[發明專利]一種開放式光罩存儲裝置有效
| 申請號: | 201710607022.8 | 申請日: | 2017-07-24 |
| 公開(公告)號: | CN107255904B | 公開(公告)日: | 2020-11-17 |
| 發明(設計)人: | 楊政諭 | 申請(專利權)人: | 亞翔系統集成科技(蘇州)股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/66 | 分類號: | G03F1/66;B01D46/00 |
| 代理公司: | 蘇州翔遠專利代理事務所(普通合伙) 32251 | 代理人: | 陸金星 |
| 地址: | 215126 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 開放式 存儲 裝置 | ||
1.一種開放式光罩存儲裝置,其特征在于:包括存儲箱體(1),所述存儲箱體一側的下部為敞口結構,該敞口結構的正上方設有出風口(7),由該出風口流出的氣流向下運動,形成氣墻并覆蓋所述敞口結構;
所述存儲箱體內的上部設有化學過濾器(8)、風機(3)和空氣過濾器;所述存儲箱體內的下部設有至少1層光罩承載架(9),光罩承載架的外側臨近所述敞口結構,光罩承載架的內側與存儲箱體構成回風通道(10);
從空氣過濾器出來的潔凈氣體由出風口向下運動,部分潔凈氣體流經光罩承載架進入所述回風通道,回風通道的出口與所述化學過濾器、空氣過濾器連通,從而形成氣流循環;
所述存儲箱體內的光罩承載架為多層,從上到下,各層光罩承載架的外側向外伸出的長度逐漸增加。
2.根據權利要求1所述的開放式光罩存儲裝置,其特征在于:所述存儲箱體上還設有新鮮空氣補入口(11)。
3.根據權利要求1所述的開放式光罩存儲裝置,其特征在于:所述存儲箱體內的上部依次設有化學過濾器、風機和空氣過濾器。
4.根據權利要求1所述的開放式光罩存儲裝置,其特征在于:所述存儲箱體內還設有溫度控制裝置(12)。
5.根據權利要求1所述的開放式光罩存儲裝置,其特征在于:所述存儲箱體內的光罩承載架為多層,光罩承載架的內側設有復數個通風口以與所述回風通道連通;且從上到下,各層光罩承載架上的通風口的總面積逐漸變小。
6.根據權利要求1所述的開放式光罩存儲裝置,其特征在于:所述空氣過濾器為超高效空氣粒子過濾器。
7.根據權利要求1所述的開放式光罩存儲裝置,其特征在于:所述出風口流出的氣流方向平行于所述敞口結構所在的平面。
8.根據權利要求1所述的開放式光罩存儲裝置,其特征在于:所述出風口處的外側設有引流板(14),引流板與出風口的外側壁之間形成引流口,由出風口流出的主氣流和引流口流出的引氣流一同形成氣墻。
9.根據權利要求1所述的開放式光罩存儲裝置,其特征在于:從所述出風口流出的氣流的流速與所述敞口結構的高度之比為3~4 m/s:1.5~2.5 m。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





