[發明專利]光掩模及顯示裝置的制造方法、光掩模基板的檢查方法及裝置

在審

• 申請號: 201710585047.2
• 申請日: 2017-07-18
• 公開（公告）號: CN107656420A
• 公開（公告）日: 2018-02-02
• 發明（設計）人: 寺田壽美
• 申請（專利權）人: HOYA株式會社
• 主分類號: G03F1/76
• 分類號: G03F1/76;G03F1/84
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司11127
• 代理人: 黃綸偉,歐陽琴

1.一種光掩模的制造方法，該光掩模在透明基板的第1主面具有基于設計描畫數據(W1)的轉印用圖案，其特征在于，所述光掩模的制造方法包括以下工序：

將在所述第1主面上層疊了薄膜和抗蝕劑膜的光掩模基板載置在描畫裝置的載臺上；

描畫工序，對所述光掩模基板進行描畫；以及

使用將所述抗蝕劑膜顯影而形成的抗蝕劑圖案，對所述薄膜進行圖案形成，

在所述描畫工序中，準備表示所述描畫裝置對所述光掩模基板的形狀帶來的變形量的描畫裝置固有數據(M1)、和表示所述光掩模基板的第2主面形狀的背面數據(S2)，將起因于所述描畫裝置固有數據(M1)及所述背面數據(S2)的坐標偏差合成量(D1)反映在所述設計描畫數據(W1)中，在所述光掩模基板上描畫轉印用圖案。

2.根據權利要求1所述的光掩模的制造方法，其特征在于，

在將與所述描畫裝置的載臺面平行的面設為XY平面、將與該XY平面垂直的軸設為Z軸時，

所述坐標偏差合成量(D1)是將基于所述描畫裝置固有數據(M1)和所述背面數據(S2)之合計而得的Z軸方向的高度變動數據(H1)變換成X軸方向及Y軸方向的坐標偏差量而成的。

3.根據權利要求1或2所述的光掩模的制造方法，其特征在于，

在所述描畫工序中，根據所述坐標偏差合成量(D1)校正待抵消所述坐標偏差的所述設計描畫數據(W1)而求出校正描畫數據(W2)，使用所述校正描畫數據(W2)進行描畫，以將所述坐標偏差合成量(D1)反映在所述設計描畫數據(W1)中。

4.根據權利要求1或2所述的光掩模的制造方法，其特征在于，

在所述描畫工序中，根據所述坐標偏差合成量(D1)校正待抵消所述坐標偏差的描畫裝置所具有的坐標系而求出校正坐標系，使用所述校正坐標系以及所述設計描畫數據(W1)進行描畫，以將所述坐標偏差合成量(D1)反映在所述設計描畫數據(W1)中。

5.一種光掩模的制造方法，該光掩模在透明基板的第1主面具有基于設計描畫數據(W1)的轉印用圖案，其特征在于，所述光掩模的制造方法包括以下工序：

將在所述第1主面上層疊了薄膜和抗蝕劑膜的光掩模基板載置在描畫裝置的載臺上；

描畫工序，對所述光掩模基板進行描畫；以及

使用將所述抗蝕劑膜顯影而形成的抗蝕劑圖案，對所述薄膜進行圖案形成，

在所述光掩模基板的背面的平坦度系數k1滿足-100nm≤k1≤100nm時，

在所述描畫工序中，準備表示所述描畫裝置對所述光掩模基板的形狀帶來的變形量的描畫裝置固有數據(M1)，將起因于所述描畫裝置固有數據(M1)的坐標偏差量(D2)反映在所述設計描畫數據(W1)中，在所述光掩模基板上描畫轉印用圖案。

6.一種光掩模的制造方法，該光掩模在透明基板的第1主面具有基于設計描畫數據(W1)的轉印用圖案，其特征在于，所述光掩模的制造方法包括以下工序：

將在所述第1主面上層疊了薄膜和抗蝕劑膜的光掩模基板載置在描畫裝置的載臺上；

描畫工序，對所述光掩模基板進行描畫；以及

使用將所述抗蝕劑膜顯影而形成的抗蝕劑圖案，對所述薄膜進行圖案形成，

在所述描畫裝置的載臺的平坦度系數k2滿足-100nm≤k2≤100nm時，

在所述描畫工序中，準備表示所述光掩模基板的第2主面形狀的背面數據(S2)，將起因于所述背面數據(S2)的坐標偏差量(D3)反映在所述設計描畫數據(W1)中，在所述光掩模基板上描畫轉印用圖案。