[發明專利]調節光學裝置的方法

有效

• 申請號: 201710604021.8
• 申請日: 2017-07-13
• 公開（公告）號: CN107621756B
• 公開（公告）日: 2021-11-09
• 發明（設計）人: J·拜耳;S·弗里切;F·施羅德
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 邱軍;王蕊瑞

一種調節尤其是光刻設備(100A、100B)的光學裝置(200)的方法，所述光學裝置包括可移動部件(326，700)、參考部件(318，346，702)和光學部件(202，706)，其中可移動部件(326，700)由機械操作連接件(328，704)連接到光學部件(202，706)，該方法包括以下步驟：a)將可移動部件(326，700)關于參考部件(318，346，702)固定在機械限定的位置(NP)(S1)，b)光學測量光學部件(202，706)，以獲取光學測量結果(OM)(S2)，以及c)根據光學測量結果(OM)調節光學裝置(200)(S8)。

技術領域

本發明涉及一種調節光學裝置，尤其是光刻設備的光學裝置的方法。

背景技術

微光刻用于制造微結構化部件，比如集成電路。用光刻設備執行微光刻工藝，光刻設備包括照明系統和投射系統。通過照明系統照明的掩模(掩模母版)的像在此情況下通過投射系統投射到涂布有光敏感層(光致抗蝕劑)且布置在投射系統的像平面中的基板(即，硅晶片)上，以將掩模結構轉印到基板的光敏感涂層。

由在集成電路的制造中對于越來越小的結構的期望的驅使，當前正在研究的EUV光刻設備采用具有范圍為0.1nm至30nm的波長的光，尤其是13.5nm。在這樣的EUV光刻設備的情況下，由于具有此波長的光受大多數材料的高吸收，必須使用反射光學單元(也就是說反射鏡)取代(如早前的)折射光學單元(也就是說透鏡元件)。

反射鏡可以實施為所謂的分面反射鏡，其中這樣的分面反射鏡通常在每個情況下具有數百個分面。每個分面被分配驅動裝置，例如洛倫茲致動器，相應的分面借助于驅動裝置可傾斜。在此情況下，電磁致動器致動驅動柱塞上提供的磁體元件，驅動柱塞還承載分面。由于安裝和制造公差，使驅動裝置的部件關于彼此對準是復雜的。

DE 10 2014 216 075 A1描述了包括至少一個單獨的反射鏡的反射鏡布置，至少一個單獨的反射鏡具有反射鏡體、軸、承載結構以及致動器，其中反射鏡體連接到軸且以可偏轉方式從承載結構懸掛，其中致動器具有驅動元件，其布置在軸上且產生電場和/或磁場，以及驅動系統，其在驅動元件上施加第一力，以偏轉反射鏡體，其中，在反射鏡體的偏轉的狀態下，指向軸的非偏轉的位置的恢復力作用在軸上，并且其中單獨的反射鏡還具有用于屏蔽電場和/或磁場的屏蔽元件以及補償系統，以產生第二力，其疊加在恢復力上。

DE 10 2012 223 034 A1公開了包括分面反射鏡的微光刻投射曝光設備的照明系統，分面反射鏡具有承載結構和從而承載的多個單獨可調節的反射鏡分面。經由彎曲部，反射鏡分面連接到承載結構，使得其關于兩個正交軸可傾斜。反射鏡分面還剛性地連接到致動桿，使得通過致動器產生的致動桿的偏轉，使反射鏡分面關于軸傾斜。每個彎曲部包括至少三個接合支架，接合支架布置在致動桿周圍，并且在一端緊固到承載結構且在另一端緊固到反射鏡分面或部分剛性地與其連接，其中在致動桿偏轉時，接合支架彎曲。

WO 2014/060169 A1描述了光刻設備，其包括多重的可調節反射鏡。每個反射鏡由致動器可驅動，致動器具有可移動部件和外殼。借助于致動器，相應的反射鏡相對于外殼以兩個自由度可傾斜。

發明內容

在此背景下，本發明的目標是提供調節光學裝置的改善的方法。

相應地，提出了一種調節光學裝置的方法，尤其是調節光刻設備的光學裝置的方法，光學裝置包括可移動部件、參考部件以及光學部件，其中可移動部件以機械操作連接件連接到光學部件。所述方法包括以下步驟：a)將可移動部件關于參考部件固定在機械限定的位置，b)光學測量光學部件，以獲取光學測量結果，以及c)根據光學測量結果調節光學裝置。

通過調節光學裝置實現的是，可以同時達到光學部件的光學有效表面的光學零位置和可移動部件的零位置，也就是說機械零位置。也就是說，為達到光學零位置，可移動部件不必已經被偏轉。因此，為達到光學零位置，也不必對可移動部件施加調節力。因此，光學部件可傾斜的可達到角度范圍最大化，或用于驅動可移動部件的致動器的相應地能量消耗最小化。