[發明專利]一種曝光距離調整方法及裝置

有效

• 申請號: 201710596794.6
• 申請日: 2017-07-20
• 公開（公告）號: CN107315322B
• 公開（公告）日: 2018-09-07
• 發明（設計）人: 王輝;王志強;郭光龍;唐星;廖務義
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 張潤

本發明提出一種曝光距離調整方法及裝置，其中，曝光距離調整方法包括：根據玻璃基板厚度，設定探測器的探測范圍，若所需的目標曝光間距處于探測范圍外，設定處于探測范圍內的中介曝光間距。并在控制探測器依據探測范圍探測曝光距離的過程中，控制曝光機調整曝光距離，直至探測器探測到的曝光距離達到中介曝光間距。再根據目標曝光間距與中介曝光間距的差值，繼續控制曝光機調整曝光距離，以使調整后的曝光距離達到目標曝光間距。因此，可以通過設定排除玻璃厚度干擾波的探測范圍，避免了探測器宕機情況的出現，從而實現了薄玻璃基板情況下的曝光距離調整。解決了現有技術中接近式曝光機難以完成薄玻璃基板的曝光工藝的技術問題。

技術領域

本發明涉及顯示面板制造技術領域，尤其涉及一種曝光距離調整方法及裝置。

背景技術

在液晶顯示器、觸摸屏制造等領域的曝光工藝制程中，通常會使用接近式曝光機。在使用接近式曝光機時，設備對掩膜版與玻璃基板之間的曝光距離的探測成為關鍵。目前常用的曝光距離探測器是分光干涉式探測器，該探測器位于與玻璃基板垂直的位置，通過接收反射光進行分光光譜分析，從而測出曝光距離。

然而，隨著玻璃基板的輕薄化，在生產中若使用薄玻璃基板，分光干涉式探測器發射的探測波在玻璃基板處形成的干擾波的波形位置，將落入分光干涉式探測器的探測范圍內，從而嚴重影響探測器對曝光距離的探測，導致曝光機無法生產。即目前的接近式曝光機難以完成薄玻璃基板的曝光工藝，造成一定的生產局限性。

發明內容

本發明旨在至少在一定程度上解決相關技術中的技術問題之一。

為此，本發明的第一個目的在于提出一種曝光距離調整方法，以解決現有技術中玻璃基板厚度限制接近式曝光機使用的問題。

本發明的第二個目的在于提出一種曝光距離調整裝置。

本發明的第三個目的在于提出另一種曝光距離調整裝置。

本發明的第四個目的在于提出一種非臨時性計算機可讀存儲介質。

本發明的第五個目的在于提出一種計算機程序產品。

為達上述目的，本發明第一方面實施例提出了一種曝光距離調整方法，包括以下步驟：

根據玻璃基板厚度，設定探測器的探測范圍；其中，所述玻璃基板厚度對應的干擾位置處于所述探測范圍外；

在目標曝光間距處于所述探測范圍外的狀態下，設定處于所述探測范圍內的中介曝光間距；

在控制所述探測器依據所述探測范圍探測曝光距離的過程中，控制曝光機調整所述曝光距離，直至所述探測器探測到的曝光距離達到所述中介曝光間距；所述曝光距離為所述玻璃基板與掩膜版之間的距離；

根據所述目標曝光間距與所述中介曝光間距的差值，繼續控制所述曝光機調整所述曝光距離，以使調整后的曝光距離達到所述目標曝光間距。

作為本發明第一方面的第一種可能的實現方式，所述根據玻璃基板厚度，設定探測范圍，包括：

根據玻璃基板厚度，確定玻璃厚度干擾波所在干擾位置；

根據所述干擾位置，設定探測范圍，所述干擾位置處于所述探測范圍外。

作為本發明第一方面的第二種可能的實現方式，所述根據玻璃基板厚度，確定玻璃厚度干擾波所在干擾位置，包括：

采用公式P＝d×n，代入玻璃基板厚度d和玻璃基板的折射率n，計算得到玻璃厚度干擾波所在干擾位置P。

作為本發明第一方面的第三種可能的實現方式，所述在控制所述探測器依據所述探測范圍探測曝光距離的過程中，控制曝光機調整所述曝光距離，直至所述探測器探測到的曝光距離達到所述中介曝光間距，包括：