[發明專利]研磨基板的表面的裝置和方法

有效

• 申請號: 201710570004.7
• 申請日: 2017-07-13
• 公開（公告）號: CN107627201B
• 公開（公告）日: 2020-07-03
• 發明（設計）人: 石井游;中西正行;內山圭介
• 申請（專利權）人: 株式會社荏原制作所
• 主分類號: B24B37/013
• 分類號: B24B37/013;B24B37/04
• 代理公司: 上海華誠知識產權代理有限公司 31300
• 代理人: 肖華

1.一種研磨基板的表面的裝置，其特征在于，該裝置具有：

基板保持部，該基板保持部保持基板，并使該基板圍繞所述基板保持部的軸心旋轉；以及

研磨頭，該研磨頭使研磨器的研磨表面具與所述基板的第一面滑動接觸而研磨該第一面，

所述基板保持部具有：能夠與所述基板的周緣部接觸的多個輥；以及

輥旋轉機構，該輥旋轉機構使所述多個輥以各輥的軸心為中心旋轉，

所述多個輥構成為能夠以各輥的軸心為中心旋轉，

其中，從所述研磨頭的軸心到所述研磨器具的所述研磨表面的最外側的緣部為止的距離與從所述基板保持部的軸心到所述研磨頭的軸心為止的距離的總合比所述基板的半徑長。

2.根據權利要求1所述的研磨基板的表面的裝置，其特征在于，

該裝置還具有基板支承臺，該基板支承臺對所述基板的與所述第一面相反的一側的第二面進行支承。

3.根據權利要求1所述的研磨基板的表面的裝置，其特征在于，該裝置還具有：

沖洗液供給噴嘴，該沖洗液供給噴嘴向所述基板的第一面供給沖洗液；

微粒計數器，該微粒計數器對供給到所述基板的第一面的所述沖洗液進行收集，并測量該沖洗液中包含的粒子的數量；以及

動作控制部，該動作控制部根據所述粒子的數量來決定所述基板的第一面的研磨終點。

4.根據權利要求3所述的研磨基板的表面的裝置，其特征在于，

所述研磨終點是所述粒子的數量比閾值低的點。

5.一種研磨基板的表面的方法，其特征在于，

通過一邊使多個輥與基板的周緣部接觸，一邊使所述多個輥以各自的軸心為中心旋轉，從而使所述基板圍繞基板保持部的軸心旋轉，所述基板保持部具有多個輥以及輥旋轉機構，該輥旋轉機構使所述多個輥以各輥的軸心為中心旋轉；并且

使研磨器具的研磨表面與所述基板的第一面滑動接觸而研磨該第一面，所述研磨器具由研磨頭保持，

其中，從所述研磨頭的軸心到所述研磨器具的所述研磨表面的最外側的緣部為止的距離與從所述基板保持部的軸心到所述研磨頭的軸心為止的距離的總合比所述基板的半徑長。

6.根據權利要求5所述的研磨基板的表面的方法，其特征在于，

在研磨所述基板的第一面時，所述研磨器具的所述研磨表面的一部分從所述基板的周緣部突出。

7.根據權利要求5所述的研磨基板的表面的方法，其特征在于，

在所述基板的第一面的研磨中，對所述基板的與所述第一面相反的一側的第二面進行支承。

8.根據權利要求5所述的研磨基板的表面的方法，其特征在于，

研磨所述第一面的工序是一邊對所述基板的第一面供給沖洗液，一邊使所述研磨器具的所述研磨表面與所述基板的第一面滑動接觸而研磨該第一面的工序，

該方法還包含如下的工序：

對供給到所述基板的第一面的所述沖洗液進行收集；

測量該沖洗液中包含的粒子的數量；以及

根據所述粒子的數量來決定所述基板的第一面的研磨終點。

9.根據權利要求8所述的研磨基板的表面的方法，其特征在于，

所述研磨終點是所述粒子的數量比閾值低的點。