP芯片用氫氟酸溶液對表面進行清洗,所述氫氟酸溶液的濃度為2%-10%,浸泡10-30min;
用純水進行清洗。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于天津環鑫科技發展有限公司,未經天津環鑫科技發展有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710615666.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





