[發明專利]調節光學裝置的方法

有效

• 申請號: 201710604021.8
• 申請日: 2017-07-13
• 公開（公告）號: CN107621756B
• 公開（公告）日: 2021-11-09
• 發明（設計）人: J·拜耳;S·弗里切;F·施羅德
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 邱軍;王蕊瑞

1.一種調節光學裝置(200)的方法，所述光學裝置(200)包括可移動部件(326，700)、參考部件(318，346，702)以及光學部件(202，706)，其中所述可移動部件(326，700)由機械操作連接件(328，704)連接到所述光學部件(202，706)，所述方法包括以下步驟：

a)將所述可移動部件(326，700)關于所述參考部件(318，346，702)固定在機械限定的位置(NP)(S1)，

b)光學測量所述光學部件(202，706)，以獲取光學測量結果(OM)(S2)，以及

c)根據所述光學測量結果(OM)調節所述光學裝置(200)(S8)。

2.根據權利要求1所述的方法，其中所述光學裝置用于光刻設備(100A、100B)。

3.根據權利要求1所述的方法，其中為步驟a)中的所述固定提供工具(500，701)，所述工具關于所述參考部件(318，346，702)機械固定所述光學部件(202，706)。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的方法，其中步驟b)包括檢測所述光學部件(202，706)的實際束偏移(IA)，其中將所述檢測的實際束偏移(IA)與設定點束偏移(SA)比較，并且根據比較結果執行調節所述光學裝置(200)。

5.根據權利要求1至3中任一項所述的方法，其中步驟c)中的所述調節包括更改所述光學裝置(200)的至少一個部件(202，308，326，328，346，700，704，706，707)的幾何形狀、取向和/或位置、剛度、電場和/或磁場(708)。

6.根據權利要求5所述的方法，其中通過機械處理來更改所述幾何形狀。

7.根據權利要求5所述的方法，其中所述至少一個部件為所述可移動部件(326，700)、所述光學部件(202，706)、磁放大環(346)、致動所述可移動部件(326，700)的致動器(308，707)、恢復所述可移動部件(326，700)的恢復彈簧(332、334)和/或由所述機械操作連接件(328，704)所包括的部件。

8.根據權利要求5所述的方法，其中，為改變所述可移動部件(326，700)的取向和/或位置的目的，間隔體元件(350)插設在所述可移動部件與所述機械操作連接件(704)的驅動柱塞(328)之間。

9.根據權利要求8所述的方法，其中所述間隔體元件(350)的幾何形狀適配為使得所述可移動部件(326，700)的取向和/或位置改變。

10.根據權利要求1至3中任一項所述的方法，其中所述可移動部件(700)為磁體元件(326)。

11.根據權利要求10所述的方法，其中所述磁體元件(326)借助于電磁致動器(308)可移動。

12.根據權利要求1至3中任一項所述的方法，其中所述參考部件(702)為載體板(318)，所述可移動部件(326，700)安裝在所述載體板上，和/或其中所述參考部件(702)為用于電磁致動器(308)的場(708)的放大的磁放大環(346)。

13.根據權利要求12所述的方法，其中所述電磁致動器(308)由致動器板(302)保持。

14.根據權利要求13所述的方法，其中所述致動器板(302)借助于接口(314、316、320、322)相對于所述載體板(318)定位。

15.根據權利要求1至3中任一項所述的方法，其中所述光學部件(706)為光反射部件。