[發明專利]一種開放式光罩存儲裝置

有效

• 申請號: 201710607022.8
• 申請日: 2017-07-24
• 公開（公告）號: CN107255904B
• 公開（公告）日: 2020-11-17
• 發明（設計）人: 楊政諭
• 申請（專利權）人: 亞翔系統集成科技（蘇州）股份有限公司
• 主分類號: G03F1/66
• 分類號: G03F1/66;B01D46/00
• 代理公司: 蘇州翔遠專利代理事務所(普通合伙) 32251
• 代理人: 陸金星

本發明公開了一種開放式光罩存儲裝置，包括存儲箱體，所述存儲箱體一側的下部為敞口結構，該敞口結構的正上方設有出風口，由該出風口流出的氣流向下運動，形成氣墻并覆蓋所述敞口結構；所述存儲箱體內的上部設有化學過濾器、風機和空氣過濾器；所述存儲箱體內的下部設有至少1層光罩承載架，光罩承載架的外側臨近所述敞口結構，光罩承載架的內側與存儲箱體構成回風通道。本發明通過將存儲箱體一側的設計為敞口結構，通過該敞口結構進行光罩的拿取和存放，從而避免了現有技術中門的存在而帶來的搬運不便的問題。

技術領域

本發明涉及一種存儲裝置，具體涉及一種開放式光罩存儲裝置。

背景技術

光罩，業內又稱光掩模版、掩膜版，英文名稱MASK或reticle，材質由石英玻璃、金屬鉻組成，該產品是用于將圖案透過光刻工藝反復將圖形復制于生產的產品上，被廣泛應用于近代電子、半導體、平面顯示器、LED等產業。由于光罩的圖形的反復復制特性，從量產角度來看，光罩的圖形，不容許有多出來或消失的圖形。

當前微電子制造技術迅速發展，因此相應的產品對生產環境的要求也越來越高。對微電子制造業來說，空氣中的分子級空氣污染物（或氣載分子污染物，簡稱AMC）和顆粒物一樣會危害產品并直接導致成品率降低。分子級空氣污染物以氣態形式存在，高效空氣粒子過濾器（HEPA）或者超高效空氣粒子過濾器(ULPA)根本無法過濾掉AMC。所以微電子廠房內分子級空氣污染的控制越來越重要。目前，AMC國際分類標準有ITRS、SEMI、ISO 14644-8和JACA 35等標準，而最常用的是SEMI（國際半導體技術與材料協會SEMI F21-1102）。標準對AMC分四類：酸性AMC（MA）、堿性AMC（MB）、凝結物AMC（MC）、及摻雜物質AMC（MD）。

上述的AMC，在光刻過程中，由于使用光波長具有一定的能量，往往會使得在光罩內的AMC分子態氣體在光罩圖形上形成結晶反應并沉積，進而改變光罩原有的圖形。

因此，為了避免AMC對光罩的影響，出現了光罩存儲裝置。現有的光罩存儲裝置參見圖1~2所示，主要包括存儲箱體1，存儲箱體的一側設有門2（該門作為光罩的進出口），存儲箱體的頂部設有風機3和超高效空氣粒子過濾器4（以不斷地將潔凈空氣送入存儲箱體內），存儲箱體的內部為光罩存放區，其可以設有多層支架5以承載光罩6。氣流流動方向參見圖2所示。需要移取光罩時，先打開所述的門，然后再進行搬運。然而，實際應用中發現如下問題：(1) 由于現有的光罩尺寸較大（一般為800×600mm），從門口搬運時，因為有門的存在，導致搬運不方便，最終甚至需要拆除門；(2) 由于ULPA無法過濾掉AMC，因此需要在風機入口處安裝化學過濾器，然而這種做法會嚴重影響化學過濾器的壽命，從而導致成本較高。

因此，開發一種新的光罩存儲裝置，在方便搬運的同時可以大大提高化學過濾器的壽命，以降低成本，顯然具有積極的現實意義。

發明內容

本發明的目的是提供一種開放式光罩存儲裝置。

為達到上述發明目的，本發明采用的技術方案是：一種開放式光罩存儲裝置，包括存儲箱體，所述存儲箱體一側的下部為敞口結構，該敞口結構的正上方設有出風口，由該出風口流出的氣流向下運動，形成氣墻并覆蓋所述敞口結構；

所述存儲箱體內的上部設有化學過濾器、風機和空氣過濾器；所述存儲箱體內的下部設有至少1層光罩承載架，光罩承載架的外側臨近所述敞口結構，光罩承載架的內側與存儲箱體構成回風通道；

從空氣過濾器出來的潔凈氣體由出風口向下運動，部分潔凈氣體流經光罩承載架進入所述回風通道，回風通道的出口與所述化學過濾器、空氣過濾器連通，從而形成氣流循環。

上文中，所述存儲箱體一側的下部為敞口結構，可以方便光罩的拿取和存放。