[發(fā)明專利]一種基于電子束蒸發(fā)技術(shù)的TiO2高透過(guò)率高電導(dǎo)率薄膜制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710598816.2 | 申請(qǐng)日: | 2017-07-21 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107267930A | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-10-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張治國(guó) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 張治國(guó) |
| 主分類號(hào): | C23C14/30 | 分類號(hào): | C23C14/30;C23C14/08 |
| 代理公司: | 北京彭麗芳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11407 | 代理人: | 彭麗芳 |
| 地址: | 362000 福*** | 國(guó)省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 電子束 蒸發(fā) 技術(shù) tio2 透過(guò) 電導(dǎo)率 薄膜 制備 方法 | ||
1.一種基于電子束蒸發(fā)技術(shù)的TiO2高透過(guò)率高電導(dǎo)率薄膜制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
S1、將二氧化鈦粉末(顆粒)放在模具里加壓,壓制成致密的塊狀物后,取出,置于剛玉盒內(nèi),24h后放入燒結(jié)爐中,在一定的溫度下燒結(jié)成型;
S2、打開(kāi)機(jī)器將靶材放入銅質(zhì)坩堝內(nèi),將清洗干燥后的石英玻璃卡入載片盤,將電子束蒸發(fā)臺(tái)的鐘罩抽成真空,投入氫氣或氮?dú)馇逑寸娬郑訜崾⒉A秒娮邮Z擊靶材,并且控制好蒸發(fā)速率即可。
2.如權(quán)利要求1所述的一種基于電子束蒸發(fā)技術(shù)的TiO2高透過(guò)率高電導(dǎo)率薄膜制備方法,其特征在于,所述石英玻璃通過(guò)以下步驟完成清洗干燥:
取一定尺寸的玻璃,兩面用洗滌劑清洗干凈后,依次用自來(lái)水、去離子水沖洗,自然干燥后將其置于不銹鋼掛架上,依次用丙酮超聲清洗5分鐘、無(wú)水乙醇超聲清洗5分鐘、去離子水超聲清洗兩次,每次5分鐘,然后將洗好的玻璃放入烘箱干燥,待用。
3.如權(quán)利要求1所述的一種基于電子束蒸發(fā)技術(shù)的TiO2高透過(guò)率高電導(dǎo)率薄膜制備方法,其特征在于,所述步驟S1具體包括如下步驟:
S11、將二氧化鈦粉末(顆粒)裝滿直徑為2.5cm,深4cm的模具,略加振動(dòng),裝滿后倒入一清潔容器內(nèi),加入少量聚乙烯醇,攪拌均勻后裝入模具,接著加壓,當(dāng)壓力在31MPa的時(shí)候停止加壓,得致密的塊狀物;
S12、將所得的致密的塊狀物取出,放入剛玉盒中蓋好蓋。24h后將樣品盒放入燒結(jié)爐中加溫,恒溫區(qū)溫度為50℃、100℃、250℃、400℃、600℃、800℃、1000℃、1100℃。
4.如權(quán)利要求1所述的一種基于電子束蒸發(fā)技術(shù)的TiO2高透過(guò)率高電導(dǎo)率薄膜制備方法,其特征在于,所述步驟S2具體包括如下步驟:
S21、打開(kāi)電子束蒸發(fā)臺(tái)的鐘罩,將清洗干燥后的石英玻璃卡入載片盤,將制備好的靶材放入銅質(zhì)坩堝,密閉鐘罩門并且鎖死,開(kāi)啟機(jī)械泵,開(kāi)啟低真空閥,當(dāng)真空度達(dá)到10-1Pa的時(shí)候,關(guān)閉低真空閥,并向鐘罩內(nèi)充入氫氣或氮?dú)獾?.1MPa(清洗鐘罩);打開(kāi)低真空閥,當(dāng)真空度再次達(dá)到10-1Pa的時(shí)候,切換機(jī)械泵氣路控制閥到抽系統(tǒng);打開(kāi)渦輪分子泵和高真空閥,待真空度達(dá)到4×10-4Pa的時(shí)候,啟動(dòng)襯底玻璃加熱裝置和旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),在石英玻璃溫度達(dá)到450℃時(shí),真空度再次達(dá)到4×10-3Pa的時(shí)候,打開(kāi)燈絲電源,打開(kāi)6000伏高壓,緩慢調(diào)節(jié)燈絲電壓并觀察電子束打在靶上的位置,同時(shí)調(diào)節(jié)磁場(chǎng)改變電子束落點(diǎn)到合適位置;
S22、打開(kāi)薄膜測(cè)厚儀和擋板,觀察測(cè)厚儀指示數(shù)值,當(dāng)薄膜厚度達(dá)到一定厚度時(shí),關(guān)閉高壓和燈絲電壓,然后關(guān)閉測(cè)厚儀、加熱裝置、旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、高真空閥、渦輪分子泵和機(jī)械泵,機(jī)器冷卻后取出,即得。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 防止技術(shù)開(kāi)啟的鎖具新技術(shù)
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