[發(fā)明專利]光掩模及顯示裝置的制造方法、光掩模基板的檢查方法及裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710585047.2
• 申請(qǐng)日: 2017-07-18
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107656420A
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-02-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 寺田壽美
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: HOYA株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F1/76
• 分類號(hào): G03F1/76;G03F1/84
• 代理公司: 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11127
• 代理人: 黃綸偉,歐陽(yáng)琴

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及適合于半導(dǎo)體裝置或顯示裝置的制造的光掩模，特別涉及在制造以液晶顯示裝置或有機(jī)EL(Electroluminescence，電致發(fā)光)顯示裝置等為代表的FPD(flat panel display)等的顯示裝置時(shí)適合使用的光掩模的制造方法、描畫裝置、顯示裝置的制造方法、光掩模基板的檢查方法、及光掩模基板的檢查裝置。

背景技術(shù)

在光掩模的領(lǐng)域中，期望提高根據(jù)所設(shè)計(jì)的造型而形成于光掩模基板的轉(zhuǎn)印用圖案的形成精度，進(jìn)一步提高所形成的轉(zhuǎn)印用圖案的檢查精度。

在專利文獻(xiàn)1中記載了這樣的光掩模的制造方法等，在使用形成有轉(zhuǎn)印用圖案的光掩模在被轉(zhuǎn)印體上轉(zhuǎn)印圖案時(shí)，能夠提高該圖案的坐標(biāo)精度。并且，在專利文獻(xiàn)1中記載了這樣的方法，特別是在光掩模的制造工序中將轉(zhuǎn)印用圖案的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)直接用于描畫數(shù)據(jù)進(jìn)行描畫時(shí)，描畫時(shí)的膜面(圖案形成面)的形狀與曝光時(shí)不同，因而得到校正后的描畫數(shù)據(jù)，以便消除不能在被轉(zhuǎn)印體上形成所設(shè)計(jì)的圖案的問(wèn)題。

【現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)】

【專利文獻(xiàn)】

【專利文獻(xiàn)1】日本特開(kāi)2010－134433號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的問(wèn)題

然而，在顯示裝置的制造中往往是利用具有基于想要得到的器件的設(shè)計(jì)的轉(zhuǎn)印用圖案的光掩模。作為器件，對(duì)于以智能電話或平板終端為代表的液晶顯示裝置和有機(jī)EL顯示裝置，要求明亮節(jié)能、動(dòng)作速度快、而且析像度較高的美麗圖像。因此，對(duì)于被用于上述用途的光掩模，新的技術(shù)課題對(duì)于本發(fā)明者們就更加突顯了。

為了清晰地表現(xiàn)微細(xì)的圖像，需要提高像素密度，現(xiàn)在又產(chǎn)生了進(jìn)一步提高像素密度的需求。因此，光掩模的轉(zhuǎn)印用圖案的造型存在微細(xì)化、高密度化的傾向。然而，包括顯示用器件在內(nèi)的眾多電子器件是通過(guò)形成有微細(xì)圖案的多個(gè)層(Layer)的層疊而立體地形成的。因此，這多個(gè)層中的坐標(biāo)精度的提高以及彼此坐標(biāo)的整合極為重要。即，如果各個(gè)層的圖案坐標(biāo)精度不能滿足所有規(guī)定的水準(zhǔn)，將引發(fā)在所完成的器件中不產(chǎn)生適當(dāng)?shù)膭?dòng)作等問(wèn)題。因此，存在對(duì)各個(gè)層要求的坐標(biāo)偏差的允許范圍日益減小的傾向。即，存在對(duì)為制造各個(gè)層而使用的光掩模的轉(zhuǎn)印用圖案所要求的坐標(biāo)精度的要求日益提高的傾向。

在光掩模的制造中使用在透明基板的第1主面(以下也稱為“膜面”)形成有薄膜和抗蝕劑膜的光掩模基板。另外，在光掩模的制造工序中對(duì)透明基板上的薄膜進(jìn)行圖案形成，作為具有期望的形狀的轉(zhuǎn)印用圖案。

在本說(shuō)明書中，“光掩模基板”是指以下列舉的透明基板、包括光掩模坯體、帶抗蝕劑光掩模坯體、光掩模中間體或者光掩模的基板。

(a)用于形成光掩模的透明基板。

(b)在上述透明基板上形成有薄膜(用于通過(guò)圖案加工來(lái)形成轉(zhuǎn)印用圖案的光學(xué)膜，且作為遮光膜或半透光膜等發(fā)揮作用的膜)的光掩模坯體。

(c)在上述薄膜上形成有抗蝕劑膜的帶抗蝕劑光掩模坯體。

(d)已經(jīng)具有薄膜圖案，進(jìn)一步進(jìn)行圖案加工用的或者進(jìn)一步層疊薄膜圖案用的光掩模中間體。

(e)所完成的光掩模。

另外，在本說(shuō)明書中，有時(shí)將光掩模基板簡(jiǎn)稱為“基板”。

在光掩模的制造工序中，例如在使用描畫裝置在帶抗蝕劑光掩模坯體即光掩模基板上描畫圖案時(shí)，將光掩模基板載置在水平的載臺(tái)上。此時(shí)，使光掩模基板的膜面朝上。并且，對(duì)構(gòu)成該膜面的抗蝕劑膜照射激光光束等能量束，而且使照射位置變化，由此描畫期望的圖案。

但是，在直接使用期望的轉(zhuǎn)印用圖案的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)作為描畫數(shù)據(jù)時(shí)，有時(shí)會(huì)產(chǎn)生問(wèn)題。其理由是如圖11(a)、(b)所示，支撐光掩模基板51的描畫裝置的載臺(tái)50的表面未必是理想的平面，并且光掩模基板51也未必僅具有理想的平面。載臺(tái)50的表面及光掩模基板51的兩個(gè)主面雖然都是精密加工的，但是在以面的平坦度的觀點(diǎn)觀察時(shí)，存在產(chǎn)生微小的凹凸的情況。另外，存在產(chǎn)生描畫裝置的載臺(tái)50的表面的凹凸、由于載臺(tái)50的表面和與其接觸的光掩模基板51的第2主面(以下也稱為“背面”)之間夾入異物而導(dǎo)致的基板的撓曲、光掩模基板51的背面的凹凸、光掩模基板51的厚度的偏差等情況。在這種情況下，如圖11(b)所示，被載置在載臺(tái)50上的光掩模基板51的上表面(即膜面)的形狀形成為具有以上這些變形因素累積而成的凹凸。并且，描畫頭52按照設(shè)計(jì)描畫數(shù)據(jù)W1對(duì)該狀態(tài)的光掩模基板51進(jìn)行圖案描畫。另外，在圖11中夸張地描畫出光掩模基板和載臺(tái)的變形。這對(duì)于其它附圖也一樣。