[發(fā)明專利]裸眼3D光柵及制備方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710575282.1
• 申請(qǐng)日: 2017-07-14
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107329278A
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-11-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 藍(lán)永貴;江濤;賈文;劉為樂(lè);翟健文;曹建強(qiáng)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 宜昌南玻顯示器件有限公司;中國(guó)南玻集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號(hào): G02B27/22
• 分類號(hào): G02B27/22;G02B5/18
• 代理公司: 宜昌市三峽專利事務(wù)所42103
• 代理人: 黎澤洲

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示器件領(lǐng)域，特別是涉及一種裸眼3D光柵及制備方法。

背景技術(shù)

中國(guó)專利文獻(xiàn)CN 104166240 A記載了一種裸眼 3D 顯示裝置，其中記載有采用光柵式 (barrier type) 裸眼 3D 顯示裝置的結(jié)構(gòu)。裸眼 3D 顯示裝置主要是利用雙眼視差的原理使人產(chǎn)生 3D 感覺(jué)，即通過(guò)對(duì)入射光的光路進(jìn)行調(diào)節(jié)，使人的左眼能夠接收到左眼影像，人的右眼能夠接收到右眼影像，且左眼影像和右眼影像不會(huì)互相串?dāng)_。

現(xiàn)有的裸眼3D光柵擋板為遮罩式結(jié)構(gòu)，制備過(guò)程中，采用各個(gè)功能光柵層分次制備的方案，各個(gè)光柵層之間的對(duì)位精度要求高，制備難度非常大。為了提高對(duì)位精度，需要采用低膨脹率的玻璃基板、低膨脹率的MASK（光罩）基板、高精度MASK，便于兩次制備3D光柵圖形間的套合、生產(chǎn)線對(duì)溫度精準(zhǔn)控制，要求玻璃基板的溫度變化要在0.5度以下。

例如CN 104345935 A中所述的觸控傳感器和包含此觸控傳感器的觸控面板及其制作方法中，記載了一種濺鍍方式形成的視差光柵層，利用濺鍍（Sputter）或蒸鍍的方式所形成的條狀圖案來(lái)做為其中的視差光柵，但該制備工藝的具體步驟未公開(kāi)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種裸眼3D光柵及制備方法，能夠降低裸眼3D光柵制備過(guò)程中的技術(shù)難度，能夠采用普通玻璃基板、普通的光罩基板和普通精度的光罩。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是：一種裸眼3D光柵，包括基層，在基層的一面設(shè)有低反射層，低反射層上方設(shè)有高反射層，至少高反射層為光柵結(jié)構(gòu)。

優(yōu)選的方案中，低反射層和高反射層為光柵結(jié)構(gòu)。

另一可選的方案中，一種裸眼3D光柵，在基層的一面設(shè)有高反射層，高反射層上方設(shè)有低反射層，高反射層和低反射層為光柵結(jié)構(gòu)。

優(yōu)選的方案中，所述的基層為玻璃基板或透明塑料基板。

優(yōu)選的方案中，所述的低反射層為氧化鉬層；所述的高反射層為鋁層或銀層。

優(yōu)選的方案中，由基層、低反射層和高反射層組成的光柵器件位于背光組件與陣列玻璃組件之間。

一種制備上述的裸眼3D光柵的制備方法，包括以下步驟：

一、在真空狀態(tài)下，在磁控濺射設(shè)備中，以Mo靶作為靶材，通入氧氣，在基層的一面以磁控反應(yīng)濺射工藝制備低反射層；

二、更換為Al靶或Ag靶作為靶材，通入氬氣，在低反射層的表面以磁控反應(yīng)濺射工藝制備高反射層；

三、刻蝕光柵；

通過(guò)以上步驟實(shí)現(xiàn)裸眼3D光柵的制備。

另一可選的方案中，一種制備上述的裸眼3D光柵的制備方法，包括以下步驟：一、在磁控濺射設(shè)備中，以Al靶或Ag靶作為靶材，通入氬氣，在基層的一面以磁控反應(yīng)濺射工藝制備高反射層；

二、更換為Mo靶作為靶材，通入氧氣，在高反射層的表面以磁控反應(yīng)濺射工藝制備低反射層；

三、刻蝕光柵；

通過(guò)以上步驟實(shí)現(xiàn)裸眼3D光柵的制備。

優(yōu)選的方案中，低反射層濺鍍的溫度條件為100~150℃；高反射層濺鍍的溫度條件為70~100℃。

優(yōu)選的方案中，所述的刻蝕方法采用黃光刻蝕，包括以下步驟：

s1、上光阻；

s2、用光罩曝光，光照條件為平行紫外線光線；光積量：50~150mj；

s3、顯影，顯影后檢測(cè)；

s4、以刻蝕液刻蝕；

s5、脫膜；

通過(guò)以上步驟實(shí)現(xiàn)光柵刻蝕。

本發(fā)明提供的一種裸眼3D光柵及制備方法，通過(guò)采用磁控反應(yīng)濺射鍍膜、配合黃光刻蝕的加工方案，能夠一次生產(chǎn)兩種反射屬性相反的膜層，其中低反射層的反射率小于20%以下，高反射層的反射率大于70%以上，一次完成裸眼3D光柵制備。本發(fā)明能夠采用更為廉價(jià)的普通玻璃基板，普通玻璃基板的光罩和普通精度的光罩，無(wú)需考慮兩次曝光的圖形的光罩套合問(wèn)題，并將制備工序減少一道，有效降低了裸眼3D光柵的制備難度。

附圖說(shuō)明

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明：

圖1為本發(fā)明中裸眼3D光柵的原理圖。

圖2為本發(fā)明中另一種裸眼3D光柵的原理圖。

圖3為本發(fā)明中裸眼3D光柵的局部放大圖。

圖4為本發(fā)明中另一種結(jié)構(gòu)的裸眼3D光柵的局部放大圖。

圖5為本發(fā)明的工藝流程圖。