[發明專利]雙面拋光機漿料循環系統有效
| 申請號: | 201710613270.3 | 申請日: | 2017-07-25 |
| 公開(公告)號: | CN107186606B | 公開(公告)日: | 2018-10-16 |
| 發明(設計)人: | 胡吉海;陳新華;唐榮安;周益民;羅傳英;李云川 | 申請(專利權)人: | 中國電子科技集團公司第二十六研究所 |
| 主分類號: | B24B29/06 | 分類號: | B24B29/06;B24B13/01;B24B41/00;B24B41/06 |
| 代理公司: | 重慶博凱知識產權代理有限公司 50212 | 代理人: | 李海華 |
| 地址: | 400060 *** | 國省代碼: | 重慶;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 雙面 拋光機 漿料 循環系統 | ||
1.雙面拋光機漿料循環系統,包括內外齒圈和環狀的上下磨盤,上磨盤和下磨盤上下對應設置并位于內外齒圈之間,其特征在于:
在下磨盤的內圓周面上固定有一塊水平環狀的內擋水圈,內擋水圈內邊沿設有一圈向上的內擋水板,內擋水板上端高度大于下磨盤上放置游星輪后的高度;在內齒圈下表面設有一圈與內擋水板對應的內溝槽,內擋水板伸入內溝槽內,且內擋水板和內溝槽之間具有互不影響轉動的間隙;內擋水圈、內擋水板和下磨盤內圓周面形成橫截面為U型且開口向上的環形內接料槽;
在下磨盤的外圓周面上固定有一塊水平環狀的外擋水圈,外擋水圈外邊沿設有一圈向上的外擋水板,外擋水板上端高度大于下磨盤上放置游星輪后的高度;在外齒圈下表面設有一圈與外擋水板對應的外溝槽,外擋水板伸入外溝槽內,且外擋水板和外溝槽之間具有互不影響轉動的間隙;外擋水圈、外擋水板和下磨盤外圓周面形成橫截面為U型且開口向上的環形外接料槽。
2.根據權利要求1所述的雙面拋光機漿料循環系統,其特征在于:在內擋水圈或者/和外擋水圈上間隔設有若干排料孔,排料孔通過堵頭可打開或者封堵。
3.根據權利要求1所述的雙面拋光機漿料循環系統,其特征在于:在內擋水圈和下磨盤內圓周面之間以及外擋水圈和下磨盤外圓周面之間設有密封機構以防止漿料泄漏。
4.根據權利要求3所述的雙面拋光機漿料循環系統,其特征在于:所述密封機構由涂抹于內擋水圈和下磨盤內圓周面之間以及涂抹于外擋水圈和下磨盤外圓周面之間的石蠟形成,石蠟同時涂抹在環形內接料槽和環形外接料槽的槽底部以調節接料槽的深度。
5.根據權利要求4所述的雙面拋光機漿料循環系統,其特征在于:在外擋水圈上設有排料孔,石蠟涂抹在環形內接料槽的高度略低于下磨盤上表面高度。
6.根據權利要求1所述的雙面拋光機漿料循環系統,其特征在于:所述內擋水圈和內擋水板一體成型;所述外擋水圈和外擋水板一體成型。
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