[發明專利]超淺液層種植裝置

在審

• 申請號: 201710591214.4
• 申請日: 2017-07-19
• 公開（公告）號: CN107155862A
• 公開（公告）日: 2017-09-15
• 發明（設計）人: 董沛;高豐;馬昆鵬;何偉
• 申請（專利權）人: 卒子科技（深圳）有限公司
• 主分類號: A01G31/06
• 分類號: A01G31/06
• 代理公司: 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙)11371
• 代理人: 史明罡

1.一種超淺液層種植裝置，其特征在于，包括：

栽培裝置，所述栽培裝置的上壁按照預設的規則設置有多個植物定植孔，所述栽培裝置的內腔的水位深度被配置為0.3cm-1.5cm；

支架組件，用于安裝所述栽培裝置；

營養液供給系統，用于給所述栽培裝置提供營養液。

2.根據權利要求1所述的超淺液層種植裝置，其特征在于，所述栽培裝置為由栽培槽和定植板連接而成的封閉結構，所述植物定植孔貫穿所述定植板，所述定植板和所述栽培槽二者之一設置有栽培槽堵頭，所述栽培槽堵頭通過管路連通所述營養液供給系統。

3.根據權利要求2所述的超淺液層種植裝置，其特征在于，所述栽培裝置包括用于種植幼苗的幼苗期栽培裝置和用于種植成熟植物的成熟期栽培裝置，所述幼苗期栽培裝置上各所述植物定植孔之間的間距小于所述成熟期栽培裝置上各所述植物定植孔之間的間距。

4.根據權利要求3所述的超淺液層種植裝置，其特征在于，所述成熟期栽培裝置設置在所述幼苗期栽培裝置的下方，所述支架組件包括下支架和上支架，所述下支架設置在所述成熟期栽培裝置的下方，所述上支架的底部與所述下支架固定，所述上支架的頂部與所述幼苗期栽培裝置固定。

5.根據權利要求3所述的超淺液層種植裝置，其特征在于，所述成熟期栽培裝置的數量為多個并用連接堵頭連接，各所述成熟期栽培裝置并排連續設置，且各所述成熟期栽培裝置高度按照大于等于70:1到小于等于50:1的坡度設置。

6.根據權利要求3所述的超淺液層種植裝置，其特征在于，所述幼苗期栽培裝置的數量為多個并用連接堵頭連接，各所述幼苗期栽培裝置并排間隔設置，且各所述幼苗期栽培裝置高度按照大于等于70:1到小于等于50:1的坡度設置。

7.根據權利要求2所述的超淺液層種植裝置，其特征在于，所述栽培槽的內腔的水位深度被配置為0.5cm-1.0cm。

8.根據權利要求2所述的超淺液層種植裝置，其特征在于，營養液供液循環時間設置為每1小時一次循環，供液時間為10分鐘到30分鐘，對應停滯時間為50分鐘到30分鐘。

9.根據權利要求2所述的超淺液層種植裝置，其特征在于，營養液供液期間液流的流速為：0.02米/秒-0.2米/秒。

10.根據權利要求2所述的超淺液層種植裝置，其特征在于，營養液供液期間液流的流量為：0.08升/秒-0.80升/秒。