[發(fā)明專利]真空沉積腔室有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710574813.5 | 申請日: | 2014-11-07 |
| 公開(公告)號: | CN107502858B | 公開(公告)日: | 2020-06-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 斯蒂芬·班格特;安德烈亞斯·勒普;托馬斯·格比利;烏韋·許斯勒;喬斯·曼紐爾·迭格斯-坎波 | 申請(專利權(quán))人: | 應(yīng)用材料公司 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12 |
| 代理公司: | 北京律誠同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金國;趙靜 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 真空 沉積 | ||
描述一種真空沉積腔室。所述真空沉積腔室包括:材料沉積設(shè)備,具有分配管道;以及基板支撐件,用于在沉積期間支撐基板,其中所述材料沉積設(shè)備的至少一個(gè)分配管道與所述基板支撐件之間的距離小于250mm。
本申請是申請日為2014年11月7日、申請?zhí)枮?01480083241.5、發(fā)明名稱為“用于沉積已蒸發(fā)的材料的分配管道、真空沉積腔室和方法以及用于沉積已蒸發(fā)的材料的設(shè)備”的發(fā)明專利申請的分案申請。
技術(shù)領(lǐng)域
實(shí)施方式涉及一種材料沉積布置、一種用于材料沉積布置的分配管道、一種具有材料沉積布置的沉積設(shè)備、以及一種用于將材料沉積在基板上的方法。實(shí)施方式尤其涉及一種用于真空沉積腔室的材料沉積布置、一種具有材料沉積布置的真空沉積設(shè)備、以及一種用于在真空沉積腔室中將材料沉積在基板上的方法。
背景技術(shù)
有機(jī)蒸發(fā)器為用于生產(chǎn)有機(jī)發(fā)光二極管(organic light-emitting diodes,OLED)的工具。OLED為一種特別類型的發(fā)光二極管,在OLED中,發(fā)射層包括特定有機(jī)化合物薄膜。有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)用于制造顯示信息的電視屏幕、計(jì)算機(jī)顯示器、手機(jī)、其他手持裝置等。OLED也可用于一般空間照明。OLED顯示器的可能顏色、亮度和視角的范圍比傳統(tǒng)液晶顯示器(LCD)大,因?yàn)镺LED像素直接發(fā)光而非使用背光。因此,OLED顯示器的能量損耗顯著小于傳統(tǒng)液晶顯示器的能量損耗。另外,可將OLED制造在柔性基板上,這一事實(shí)產(chǎn)生更多應(yīng)用。典型OLED顯示器,舉例而言,可在兩個(gè)電極之間包括有機(jī)材料層,這些有機(jī)材料層全部沉積于基板上,使得形成具有可單獨(dú)激勵(lì)的像素的矩陣顯示面板。OLED一般置于兩個(gè)玻璃面板之間,并且玻璃面板邊緣被密封以封裝OLED于玻璃面板中。
制造這種顯示裝置面臨許多挑戰(zhàn)。OLED顯示器或OLED發(fā)光應(yīng)用包括例如在真空中蒸發(fā)的一些有機(jī)材料的堆疊。有機(jī)材料經(jīng)由遮蔽掩模(shadow mask)以接續(xù)的方式沉積。為了高效制造OLED堆疊,需要兩種或更多種材料(例如為主體(host)和摻雜劑)共沉積或共蒸發(fā)成混合/摻雜層。另外,必須考慮蒸發(fā)非常敏感的有機(jī)材料的若干工藝條件。
為了沉積材料于基板上,加熱材料直到材料蒸發(fā)。另外,例如,為了保持已蒸發(fā)的材料處于控制溫度或避免已蒸發(fā)的材料在管道中冷凝,可以加熱將材料引導(dǎo)到基板的管道。當(dāng)材料蒸發(fā)時(shí),例如通過穿過具有用于已蒸發(fā)的材料的出口或噴嘴的分配管道,將材料引導(dǎo)到基板。在過去數(shù)年中,沉積工藝的準(zhǔn)確性已經(jīng)提高,例如能夠提供越來越小像素尺寸。然而,掩模遮蔽效應(yīng)、對已蒸發(fā)的材料的散布等等使得蒸發(fā)工藝的準(zhǔn)確性和預(yù)測性難以進(jìn)一步的提高。
鑒于上述,本文所述實(shí)施方式的目的是提供一種材料沉積布置、一種真空沉積腔室、一種分配管道、以及一種用于將材料沉積在基板上的方法,所述方法克服本領(lǐng)域的至少一些問題。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述,提供根據(jù)獨(dú)立權(quán)利要求的用于將材料沉積在基板上材料沉積布置、沉積腔室、分配管道,以及用于將材料沉積在基板上的方法。實(shí)施方式的其他方面、優(yōu)點(diǎn)和特征將從從屬權(quán)利要求、說明書和附圖顯而易見。
根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式,提供一種用于在真空腔室中將已蒸發(fā)的材料沉積在基板上的材料沉積布置,已蒸發(fā)的材料具體地是兩種或更多種已蒸發(fā)的材料。材料沉積布置包括:第一材料源,包括第一材料蒸發(fā)器,第一材料蒸發(fā)器被配置為用于蒸發(fā)將沉積于基板上的第一材料,具體地是有上述兩種或更多種材料的第一材料;第一分配管道,包括第一分配管道殼體,其中第一分配管道與第一材料蒸發(fā)器流體連通;以及多個(gè)第一噴嘴,在第一分配管道殼體中,其中多個(gè)第一噴嘴中的一或多個(gè)噴嘴包括開口長度和開口尺寸,其中這些多個(gè)第一噴嘴中的一或多個(gè)噴嘴的長度對尺寸比等于或大于2:1。材料沉積布置進(jìn)一步包括:第二材料源,包括第二材料蒸發(fā)器,第二材料蒸發(fā)器被配置為用于蒸發(fā)將沉積于基板上的第二材料,具體地是有上述兩種或更多種材料的第二材料;第二分配管道,包括第二分配管道殼體,其中第二分配管道與第二材料蒸發(fā)器流體連通;以及多個(gè)第二噴嘴,在第二分配管道殼體中。多個(gè)第一噴嘴中的第一噴嘴與多個(gè)第二噴嘴中的第二噴嘴之間的距離等于或小于30mm。
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C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
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C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





