[發明專利]一種塑料基材的表面處理工藝及塑料件

在審

• 申請號: 201710596433.1
• 申請日: 2017-07-20
• 公開（公告）號: CN107216477A
• 公開（公告）日: 2017-09-29
• 發明（設計）人: 雷小紅
• 申請（專利權）人: 華勤通訊技術有限公司
• 主分類號: C08J7/04
• 分類號: C08J7/04;C09D175/14;C09D7/12;B05D7/02;B05D7/00;B05D3/02;B05D3/06
• 代理公司: 上海弼興律師事務所31283
• 代理人: 薛琦,袁紅

技術領域

本發明涉及一種塑料基材的表面處理工藝及塑料件。

背景技術

目前，具有仿金屬及光啞同體效果的電子產品塑料件(如手機殼)的制備工藝為普通的NCVM(不導電電鍍)仿金屬工藝結合3D鐳雕工藝。雖然現有的工藝使塑料件獲得了較好的仿金屬及光啞同體效果，但是現有工藝需要5次噴涂+1次真鍍+1次鐳雕，工藝操作復雜，成本較高，主要表現為工序多、3D鐳雕的周期(cycletime)長導致的生產效率低、鐳雕設備較為昂貴等。另外，現有的工藝制得的塑料件良率低，行業直通率在60％左右。

因此，本領域亟需一種新的塑料基材表面處理工藝，進而用于制備具有仿金屬及光啞效果的塑料件，以克服現有工藝中存在的工藝操作復雜，工序多，需要使用3D鐳雕工藝，周期長，設備昂貴，生產效率低，成本高，和制得的塑料件良率低等技術問題。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是為了克服現有的具有仿金屬及光啞同體效果的塑料件的制備工藝中存在的工藝操作復雜，工序多，需要使用3D鐳雕工藝，周期長，設備昂貴，生產效率低，成本高，和制得的塑料件良率低等技術問題，而提供了一種塑料基材的表面處理工藝及塑料件。本發明的處理工藝僅需要3次噴涂+1次真鍍就可以制得具有仿金屬及光啞同體效果的塑料件，工序少；并且本發明的處理工藝可無需結合3D鐳雕工藝，成本低，生產效率大幅提高；另外，本發明的處理工藝制得的塑料件的行業直通率可高達80％，良率大幅提升。

本發明主要是通過以下技術方案解決上述技術問題的。

本發明提供了一種塑料基材的表面處理工藝，其包括下列步驟：

(1)在具有火花紋紋理的塑料基材表面上噴涂底漆，預熱，固化，得一底漆層；

(2)在所述的底漆層表面鍍上一金屬鍍層；

(3)在所述的金屬鍍層表面上噴涂中漆，預熱，固化，得一中漆層；

(4)在所述的中漆層表面上噴涂面漆，預熱，固化，得一面漆層。

步驟(1)中，所述的具有火花紋紋理的塑料基材的制備方法可采用本領域常規的制備方法進行制備。本發明優選放電加工處理工藝。本發明更優選下列方法，所述的方法包括下列步驟：采用電火花對塑料基材進行加工，使塑料基材中部形成火花紋紋理。本發明中，所述的火花紋紋理類似金屬噴砂。其中，所述的塑料基材可為本領域常規的塑料基材。所述的塑料基材的厚度可不作具體限定，根據塑料基材的厚度可根據最后制得的塑料件應用領域和產品(例如電視機、電腦或手機等)進行常規選擇。

步驟(1)中，所述的具有火花紋紋理的塑料基材中，所述的火花紋紋理的排列方式可為本領域常規的排列方式，連續或不連續。所述的火花紋的大小可不作具體限定，可根據具體產品的需要進行常規選擇，優選為21-24號火花紋。所述的火花紋紋理的深度可根據最后制得的塑料件應用領域和產品(例如電視機、電腦或手機等)進行常規選擇，例如，當最后制得的塑料件應用于手機殼上時，所述的火花紋紋理的深度優選為15μm-25μm。

步驟(1)中，所述的具有火花紋紋理的塑料基材的一面中，沒有火花紋紋理的區域，一般可經鏡面拋光處理，以達到鏡面高光效果。

步驟(1)中，所述的底漆可為本領域常規的底漆，優選光固化型UV底漆(即紫外線光固化底漆)，更優選購自深圳市賜彩化工科技有限公司、型號為D4012的底漆。

步驟(1)中，所述的預熱的方法和條件可為本領域底漆預熱常規的方法和條件。本發明優選為紅外輻射預熱的方法。所述的預熱的溫度優選50℃-60℃。所述的預熱的時間優選5-10分鐘。所述的固化的方法和條件可為本領域底漆固化常規的方法和條件。本發明優選紫外光固化的方法。所述的固化方法中的紫外光照射劑量優選控制在600-800mj/cm^2。所述的固化時間優選1分鐘～3分鐘。

步驟(1)中，所述的底漆層的厚度可根據最后制得的塑料件應用領域和產品(例如電視機、電腦或手機等)進行常規選擇，例如，當最后制得的塑料件應用于手機殼上時，所述的底漆層的厚度優選為2μm-4μm。所述的底漆的用量以最終所得底漆層的厚度計。

步驟(2)中，所述的金屬鍍層的制備方法可為本領域常規的制備方法，優選使用物理氣相沉積(PVD)的方法在所述的底漆層鍍上一金屬鍍層。所述的金屬鍍層中的金屬可為本領域常規的金屬，優選銦(優選純銦，即其HPLC純度在99.999％以上)或銦錫合金。所述的金屬鍍層的厚度為本領域金屬鍍層常規的厚度，優選為≤0.2μm。