[發(fā)明專利]陣列基板及其制作方法、顯示裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710601282.4 | 申請(qǐng)日: | 2017-07-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109283758B | 公開(公告)日: | 2021-09-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張國林;程久陽;鄒佳洪;肖文豪;李俊良;馬一鴻 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1362 | 分類號(hào): | G02F1/1362;H01L27/12 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 焦玉恒 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 陣列 及其 制作方法 顯示裝置 | ||
1.一種陣列基板,包括:
襯底基板;
沿第一方向延伸的第一信號(hào)線,設(shè)置在所述襯底基板上;
沿第二方向延伸的第二信號(hào)線,設(shè)置在所述第一信號(hào)線遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)且與所述第一信號(hào)線彼此絕緣,所述第一方向與所述第二方向彼此交叉,
其中,所述第一信號(hào)線面向所述第二信號(hào)線的一側(cè)設(shè)置有凹槽,所述凹槽位于所述第一信號(hào)線與所述第二信號(hào)線之間的交匯處,在所述交匯處,所述第二信號(hào)線在所述襯底基板上的正投影完全落入所述凹槽在所述襯底基板的正投影內(nèi),
其中,所述第一信號(hào)線還包括位于所述凹槽兩側(cè)的第一部分與第二部分,所述第一部分包括與所述凹槽連接的第一連接部,所述第二部分包括與所述凹槽連接的第二連接部,沿所述第二方向,所述凹槽的最大尺寸大于所述第一連接部和/或所述第二連接部的尺寸,
所述陣列基板還包括:
第一絕緣層,設(shè)置在所述第一信號(hào)線與所述第二信號(hào)線之間并且位于所述第一信號(hào)線遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè),
第二絕緣層,設(shè)置在所述第一信號(hào)線與所述第二信號(hào)線之間并且位于所述第一絕緣層遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè),沿垂直于所述襯底基板的方向,所述第二絕緣層的厚度與所述凹槽的深度相同,以補(bǔ)償所述第一絕緣層的遠(yuǎn)離所述襯底基板的表面由于所述凹槽產(chǎn)生的相對(duì)于所述襯底基板的高度差。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板,
其中,所述第二絕緣層在所述襯底基板上的正投影與所述凹槽在所述襯底基板上的正投影完全重合。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板,其中,沿垂直于所述襯底基板的方向,所述凹槽的深度與所述第一信號(hào)線不包括所述凹槽的部分的厚度之比不超過1:2。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列基板,其中,沿垂直于所述襯底基板的方向,所述凹槽的深度與所述第一信號(hào)線不包括所述凹槽的部分的厚度之比不超過1:2。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的陣列基板,其中,所述第一信號(hào)線和所述第二信號(hào)線之一為掃描線,另一條為數(shù)據(jù)線。
6.一種顯示裝置,包括權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的陣列基板。
7.一種陣列基板的制作方法,包括:
在襯底基板上形成沿第一方向延伸的第一信號(hào)線;
在所述第一信號(hào)線遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)形成凹槽;
在所述第一信號(hào)線上形成沿第二方向延伸的第二信號(hào)線,所述第二信號(hào)線與所述第一信號(hào)線彼此絕緣,所述第一方向與所述第二方向彼此交叉,
其中,所述凹槽位于所述第一信號(hào)線與所述第二信號(hào)線之間的交匯處,在所述交匯處,所述第二信號(hào)線在所述襯底基板上的正投影完全落入所述凹槽在所述襯底基板的正投影內(nèi),
其中,所述第一信號(hào)線還包括位于所述凹槽兩側(cè)的第一部分與第二部分,所述第一部分包括與所述凹槽連接的第一連接部,所述第二部分包括與所述凹槽連接的第二連接部,沿所述第二方向,所述凹槽的最大尺寸大于所述第一連接部和/或所述第二連接部的尺寸,
其中,形成所述第一信號(hào)線包括:
對(duì)所述第一信號(hào)線圖案化以使沿所述第二方向,待形成所述凹槽所在位置的第一信號(hào)線的最大尺寸大于所述第一連接部和/或所述第二連接部的尺寸,
其中,形成所述凹槽包括:
在所述第一信號(hào)線上形成光刻膠圖案;
以所述光刻膠圖案為掩模,刻蝕所述第一信號(hào)線以形成所述凹槽,
其中,形成所述第二信號(hào)線之前還包括:
在所述第一信號(hào)線上形成第一絕緣層,所述絕緣層位于所述凹槽的位置形成凹陷部;
對(duì)所述凹陷部填充絕緣材料以形成第二絕緣層,所述第二絕緣層的表面與所述第一絕緣層的表面平齊。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的陣列基板的制作方法,其中,形成所述凹槽包括:
在所述第一信號(hào)線上形成第一絕緣層;
對(duì)位于所述交匯處的所述第一絕緣層進(jìn)行刻蝕形成過孔以暴露出所述第一信號(hào)線;
對(duì)暴露出的所述第一信號(hào)線進(jìn)行刻蝕以形成所述凹槽。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司,未經(jīng)京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710601282.4/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種新型顯示面板及電子設(shè)備
- 下一篇:像素陣列基板
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





