[發明專利]一種曝光距離調整方法及裝置

有效

• 申請號: 201710596794.6
• 申請日: 2017-07-20
• 公開（公告）號: CN107315322B
• 公開（公告）日: 2018-09-07
• 發明（設計）人: 王輝;王志強;郭光龍;唐星;廖務義
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 張潤

1.一種曝光距離調整方法，其特征在于，包括以下步驟：

根據玻璃基板厚度，設定探測器的探測范圍；其中，所述玻璃基板厚度對應的干擾位置處于所述探測范圍外；

在目標曝光間距處于所述探測范圍外的狀態下，設定處于所述探測范圍內的中介曝光間距；

在控制所述探測器依據所述探測范圍探測曝光距離的過程中，控制曝光機調整所述曝光距離，直至所述探測器探測到的所述曝光距離達到所述中介曝光間距；所述曝光距離為所述玻璃基板與掩膜版之間的距離；

根據所述目標曝光間距與所述中介曝光間距的差值，繼續控制所述曝光機調整所述曝光距離，以使調整后的所述曝光距離達到所述目標曝光間距。

2.根據權利要求1所述的曝光距離調整方法，其特征在于，所述根據玻璃基板厚度，設定探測范圍，包括：

根據玻璃基板厚度，確定玻璃厚度干擾波所在干擾位置；

根據所述干擾位置，設定探測范圍，所述干擾位置處于所述探測范圍外。

3.根據權利要求2所述的曝光距離調整方法，其特征在于，所述根據玻璃基板厚度，確定玻璃厚度干擾波所在干擾位置，包括：

采用公式P＝d×n，代入玻璃基板厚度d和玻璃基板的折射率n，計算得到玻璃厚度干擾波所在干擾位置P。

4.根據權利要求1所述的曝光距離調整方法，其特征在于，所述在控制所述探測器依據所述探測范圍探測曝光距離的過程中，控制曝光機調整所述曝光距離，直至所述探測器探測到的曝光距離達到所述中介曝光間距，包括：

控制所述探測器在所述探測范圍內，對所述玻璃基板與所述掩膜版之間的曝光距離進行探測；

控制所述曝光機的平臺帶動所述玻璃基板移動，直至所述探測器探測到的曝光距離為所述中介曝光間距時，控制所述平臺停止移動。

5.根據權利要求4所述的曝光距離調整方法，其特征在于，所述根據所述目標曝光間距與所述中介曝光間距的差值，繼續控制所述曝光機調整所述曝光距離，以使調整后的曝光距離達到所述目標曝光間距，包括：

計算所述目標曝光間距與所述中介曝光間距的差值；

控制所述平臺帶動所述玻璃基板移動，移動的距離符合所述差值，以使所述玻璃基板與掩膜版之間的曝光距離達到所述目標曝光間距。

6.根據權利要求1-5任一項所述的曝光距離調整方法，其特征在于，所述根據玻璃基板厚度，設定探測器的探測范圍之后，還包括：

若所需的目標曝光間距處于所述探測范圍內，在控制所述探測器依據所述探測范圍探測曝光距離的過程中，控制曝光機調整所述曝光距離，直至所述探測器探測到的曝光距離達到所述目標曝光間距。

7.一種曝光距離調整裝置，其特征在于，所述裝置包括：

第一設定模塊，用于根據玻璃基板厚度，設定探測器的探測范圍；其中，所述玻璃基板厚度對應的干擾位置處于所述探測范圍外；

第二設定模塊，用于在目標曝光間距處于所述探測范圍外的狀態下，設定處于所述探測范圍內的中介曝光間距；

第一控制模塊，用于在控制所述探測器依據所述探測范圍探測曝光距離的過程中，控制曝光機調整曝光距離，直至所述探測器探測到的曝光距離達到所述中介曝光間距；所述曝光距離為所述玻璃基板與掩膜版之間的距離；

第二控制模塊，用于根據所述目標曝光間距與所述中介曝光間距的差值，繼續控制所述曝光機調整所述曝光距離，以使調整后的曝光距離達到所述目標曝光間距。

8.根據權利要求7所述的曝光距離調整裝置，其特征在于，所述第一控制模塊，包括：

探測控制單元，用于控制所述探測器在所述探測范圍內，對所述玻璃基板與所述掩膜版之間的曝光距離進行探測；

移動控制單元，用于控制所述曝光機的平臺帶動所述玻璃基板移動，直至所述探測器探測到的曝光距離為所述中介曝光間距時，控制所述平臺停止移動。