[發明專利]超淺液層種植裝置

在審

• 申請號: 201710591214.4
• 申請日: 2017-07-19
• 公開（公告）號: CN107155862A
• 公開（公告）日: 2017-09-15
• 發明（設計）人: 董沛;高豐;馬昆鵬;何偉
• 申請（專利權）人: 卒子科技（深圳）有限公司
• 主分類號: A01G31/06
• 分類號: A01G31/06
• 代理公司: 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙)11371
• 代理人: 史明罡

技術領域

本發明涉及植物種植技術領域，具體而言，涉及超淺液層種植裝置。

背景技術

無土栽培是當今世界上最先進的栽培技術，由于無土栽培比有土栽培具有許多優點，因此近幾年來無土栽培面積發展呈直線上升趨勢。無土栽培中用人工配制的營養液，供給植物礦物營養的需要。無土栽培是一種不用天然土壤而采用含有植物生長發育必需元素的營養液來提供營養，使植物正常完成整個生命周期的栽培技術。

無土栽培可使植株生長迅速、健壯，開花多而早、大而香，且抗寒耐暑，病蟲害少。很多作物，例如大豆、菜豆、豌豆、小麥、水稻、燕麥、甜菜、甘藍、番茄、黃瓜等，無土栽培的產量都比土壤栽培的高。

一般無土栽培的類型包括固體基質培和非固體基質培。非固體基質培包括水培和霧培，而水培是指植物根系直接與營養液接觸而不用基質的栽培方法，包括深液流技術和淺液流技術。

目前采用比較多的無土栽培技術包括霧培、深液流技術和淺液流技術。即使在淺液流技術中，營養液的深度也要求4.0cm以上，并且在現有技術中，認為如果低于4.0cm，可能吸收不到足夠的營養，不利于植物的生長。

發明內容

為了克服現有技術的不足，本發明提供了超淺液層種植裝置。具體地，其技術方案如下：

一種超淺液層種植裝置，包括：

栽培裝置，所述栽培裝置的上壁按照預設的規則設置有多個植物定植孔，所述栽培裝置的內腔的水位深度被配置為0.3cm-1.5cm；

支架組件，用于安裝所述栽培裝置；

營養液供給系統，用于給所述栽培裝置提供營養液。

作為對技術方案的改進，所述栽培裝置為由栽培槽和定植板連接而成的封閉結構，所述植物定植孔貫穿所述定植板，所述定植板和所述栽培槽二者之一設置有栽培槽堵頭，所述栽培槽堵頭通過管路連通所述營養液供給系統。

作為對技術方案的改進，所述栽培裝置包括用于種植幼苗的幼苗期栽培裝置和用于種植成熟植物的成熟期栽培裝置，所述幼苗期栽培裝置上各所述植物定植孔之間的間距小于所述成熟期栽培裝置上各所述植物定植孔之間的間距。

作為對技術方案的改進，所述成熟期栽培裝置設置在所述幼苗期栽培裝置的下方，所述支架組件包括下支架和上支架，所述下支架設置在所述成熟期栽培裝置的下方，所述上支架的底部與所述下支架固定，所述上支架的頂部與所述幼苗期栽培裝置固定。

作為對技術方案的改進，所述成熟期栽培裝置的數量為多個并用連接堵頭連接，各所述成熟期栽培裝置并排連續設置，且各所述成熟期栽培裝置高度按照大于等于70:1到小于等于50:1的坡度設置。

作為對技術方案的改進，所述幼苗期栽培裝置的數量為多個并用連接堵頭連接，各所述幼苗期栽培裝置并排間隔設置，且各所述幼苗期栽培裝置高度按照大于等于70:1到小于等于50:1的坡度設置。

作為對技術方案的改進，所述栽培槽的內腔的水位深度被配置為0.5cm-1.0cm。

作為對技術方案的改進，營養液供液循環時間設置為每1小時一次循環，供液時間為10分鐘到30分鐘，對應停滯時間為50分鐘到30分鐘。

作為對技術方案的改進，營養液供液期間液流的流速為：0.02米/秒-0.2米/秒。

作為對技術方案的改進，營養液供液期間液流的流量為：0.08升/秒-0.80升/秒。

本發明至少具有以下有益效果：

采用本發明的超淺液層種植裝置，由于根系與土壤隔離，可避免各種土傳病害，也無需進行土壤消毒，而且與深液流技術和淺液流技術相比，植物的生長更好。

利用超淺液層種植裝置不僅省水、省肥，而且種植的作物生長發育健壯、生長勢強、產量更高。

為使本發明的上述目的、特征和優點能更明顯易懂，下文特舉較佳實施例，并配合所附附圖，作詳細說明如下。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例的技術方案，下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹，應當理解，以下附圖僅示出了本發明的某些實施例，因此不應被看作是對范圍的限定，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他相關的附圖。

圖1示出了本發明實施例所提供的超淺液層種植裝置的第一示意圖；

圖2示出了本發明實施例所提供的超淺液層種植裝置的第二示意圖；

圖3示出了本發明實施例所提供的超淺液層種植裝置的第三示意圖；

圖4示出了本發明實施例所提供的定植板的第一示意圖；