[發(fā)明專利]一種沉積管內(nèi)壁涂層的電弧離子鍍設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710608226.3
• 申請日: 2017-07-24
• 公開（公告）號: CN107227445B
• 公開（公告）日: 2019-01-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 華偉剛;曲士廣
• 申請（專利權(quán)）人: 曲士廣;華偉剛
• 主分類號: C23C14/32
• 分類號: C23C14/32;C23C14/04
• 代理公司: 沈陽優(yōu)普達知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 21234
• 代理人: 張志偉

1.一種沉積管內(nèi)壁涂層的電弧離子鍍設(shè)備，其特征在于，該設(shè)備包括置于真空室內(nèi)的管狀等離子靶材、管狀真空聚焦永磁體、等離子弧引弧裝置；其中，管狀等離子靶材的兩端通過絕緣密封法蘭與真空室殼連接上，管狀工件非接觸套于管狀等離子靶材上，兩組以上的管狀真空聚焦永磁體在管狀等離子靶材管內(nèi)沿管向按反向磁極順序排放，聚焦控制分布電弧，離化弧靶材料；等離子弧引弧裝置通過絕緣密封法蘭安裝在真空室上，等離子弧引弧裝置通過旋轉(zhuǎn)觸發(fā)引弧，管狀等離子靶材兩端連接偱環(huán)水冷卻裝置。

2.按照權(quán)利要求1所述的沉積管內(nèi)壁涂層的電弧離子鍍設(shè)備，其特征在于，等離子弧引弧裝置包括露于真空室外部的旋轉(zhuǎn)柄以及位于真空室內(nèi)與旋轉(zhuǎn)柄連接的引弧針，等離子弧引弧裝置通過引弧針與直流電源的負(fù)極相通。

3.按照權(quán)利要求1所述的沉積管內(nèi)壁涂層的電弧離子鍍設(shè)備，其特征在于，真空室殼體與管狀等離子靶材之間連接有直流電源，真空室殼體與直流電源的正極相連，管狀等離子靶材與直流電源的負(fù)極相連。

4.按照權(quán)利要求1所述的沉積管內(nèi)壁涂層的電弧離子鍍設(shè)備，其特征在于，絕緣密封法蘭包括一面凹形的法蘭I與一面凸形的法蘭II，法蘭I的凹形面與法蘭II的凸形面相對應(yīng)，形成凹凸配合中間非接觸結(jié)構(gòu)。