[發明專利]光罩修補裝置、光罩修補方法及光罩修補液有效
| 申請號: | 201710559556.8 | 申請日: | 2017-07-11 |
| 公開(公告)號: | CN107315317B | 公開(公告)日: | 2020-11-27 |
| 發明(設計)人: | 宋江江 | 申請(專利權)人: | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/72 | 分類號: | G03F1/72 |
| 代理公司: | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫;熊永強 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 修補 裝置 方法 | ||
1.一種光罩修補裝置,所述光罩修補裝置用于修補帶有孔洞的光罩,其特征在于,所述光罩修補裝置包括:修補液存儲器、導管和電磁裝置,所述修補液存儲器用于存儲光罩修補液,其中,所述光罩修補液包括電磁材料,所述電磁材料具有磁性且吸收紫外光,所述導管的一端連接所述修補液存儲器,另一端開口,用于將所述修補液存儲器中存儲的光罩修補液導出,所述電磁裝置用于提供高頻交變電磁場,所述高頻交變電磁場為高頻電磁場且為交變電磁場,所述電磁裝置為環形,環繞所述導管設置,所述光罩修補液中的電磁材料在所述高頻交變電磁場的作用下震蕩運動,從而降低所述光罩修補液的粘度,以便所述光罩修補液從所述導管中流出。
2.如權利要求1所述的光罩修補裝置,其特征在于,所述導管對應設置于所述環形的電磁裝置的中心設置。
3.如權利要求1所述的光罩修補裝置,其特征在于,所述光罩修補裝置還包括加熱裝置,所述加熱裝置用于加熱滴注到所述孔洞上的光罩修補液預設時間,以使得所述光罩孔洞上的光罩修補液干燥定型固化。
4.如權利要求1所述的光罩修補裝置,其特征在于,所述光罩修補裝置還包括移動裝置,所述移動裝置用于帶動所述導管移動,以將所述光罩修補液滴注到所述光罩的孔洞中。
5.一種光罩修補方法,應用于光罩修補裝置中,用于修補光罩的孔洞,其特征在于,所述光罩修補方法包括:
將光罩修補液裝入光罩修補裝置中的修補液存儲器中,其中,所述光罩修補液包括電磁材料,所述電磁材料具有磁性且吸收紫外光;
光照修補裝置中的電磁裝置提供高頻交變電磁場給所述光罩修補液,所述高頻交變電磁場為高頻電磁場且為交變電磁場,所述高頻交變電磁場用于使得光罩修補液中的電磁材料震蕩運動,以降低所述光罩修補液的粘度,其中,所述電磁裝置為環形,環繞與修補液存儲器相連通的導管設置;
將粘度降低后的光罩修補液通過與修補液存儲器相連通的導管滴注到光罩的孔洞上;
加熱滴注到所述孔洞上的光罩修補液預設時間,以使得所述光罩孔洞上的光罩修補液干燥定型固化。
6.如權利要求5所述的光罩修補方法,其特征在于,所述光罩修補方法還包括:
移動所述光罩修補裝置中的導管,以將所述光罩修補液滴注到所述光罩的孔洞中,其中,所述導管與所述修補液存儲器相連通,用于將所述修補液存儲器中存儲的光罩修補液導出。
7.如權利要求5所述的光罩修補方法,其特征在于,步驟“加熱滴注到所述孔洞上的光罩修補液預設時間,以使得所述光罩孔洞上的光罩修補液干燥定型固化”包括:
采用溫度范圍為400°C~450°C的溫度加熱滴注到所述孔洞上的光罩修補液60秒~90秒,以使得所述光罩孔洞上的光罩修補液干燥定型固化。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





