[發(fā)明專利]檢查設(shè)備和使用其的檢查方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710588656.3
• 申請日: 2017-07-18
• 公開（公告）號: CN108257886B
• 公開（公告）日: 2021-10-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 梁晶馥
• 申請（專利權(quán)）人: 樂金顯示有限公司
• 主分類號: H01L21/66
• 分類號: H01L21/66;H01L51/00
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 蔡勝有;譚天

1.一種檢查封裝層中的缺陷的方法，包括：

將光通過棱鏡照射至所述封裝層；

使用拍攝單元掃描所述封裝層的檢查區(qū)域；

由所述拍攝單元接收從所述封裝層反射的反射光；

將由所述拍攝單元接收的所述反射光轉(zhuǎn)換成光強(qiáng)度；

通過將所述封裝層的對應(yīng)于所述光強(qiáng)度的厚度與所述封裝層的預(yù)定厚度進(jìn)行比較來檢測所述封裝層的缺陷，

其中所述封裝層為透明膜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述方法還包括：

通過所述棱鏡將來自光源的光分開形成光譜；

通過鏡子將所分開的光朝向所述封裝層反射；以及

使來自所述封裝層的反射光通過所述鏡子。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中來自所述光源的光的波長在400nm至900nm的范圍內(nèi)。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中所述鏡子包括半反射鏡。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述拍攝單元包括線掃描相機(jī)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在掃描所述封裝層的不同的檢查區(qū)域的同時實(shí)施所述通過將所述封裝層的對應(yīng)于所述光強(qiáng)度的厚度與所述封裝層的預(yù)定厚度進(jìn)行比較來檢測所述封裝層的缺陷。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在有機(jī)發(fā)光面板的后處理之前執(zhí)行所述檢查方法。

8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中所述將光照射至所述封裝層還包括經(jīng)在所述鏡子上方或者下方的透鏡照射所述光。

9.一種用于檢查有機(jī)發(fā)光面板的封裝層中的缺陷的檢查設(shè)備，包括：

光學(xué)檢查單元，包括：

棱鏡，其構(gòu)造為將由光源發(fā)射的光分開形成光譜；

鏡子，其構(gòu)造為使所分開的光朝向所述封裝層反射；

拍攝單元，其構(gòu)造為接收從所述封裝層反射的反射光，并且將所述反射光轉(zhuǎn)換成光強(qiáng)度；以及

檢測單元，其構(gòu)造為通過將所述封裝層的對應(yīng)于所述光強(qiáng)度的厚度與所述封裝層的預(yù)定厚度進(jìn)行比較來檢測所述封裝層的缺陷，

其中所述封裝層為透明膜。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，其中從所述光源發(fā)射的所述光的波長在400nm至900nm的范圍內(nèi)。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，其中所述鏡子包括半反射鏡。

12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，其中所述鏡子包括角度調(diào)整單元。

13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，其中所述封裝層包括顆粒覆蓋層。

14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，其中所述拍攝單元包括線掃描相機(jī)并且顯示彩色圖像。

15.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，還包括：對準(zhǔn)相機(jī)，其構(gòu)造為使所述封裝層與所述光學(xué)檢查單元對準(zhǔn)。

16.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，還包括：自動調(diào)焦單元，其構(gòu)造為當(dāng)所述光學(xué)檢查單元沿著所述封裝層的檢查區(qū)域移動時，調(diào)整所述光學(xué)檢查單元相對于所述封裝層的焦點(diǎn)。

17.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，還包括：透鏡，其具有對應(yīng)于所述拍攝單元的像素數(shù)量的像素數(shù)量。

18.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，其中所述檢測單元將所述光強(qiáng)度轉(zhuǎn)換為所述封裝層的對應(yīng)于所述光強(qiáng)度的厚度。

19.根據(jù)權(quán)利要求9至18中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其中所述檢查設(shè)備設(shè)置在用于所述有機(jī)發(fā)光面板的后處理設(shè)備之前。