[發明專利]柔性OLED顯示器件及制作方法有效
| 申請號: | 201710606853.3 | 申請日: | 2017-07-24 |
| 公開(公告)號: | CN107546246B | 公開(公告)日: | 2020-10-16 |
| 發明(設計)人: | 張明;王杲禎 | 申請(專利權)人: | 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32;H01L51/56;G09F9/30 |
| 代理公司: | 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黃威 |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市東湖新技術*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 柔性 oled 顯示 器件 制作方法 | ||
1.一種柔性OLED顯示器件的制作方法,包括在襯底基板上制作陽極金屬的步驟,其特征在于,所述方法還包括以下步驟:
步驟S101、在所述襯底基板上制備一有機膜層,所述有機膜層經圖案化后形成隔離柱;
步驟S102、在所述襯底基板上制備一無機膜層,所述無機膜層經圖案化后形成覆蓋所述隔離柱的隔離膜;
步驟S103、在所述襯底基板上涂覆一層第一光刻膠;
所述隔離膜的厚度小于或等于0.5um。
2.根據權利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述步驟S101包括:
在所述有機膜層上涂覆一層第二光刻膠,將所述第二光刻膠進行曝光、顯影以形成第二光刻膠圖案,然后將所述有機膜層未覆蓋所述第二光刻膠的部分進行蝕刻,最后將所述有機膜層表面的所述第二光刻膠進行剝離,形成隔離柱。
3.根據權利要求2所述的制作方法,其特征在于,所述步驟S102包括:
在所述無機膜層上涂覆一層第三光刻膠,將所述第三光刻膠進行曝光、顯影以形成第三光刻膠圖案,然后將所述無機膜層未覆蓋所述第三光刻膠的部分進行蝕刻,最后將所述無機膜層表面的所述第三光刻膠進行剝離,形成隔離膜。
4.根據權利要求1所述的制作方法,其特征在于,制備所述有機膜層所采用的光罩和制備所述無機膜層所采用的光罩為同一光罩。
5.根據權利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述隔離膜貼合于所述隔離柱表面。
6.根據權利要求5所述的制作方法,其特征在于,所述陽極金屬形成有陣列分布的多個陽極板,所述隔離柱與對應的所述隔離膜位于相鄰兩個所述陽極板之間。
7.根據權利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述無機膜層的材料為Al2O3、SiNx、SiOx的一者或一者以上的組合。
8.根據權利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述隔離膜的厚度小于所述隔離柱的厚度。
9.一種根據權利要求1-8任一項權利要求所述的制作方法制成的柔性OLED顯示器件,其特征在于,所述柔性OLED顯示器件包括襯底基板、陽極層、像素界定層、傳輸層、發光層以及陰極層,其中所述像素界定層包括隔離柱以及隔離膜。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





