[發明專利]雙面拋光機漿料循環系統

有效

• 申請號: 201710613270.3
• 申請日: 2017-07-25
• 公開（公告）號: CN107186606B
• 公開（公告）日: 2018-10-16
• 發明（設計）人: 胡吉海;陳新華;唐榮安;周益民;羅傳英;李云川
• 申請（專利權）人: 中國電子科技集團公司第二十六研究所
• 主分類號: B24B29/06
• 分類號: B24B29/06;B24B13/01;B24B41/00;B24B41/06
• 代理公司: 重慶博凱知識產權代理有限公司 50212
• 代理人: 李海華

本發明公開了一種雙面拋光機漿料循環系統，包括內外齒圈和環狀的上下磨盤，在下磨盤的內圓周面上固定有一塊水平環狀的內擋水圈，內擋水圈內邊沿設有一圈向上的內擋水板，內擋水板上端高度大于下磨盤上放置游星輪后的高度；在內齒圈下表面設有一圈與內擋水板對應的內溝槽，內擋水板伸入內溝槽內，且內擋水板和內溝槽之間具有互不影響轉動的間隙；內擋水圈、內擋水板和下磨盤內圓周面形成橫截面為U型且開口向上的環形內接料槽。同樣地，在下磨盤的外圓周面上固定有外擋水圈、外擋水板結構。本漿料循環系統結構簡單，大大減少拋光料使用量，工件碎屑等雜質易清洗。

技術領域

本發明涉及拋光加工，具體涉及拋光加工中的雙面拋光機漿料循環系統，該系統可用于各種玻璃、晶圓、晶塊拋光加工，屬于光學冷加工、晶體材料加工領域。

背景技術

雙面拋光機因其效率高，產品平行度好，產品厚度一致性好等特點大規模應用于顯示屏拋光、光學玻璃拋光、機械平面拋光、半導體和LED基片窗口片拋光等領域，是目前使用最廣泛的拋光設備之一。歐美日等國家生產的雙面拋光機因其精度高、穩定性好等優點占據了國內高端市場，其售價是國內同類產品的3-5倍，單臺價格往往都超過100萬元人民幣。通常拋光機主要由內齒圈、外齒圈、上磨盤、下磨盤、游星輪和漿料循環系統構成，內齒圈位于外齒圈內部并同心設置，在上磨盤的下表面和下磨盤的上表面分別設置有一層拋光革，游星輪放置在下磨盤拋光革上，游星輪同時與內外齒圈嚙合，在游星輪上開設有工件放置腔。加工時，將工件放置在游星輪的工件放置腔內，然后啟動設備，上磨盤下移，使上下磨盤上的拋光革分別與工件的上下表面接觸并施加適當的壓力，上下磨盤分別按設定轉速轉動，同時拋光漿料從上磨盤中均勻分布的孔道中流出并將工件浸泡，開始拋光。內外齒圈同時轉動帶動游星輪轉動，內外齒圈的轉速快慢決定游星輪轉動快慢和正反轉。

漿料循環是拋光機重要構成部分，循環質量的好壞直接關系產品拋光質量。國外的拋光機拋光漿料循環系統為了滿足耐腐蝕、易清洗、漿料利用率高等要求，往往都設計了供料泵、攪拌泵、供料箱體、循環管路、承料盤等組成的漿料循環體系，不但結構復雜，而且參與循環的漿料用料很多，否則循環不起來，因此漿料循環系統占了設備成本的較大一部分。而國內設備在漿料循環系統上即使采用同樣設計，但是制造材料和工藝方面的短板，存在工件易產生劃道，工件碎屑等雜質不易清洗干凈等問題。

發明內容

針對現有技術存在的上述不足，本發明的目的在于提供一種雙面拋光機漿料循環系統，本漿料循環系統結構簡單，大大減少拋光料使用量，工件碎屑等雜質易清洗，從而降低晶片生產成本。

為了實現上述目的，本發明采用的技術方案如下：

雙面拋光機漿料循環系統，包括內外齒圈和環狀的上下磨盤，上磨盤和下磨盤上下對應設置并位于內外齒圈之間，其特征在于：

在下磨盤的內圓周面上固定有一塊水平環狀的內擋水圈，內擋水圈內邊沿設有一圈向上的內擋水板，內擋水板上端高度大于下磨盤上放置游星輪后的高度；在內齒圈下表面設有一圈與內擋水板對應的內溝槽，內擋水板伸入內溝槽內，且內擋水板和內溝槽之間具有互不影響轉動的間隙；內擋水圈、內擋水板和下磨盤內圓周面形成橫截面為U型且開口向上的環形內接料槽；

在下磨盤的外圓周面上固定有一塊水平環狀的外擋水圈，外擋水圈外邊沿設有一圈向上的外擋水板，外擋水板上端高度大于下磨盤上放置游星輪后的高度；在外齒圈下表面設有一圈與外擋水板對應的外溝槽，外擋水板伸入外溝槽內，且外擋水板和外溝槽之間具有互不影響轉動的間隙；外擋水圈、外擋水板和下磨盤外圓周面形成橫截面為U型且開口向上的環形外接料槽。

在內擋水圈或者/和外擋水圈上間隔設有若干排料孔，排料孔通過堵頭可打開或者封堵。

在內擋水圈和下磨盤內圓周面之間以及外擋水圈和下磨盤外圓周面之間設有密封機構以防止漿料泄漏。