[發(fā)明專利]用于連續(xù)制造光學(xué)級拋光工具的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710595340.7
• 申請日: 2017-07-20
• 公開（公告）號: CN107639555B
• 公開（公告）日: 2021-01-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: L·塞韋萊克;A·L·格德雷
• 申請（專利權(quán)）人: 德拉瑪爾索瓦拉股份有限公司
• 主分類號: B24D18/00
• 分類號: B24D18/00;B24B13/01
• 代理公司: 北京市中咨律師事務(wù)所 11247
• 代理人: 雷明;吳鵬

本發(fā)明涉及一種方法，該方法包括施加膠的步驟，該步驟包括使用移印機(jī)(35)實施步驟序列，在該步驟序列中將轉(zhuǎn)印墊(39A)從膠獲取位置驅(qū)動至其中該轉(zhuǎn)印墊(39A)的遠(yuǎn)側(cè)表面(43)與工具的一個構(gòu)件(12)的一個表面相接觸的施加位置，同時將另一轉(zhuǎn)印墊(38A)從膠獲取位置驅(qū)動至其中所述另一轉(zhuǎn)印墊(38A)的遠(yuǎn)側(cè)表面(43)與所述工具的另一構(gòu)件(13)的一個表面相接觸的施加位置，藉此同時將所述膠施加至所述一個構(gòu)件(12)的所述一個表面和所述另一構(gòu)件(13)的所述一個表面。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及用于表面如眼科透鏡、相機(jī)透鏡或用于觀察遠(yuǎn)處物體的儀器的透鏡的面或者半導(dǎo)體基材的面的光學(xué)級表面加工。

術(shù)語“表面加工”指針對于修改先前已成型的表面的狀態(tài)的任何操作。這種操作包括針對于修改(降低或增加)表面的粗糙度和/或減小其不平整度的拋光、研磨或打毛操作。

背景技術(shù)

已經(jīng)尤其由日本專利申請2000-317797、對應(yīng)于美國專利申請2005/0101235的法國專利申請2834662以及對應(yīng)于美國專利申請2008/0171502的法國專利申請2900356得知一種用于對光學(xué)表面進(jìn)行表面加工的工具，該工具包括：構(gòu)造成聯(lián)接至拋光機(jī)的基座、構(gòu)造成被壓靠在待加工的表面上的拋光墊和夾在基座與拋光墊之間的可彈性壓縮的本體，該本體和基座互相附接，并且該本體和拋光墊互相附接。

一般而言，基座形成或包括剛性支承件，并且拋光墊是柔性的。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明針對于一種用于制造這種拋光工具的方法，該方法實施起來簡單、方便并且經(jīng)濟(jì)，同時制造高品質(zhì)的拋光工具。

因此，本發(fā)明提供了一種用于連續(xù)制造光學(xué)級拋光工具的方法，所述拋光工具每個均包括構(gòu)造成聯(lián)接至拋光機(jī)的基座、構(gòu)造成被壓靠在待加工的表面上的拋光墊和附接至所述基座并且附接至所述拋光墊的可彈性壓縮的本體，其中所述本體夾在所述基座與所述拋光墊之間；所述方法針對每個所述工具包括將所述本體附接至所述基座的步驟和將所述本體附接至所述拋光墊的步驟；其特征在于，所述將所述本體附接至所述基座的步驟和所述將所述本體附接至所述拋光墊的步驟中的至少一者包括施加膠的步驟并且然后包括擠壓步驟，在該施加膠的步驟中將膠施加到一個構(gòu)件的一個表面上，在該擠壓步驟中將一個構(gòu)件的所述一個表面和另一構(gòu)件的一個表面彼此上下施加(貼附)，所述一個構(gòu)件和所述另一構(gòu)件為以下中的一者：所述基座和所述本體，所述本體和所述基座，所述本體和所述拋光墊，以及所述拋光墊和所述本體；

所述方法還包括：

-提供支承裝置的步驟，所述支承裝置包括構(gòu)造成用于接納所述一個構(gòu)件的支承件和構(gòu)造成用于接納所述另一構(gòu)件的另一支承件；

-提供移印機(jī)(pad printing machine)的步驟，所述移印機(jī)具有儲器、印版(cliché)、轉(zhuǎn)印墊和另一轉(zhuǎn)印墊；

-對所述儲器填充液體膠的步驟；

所述施加膠的步驟包括：

-將所述一個構(gòu)件放置入所述支承件中；

-將所述另一構(gòu)件放置入所述另一支承件中；以及