[發明專利]用于連續制造光學級拋光工具的方法有效
| 申請號: | 201710595340.7 | 申請日: | 2017-07-20 |
| 公開(公告)號: | CN107639555B | 公開(公告)日: | 2021-01-22 |
| 發明(設計)人: | L·塞韋萊克;A·L·格德雷 | 申請(專利權)人: | 德拉瑪爾索瓦拉股份有限公司 |
| 主分類號: | B24D18/00 | 分類號: | B24D18/00;B24B13/01 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務所 11247 | 代理人: | 雷明;吳鵬 |
| 地址: | 法國芒*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 連續 制造 光學 拋光 工具 方法 | ||
1.一種用于連續制造光學級拋光工具(10)的方法,每個拋光工具均包括構造成聯接到拋光機的基座(11)、構造成被壓靠在待加工的表面上的拋光墊(13)和附接至所述基座(11)并且附接至所述拋光墊(13)的可彈性壓縮的本體(12),其中所述本體(12)夾在所述基座(11)與所述拋光墊(13)之間;所述方法針對每個所述工具(10)包括將所述本體(12)附接至所述基座(11)的步驟和將所述本體(12)附接至所述拋光墊(13)的步驟;所述方法的特征在于,所述將所述本體(12)附接至所述基座(11)的步驟和所述將所述本體(12)附接至所述拋光墊(13)的步驟中的至少一者包括施加膠的步驟并且然后包括擠壓步驟,在該施加膠的步驟中將膠施加到一個構件的一個表面上,在該擠壓步驟中將一個構件的所述一個表面和另一構件的一個表面彼此上下施加,所述一個構件和所述另一構件為以下中的一者:所述基座(11)和所述本體(12),所述本體(12)和所述基座(11),所述本體(12)和所述拋光墊(13),以及所述拋光墊(13)和所述本體(12);
所述方法還包括:
-提供支承裝置(20)的步驟,所述支承裝置包括構造成用于接納所述一個構件的支承件(23A-23D,22A-22D)和構造成用于接納所述另一構件的另一支承件(23A-23D,22A-22D);
-提供移印機(35)的步驟,所述移印機具有儲器(36)、印版(37)、轉印墊(38A,39A,38B,39B)和另一轉印墊(38A,39A,38B,39B);
-向所述儲器(36)填充液體膠(40)的步驟;
所述施加膠的步驟包括:
-將所述一個構件放置入所述支承件中;
-將所述另一構件放置入所述另一支承件中;以及
-使用所述移印機(35)實施以下步驟序列:將所述儲器(36)和印版(37)相對于彼此從休止位置驅動至工作位置,在所述休止位置中所述儲器(36)在所述印版(37)的被蝕刻區域(42A,43A,42B,43B)上和所述印版(37)的另一被蝕刻區域(42A,43A,42B,43B)上,在所述工作位置中所述儲器(36)遠離所述被蝕刻區域和所述另一被蝕刻區域;然后同時地將所述轉印墊驅動至其中該轉印墊的遠側表面(43)與所述印版(37)的被蝕刻區域相接觸的獲取位置以及將所述另一轉印墊驅動至其中該另一轉印墊的遠側表面(43)與所述印版(37)的所述另一被蝕刻區域相接觸的獲取位置;然后同時地將所述轉印墊從該獲取位置驅動至其中所述轉印墊的遠側表面(43)與所述一個構件的所述一個表面相接觸的施加位置以及將所述另一轉印墊從該獲取位置驅動至其中所述另一轉印墊的遠側表面與所述另一構件的所述一個表面相接觸的施加位置,由此將所述膠同時地施加至所述一個構件的所述一個表面和所述另一構件的所述一個表面。
2.根據權利要求1所述的方法,其中,然后再次實施所述步驟序列至少一次,藉此將所述膠至少兩次施加到所述一個構件的所述一個表面上或所述另一構件的所述一個表面上。
3.根據權利要求2所述的方法,其中,所述膠是聚氨酯膠,所述步驟序列連續地實施三次。
4.根據權利要求2所述的方法,其中,所述膠是氯丁橡膠,所述步驟序列連續地實施四次。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的方法,其中,施加到一個構件的所述一個表面上的所述膠在轉印墊離開所述施加位置的每個時刻與轉印墊到達所述施加位置的連續時刻之間暴露于空氣2-4秒的時間。
6.根據權利要求1至4中任一項所述的方法,其中,所述轉印墊和所述另一轉印墊安裝在一板(44)上,該轉印墊和該另一轉印墊通過該板被驅動。
7.根據權利要求1至4中任一項所述的方法,其中,所述轉印墊和所述另一轉印墊相對于彼此的布置與所述被蝕刻區域和所述另一被蝕刻區域相對于彼此的布置相同。
8.根據權利要求1至4中任一項所述的方法,其中,所述轉印墊和所述另一轉印墊相對于彼此的布置與所述支承件和所述另一支承件相對于彼此的布置相同。
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